JP2006108704A - 誘電層を備えた超小型電子リード構造体 - Google Patents
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Abstract
【課題】電気的特性を良好に制御でき、狭い間隔での接合が可能なリード構造体を提供する。
【解決手段】支持構造体10と、1つ以上の柔軟なリード36とを備え、該各リードは前記支持構造体に取着された第1の端部38と該第1の端部から離隔した第2の端部とを有し、各リードは反対方向を向く上面16および底面18を有する重合体ストリップ41と、前記面の一方に配置された第1の金属層48と他方の面に配置された第2の金属層50を含み、前記第1、第2の導電層は厚さが10ミクロン未満である超小形電子接続構成素子。
【選択図】図4
【解決手段】支持構造体10と、1つ以上の柔軟なリード36とを備え、該各リードは前記支持構造体に取着された第1の端部38と該第1の端部から離隔した第2の端部とを有し、各リードは反対方向を向く上面16および底面18を有する重合体ストリップ41と、前記面の一方に配置された第1の金属層48と他方の面に配置された第2の金属層50を含み、前記第1、第2の導電層は厚さが10ミクロン未満である超小形電子接続構成素子。
【選択図】図4
Description
本願は、1995年9月18日付で出願された米国仮特許出願第60/003,927号の特典を主張するものであり、本明細書においてはこの出願を引用してその説明に代える。
本発明は、半導体チップのような超小形電子素子の取着および接続に使用する構成素子および方法に関する。
半導体チップその他の超小形電子素子は、一般に、支持基板即ち回路板の回路のような外部回路に接続しなければならない接点を有している。かかる接続を行うための種々の処理および構成素子が、これまでに提供されてきた。例えば、ワイヤボンディング集成体では、チップは基板に物理的に取着され、かつ、個々の細いワイヤはチップの接点と基板の接点パッドとの間に接続される。テープ自動化ボンディング法即ち「TAB」法においては、ポリマの薄いフォイルのような誘電支持テープに、チップよりもわずかに大きい孔が設けられる。金属リードのアレイが、誘電テープの一方の面に配設される。これらのリードは、各リードの内端部が孔の縁部を越えて内方に突出するように孔の周囲から内方へ延びている。これらの端部は、チップの接点の間隔と対応する間隔で並列配置されている。リードの内端部はチップの接点パッドにボンディング即ち結合され、一方、リードの外端部は基板の接点パッドに取着される。「ビームリード」法においては、チップには、チップの接点からチップの縁部を越えて外方に延びるリードが配設される。チップは、リードの外端部が基板の適宜の接点パッド上に位置しかつリードが接点パッドに結合されるように基板に配置される。
半導体技術の急速な進歩により、所定のスペースに配置される接点およびリードの数をますます多くする必要性に迫られている。個々のチップには、数百あるいは数千の接点とリードが必要ともなっている。例えば、現在実施されている複雑な半導体チップは、0.5mm以下の中心間距離で互いに離隔して配置された複数列の接点を有する場合がある。かかる距離は、半導体技術のたゆまぬ進歩とともに次第に短くなっている。接点がこのように接近して離隔配置されると、ワイヤボンディング法におけるワイヤのような、チップ接点に接続されるリードと、TABおよびビームリード法において使用されるリードは、典型的には、幅が0.1mm以下というように極めて微細な構造にしなければならない。かかる微細構造は、製造の際に損傷と変形を受け易い。ボンディング処理の際の、意図する位置からのリードのずれが小さい場合でも、最終集成体に欠陥が生ずることになる。
例えば、米国特許第5,489,749号および第5,536,909号並びに1994年2月3日に公開されたPCT公開国際出願第94/03036号に開示されているように、半導体チップを装着する構成素子には、1つ以上のギャップと該ギャップを介して延びる1つ以上のリードとを画成する重合体フィルムのような支持構造体を有するものがある。支持構造体は、多くの場合、端子を有している。各リードは、ギャップの一方の側で支持構造体に固定して取着された第1の端部と、第1の端部から離隔した第2の端部とを有する接続部を備えている。リード接続部の第1の端部は一般には、端子に接続される。各接続部の第2の端部は、ギャップの反対側に取り外し自在に取着することができる。例えば、各リードは、接続部の第2の端部を支持構造体に接続する脆弱な部分を有する場合がある。このように、各リードは、支持構造体においてギャップを跨いでいる。リードは、接続構成部素子がチップと並列配置される場合に、各リードがチップの連係する接点に対して所望の位置にまたは該位置に近接するように、適正な配向をもって保持される。次に、各リードは、ギャップに入り込んで各リードをチップの適宜の接点と係合させるように下方に付勢するボンディングツールと係合される。好ましくは、各リードは、この動作の際にボンディングツールによりガイドされる。各リードは両端が支持されるので、リードはボンディング処理前は所定の位置に保持される。リードがチップの接点に結合されると、支持構造体の端子はチップに電気的に接続される。かくして、チップは、端子をより大きな基板にはんだ結合するなどして、支持構造体の端子をこのより大きな基板に取着することにより外部の回路に接続することができる。結合されたリードは、チップの接点と端子との間に柔軟な相互結合を提供することにより、チップと基板の熱膨張および熱収縮を補償することができる。'749および'909特許並びに'036国際公開に開示されている構成素子およびボンディング方法は、凹凸のあるコンパクトで経済的なチップ実装を提供するとともに、数多くの利点を発揮することができる。かかるチップ実装に対する更なる改善と向上が、米国特許第5,398,863号および米国特許第5,491,302号に開示されており、本明細書においてはこれらの特許を引用してその説明に代える。'794特許および'036公開に係るリードの取付において有用なボンディングツールが、米国特許第5,390,844号に開示されており、本明細書においてはこの特許を引用してその説明に代える。
上記した特許および公開に従って形成されるリードの接続部は、最も典型的には、銅、金、白金、ニッケル、アルミニウム、銀およびこれらの金属の合金のような金属からつくられる。多重金属層の組み合わせも使用することができる。'749特許および'909特許にはまた、支持構造体と一体的に形成された重合体ストリップのような重合体ストリップをリードにおいて使用する技術が開示されている。かくして、重合体ストリップは、1つ以上の金属層とともに、リード構造体の一部として作用する。これらの特許に開示されているある実施の形態においては、脆弱部は、金属層を遮断することにより形成される。これらの実施の形態においては、重合体層は脆弱部を介して延びることにより、接続部の端部が下方に変位されてチップと係合すると重合体層が破断するように構成されている。これらの特許にはまた、重合体ストリップは片持ちリードにおいて、即ち、これらの特許の好ましい実施の形態に係るボンディング前は両端が支持されていないリードにおいて使用することができると記載されている。これらの特許に教示されている更に別の構成によれば、リード接続部の第1の端部に隣接する部分においてのみ、即ち、リードが支持構造体に接合する部分においてのみ、重合体ストリップを補強体として提供している。リードの他の部分は、金属層のみから構成されている。
他のリード構造体が、米国特許第5,518,964号に開示されており、本明細書においてはこの米国特許を引用してその説明に代える。'964特許のある実施の形態に示されているように、超小形電子接続構成素子は、細長いストリップ状リードのアレイを有する誘電シートを備えることができる。各リードは、シートに固定された端子端部と、シートに取り外し自在に接続された先端部とを有することができる。使用の際には、シートは、チップまたはウエハ全体のような超小形電子素子と並列配置することができる。リードの先端部は、シートに取着されたままの状態でチップの接点に結合される。ボンディングの後は、シートと超小形電子素子は、互いに離れるように動かされることにより、先端部はシートから取り外されるとともに、リードはシートから離れて曲げられる。これにより、リードは垂直方向に延びた柔軟な状態に保持される。
このような改良が行われているにも拘わらず、更なる改良が所望されている。かくして、リードの形成を容易にしかつボンディング処理を容易にするようにポリマ補強リードの構造を改良することが所望されている。
更に、動作の際に遭遇する曲げに対して一層良好な耐性を発揮するとともに、比較的脆くて疲労し易い金属で形成しても、かかる問題に対して良好な耐性を発揮することができるリード構成を提供することが所望されている。
更に、相互接続素子の電気的特性は、超小形電子回路の性能に全体として影響を及ぼす。例えば、1993年発行、DoaneおよびFranzonn編集のElectrical Design of Digital Multichip Module、第11章、第525−568頁に掲載のPaul D.FransonのMultichip Module Technologies and Alternatives-The Basicと題する論文に記載されているように、相互接続素子の電気的特性は回路の動作の速度に影響を及ぼすことができる。超小形電子回路の電気的構成の完全な処理は本明細書の範囲から外れるものであるが、信号伝送の質と、一の超小形電子素子から他の素子への信号の伝播に必要な時間は、接続などを形成する伝送ラインの長さおよび特性インピーダンスのようなファクタにより左右される。回路板の内部を延びる導体は、一般に、「ストリップライン」として提供される。多くの場合、誘電層が導体と基準面との間に配設される。
更に、相互接続素子の電気的特性は、超小形電子回路の性能に全体として影響を及ぼす。例えば、1993年発行、DoaneおよびFranzonn編集のElectrical Design of Digital Multichip Module、第11章、第525−568頁に掲載のPaul D.FransonのMultichip Module Technologies and Alternatives-The Basicと題する論文に記載されているように、相互接続素子の電気的特性は回路の動作の速度に影響を及ぼすことができる。超小形電子回路の電気的構成の完全な処理は本明細書の範囲から外れるものであるが、信号伝送の質と、一の超小形電子素子から他の素子への信号の伝播に必要な時間は、接続などを形成する伝送ラインの長さおよび特性インピーダンスのようなファクタにより左右される。回路板の内部を延びる導体は、一般に、「ストリップライン」として提供される。多くの場合、誘電層が導体と基準面との間に配設される。
しかしながら、回路板からチップの接点へ延びるリードは、これまではストリップラインとしては提供されることがなかった。従って、ワイヤボンディング、TABおよびビームリード法においては、リードは、導体に近接する電圧基準面をもたない単独の導体に過ぎないものとなっている。従って、リードは、回路板のストリップラインとは著しく異なる特性インピーダンスのような電気的特性を有するものとなる。更にまた、上記した構造において利用されるリードは、「混線」("crosstalk")を受け易い。一方のリードに伝わる信号は、隣接するリードおよび回路の接続された素子に擬似信号を誘起する可能性がある。混線の問題は、リード間の狭い間隔により悪化するとともに、回路素子の動作速度が増加するにつれて一層悪化する。かくして、リードの電気的特性を一層良好に制御することができるとともに混線を一層起こりにくくすることができる超小形電子接続素子および方法を提供することが待望されている。また、超小形電子素子に狭い間隔で配置された接点と適合することができるコンパクトで経済的な構造体においてかかるリードを提供することが特に待望されている。
本発明は、これらの要望を満たすものである。
本発明の一の観点によれば、誘電支持構造体と、支持構造体に取着した複数の軟質リードとを有する超小形電子接続構成素子が提供されている。各リードは、柔軟な誘電部材と、主導体と、誘電部材に沿って主導体と同方向に延びる基準導体とを有している。好ましくは、各柔軟な誘電部材は、上面と底面とを有する誘電ストリップである。各リードの主導体はストリップの上面および底面の一方に位置し、基準導体はストリップのもう一方の面に位置している。支持構造体は、ストリップの上面および底面に連続する上面および底面を有する平坦なシート状素子であるのが望ましい。端子が支持構造体の1つ以上の面に配置され、リードの主導体が端子に接続されている。ストリップと支持構造体は互いに一体的に形成することができるとともに、同じ厚さあるいは異なる厚さに形成することができる。最も好ましくは、支持構造体は、共通する誘電シートの一部として形成される。構成素子は、導電性の第1のポテンシャル即ち電位(potential)基準素子、即ち、支持構造体の表面に位置する電位面を有するのが好ましい。リードの少なくとも幾つかの基準導体は、第1のポテンシャル基準素子即ち電位基準素子に電気的に接続されている。
本発明の一の観点によれば、誘電支持構造体と、支持構造体に取着した複数の軟質リードとを有する超小形電子接続構成素子が提供されている。各リードは、柔軟な誘電部材と、主導体と、誘電部材に沿って主導体と同方向に延びる基準導体とを有している。好ましくは、各柔軟な誘電部材は、上面と底面とを有する誘電ストリップである。各リードの主導体はストリップの上面および底面の一方に位置し、基準導体はストリップのもう一方の面に位置している。支持構造体は、ストリップの上面および底面に連続する上面および底面を有する平坦なシート状素子であるのが望ましい。端子が支持構造体の1つ以上の面に配置され、リードの主導体が端子に接続されている。ストリップと支持構造体は互いに一体的に形成することができるとともに、同じ厚さあるいは異なる厚さに形成することができる。最も好ましくは、支持構造体は、共通する誘電シートの一部として形成される。構成素子は、導電性の第1のポテンシャル即ち電位(potential)基準素子、即ち、支持構造体の表面に位置する電位面を有するのが好ましい。リードの少なくとも幾つかの基準導体は、第1のポテンシャル基準素子即ち電位基準素子に電気的に接続されている。
一の構成においては、第1の電位基準素子は、支持構造体の上面に位置するとともに、孔を有している。端子は、孔内の基板の上面に配置されている。端子の少なくとも幾つかは、第1の電位基準素子から電気的に隔離されている。リードの基準導体は、ストリップの上面に位置するとともに第1の電位基準素子と連続しており、一方、リードの主導体はストリップの底面に配置されている。構成素子は、端子の少なくとも幾つかから支持構造体の底面へ延びる導電性バイア(via)を有することができ、リードの少なくとも幾つかの主導体は、支持構造体の底面に沿って延びる導電性トレース(trace)などによりバイアに接続されている。
本発明のこの観点によれば、基準導体、主導体および誘電体は、柔軟なリードに沿って延びる対をなす導体を形成する。かかる各対をなす導体は、トレースにより画成される別のストリップライン即ち対をなす導体および第1の電位基準素子と連続させることができる。対をなす導体リードは、混線に対して実質上耐性を有する。リード接続部は、チップその他の超小形電子素子の接点に結合されるようになっている。
本発明の別の観点によれば、上記した構成素子を、支持構造体の底面およびストリップに対面する前面を有する超小形電子構成素子とともに有する集成体が提供されており、超小形電子素子は前面に接点を有している。リードの主導体は、超小形電子素子の接点に接続され、リードの基準導体は接点の近くまで延びている。
本発明の更に別の観点によれば、支持構造体と、1つ以上の柔軟なリードとを備えた接続構成素子が提供されている。各リードは、支持構造体に取着された第1の端部と、第1の端部から離隔した第2の端部とを有する接続部を備えている。各リードは、第1の端部と第2の端部との間を延びる柔軟な誘電ストリップを有しており、ストリップは反対側を向く上面と底面とを有している。各リードはまた、ストリップの面の一方を覆う第1の導体即ち導電層を有している。第1の導体は、厚さが10ミクロンよりも小さく、好ましくは約5ミクロンよりも小さく、最も好ましくは約2ミクロン乃至約5ミクロンである。本発明のこの観点に係る構成素子は更に、柔軟な誘電ストリップの他方の面を覆う第2の導体を有することができる。第2の導体は、第1の導体に関して上記したのと同じ厚さを有することができる。第1と第2の導体は金属であるのが望ましい。誘電ストリップは、厚さが約10ミクロン乃至約50ミクロンの柔軟な重合体ストリップであるのが望ましい。本発明のこの観点によれば、柔軟な誘電ストリップはリード接続部の構造強度の有意の部分、望ましくは大部分を提供している。かくして、導電層は、実質上、導電性を提供するように作用する。本発明のこの観点によれば、導電層が脆弱でありあるいは耐屈曲疲労性を欠いていると広くみなされている金属のような材料から形成される場合でも、10ミクロン未満、望ましくは約5ミクロン未満の極めて薄い層により優れた耐屈曲疲労性を得ることができる。かくして、金属導電層は、銅および銅ベースの合金のような低コストの金属から形成することができる。金属層は金のような他の金属の複数のより小さな層またはコーティングを含むことができ、あるいは金のような金属から全体を形成することができる。金のような比較的コストの高い金属が使用される場合にも、かかる薄層を形成するのに必要な金の量を最小にすることができる。更にまた、かかる薄い導電層とすれば、層をめっきしあるいはエッチングするのに必要な処理時間は著しく短くすることができる。
最も好ましくは、各リードにおける接続部の第2の端部は、支持構造体に取り外し自在に取着される。例えば、各リードの第2の端部は、リードの脆弱部により支持構造体に取着することができる。本発明のこの観点に係るリードは、'749特許および'909特許に関して上記したリードと同様の利点を提供することができる。本発明のこの観点に係る特に好ましい接続構成素子は、接続部の第1の端部から接続部の第2の端部へ延びるが、脆弱部を介しては延びない柔軟な重合体層を有する。かくして、脆弱部は、重合体層を欠いているが、1つ以上の金属層を有している。上記したような著しく薄い金属層が使用される場合には特に、金属層は容易に破断することができ、信頼性のある脆弱接続部を提供することができる。
本発明の更に別の変形例によれば、上記のような重合体層を有するリードは、'964特許に記載のような構造体に組み込むことができるとともに、この特許に記載されているようなボンディングおよび変形処理に使用することができる。
本発明の別の観点によれば、ボンディングを容易にするように適合されたリードを有する接続構成素子が提供されている。かくして、各リードは、支持構造体に取着された第1の端部と、第1の端部から離隔した第2の端部とを有する上記したような接続部を備えている。この観点においても、各接続部は、反対方向を向く上面と底面とを有する重合体ストリップと、これらの面の一方を覆う第1の金属層とを含んでいる。本発明のこの観点に係る接続構成素子は、リードの金属層から下方へ延びるとともに、接続部の第2の端部に隣接する結合領域におけるリードの残りの部分から下方へ突出する金属突起を有している。この金属突起により、リードを介して印加される音波または超音波エネルギの集中を容易にすることができる。第1の金属層が重合体ストリップの上面に配置される場合には、突起はストリップを介して延びるように形成することができる。あるいは、チップその他の超小形電子素子の接点に対するボンディング用の主導体を形成する層は、ストリップの底面に配置することができる。この場合には、誘電ストリップは、結合領域において孔を有するのが望ましい。以下において説明するように、ボンディングツールは、エネルギを中間に介在する重合体層を介して伝達させることを必要とせずに、エネルギがツールから底面の金属層に直接印加することができるように孔に係合させることができる。更にまた、孔により、ツールとリードとを堅固に相互係合させることができるので、ツールはボンディング処理の際にリードを案内することができる。
本発明の更に別の観点によれば、上記したような接続構成素子を結合する方法および上記したような超小形電子構成素子を製造する方法が提供されている。
本発明の一の実施の形態に係る接続構成素子は、中央領域12と、周辺領域14と、中央領域を周辺領域から分離する一連のスロット17とを有する重合体フィルム支持構造体10を備えている。スロット17は、互いに結合されて、中央領域を囲むリング状の環状チャンネルを形成している。フィルム10の支持構造体は、DuPont Chemical Corporationから商標KAPTON Eが付されて販売されている材料である、厚さが好ましくは約10ミクロン乃至約50ミクロン、より好ましくは約10ミクロン乃至約25ミクロンのポリイミドのような柔軟なシート状誘電材料から形成することができる。フィルム10は、図1に示す上面16と、図2に示す底面18とを有している。中央領域12においては、上面16は、薄い金属導電層の形態をなす第1のポテンシャル基準面即ち電位基準面20により実質上覆われている。層20は、以下において説明するように、接地面(ground plane)として使用することができる。層20には、数多くの孔22が形成されている。複数の金属バイアライナ24が、孔22および支持構造体即ち誘電フィルムを介して中央領域12の底面18に延びている。各バイアライナ24は、支持構造体の上面16に露出端子を提供している。バイライナ24のほとんどは、層20から電気的に隔離されており、層とは接触していない。幾つかのバイアライナ24aは、図6に示すように、孔20の縁部からバイア24aに内方へ延びる小さい柔軟な金属ブリッジ26により電気的に接続されているとともに、金属バス28が支持構造体の上面16のスロット17の外縁部と平行して周辺領域14の周囲を延びている。同様のバス30が支持構造体の底面18の周辺領域の周囲を延びている。
第2のポテンシャル即ち電位基準素子32が、中央領域12において支持構造体の底面に配置されている。第2の電位基準素子32はまた、金属の薄層とすることができる。しかしながら、第2の電位基準素子32は、中央領域の比較的小さな部分だけを覆っている。複数の金属トレース34が、バイアライナ24の底端部から中央領域の縁部に向けて従ってスロット17に向けて中央領域の底面に沿って延びている。
複数のリード36がスロットを介して延びている。各リード36は、支持構造体の中央領域12に取着された第1の端部38と、支持構造体の中心領域から離隔しかつ第1の端部38から離隔した第2の端部とを有する接続部を備えている。各リードの接続部は、中央領域において支持構造体の上面16と連続する上面44と、中央領域において支持構造体の底面18と連続する底面46とを有する誘電ストリップ41を備えている。各リードは更に、ストリップ40の底面46を覆う金属ストリップの形態をなす主導体48と、ストリップ40の上面を覆う電位基準導体50とを備えている。導体48および50は、金属薄膜として形成されている。好ましくは、導体48および50は、厚さが約10ミクロン未満、より好ましくは約5ミクロン未満、最も好ましくは約2ミクロン乃至約5ミクロンである。各主導体48はトレース34と連続しているので、各主導体はバイアライナ24の少なくとも1つと電気的に接続され、従って、上面のバイアライナにより画成される端子の少なくとも1つに電気的に接続されている。トレース34の幾つかは第2の電位基準素子32に電気的に接続されているので、これらのトレースに取着された特定の主導体48は幾つかのバイアライナに接続されている。かくして、第2の電位基準素子32に接続されたトレース、主導体48およびバイアライナ24の全ては、互いに電気的に接続されている。以下において更に説明するように、これらの素子は、連係する半導体チップの電源接続体として作用する。種々のリードの電位基準導体50の全ては、第1の電位基準素子即ち接地面20と連続する。
各リード36は、第2の端部40に隣接する接続部の結合領域において主導体即ち金属層48から下方へ延びる突起52を有している。各リードはまた孔54を有しており、孔54は、突起52と、孔54に整合された電位基準導体50の孔とに整合されて、結合領域における重合体層41の中へ下方へ延びているので、孔54は構成素子の上面に開口している。各重合体ストリップ41の上面に電位基準導体50を形成する金属層は、周辺領域14の上面のバス28と連続している。しかしながら、重合体ストリップ41と下部金属層48は、接続部の第2の端部40と周辺部14の重合体層との間でこれらの層にギャップ56を提供するように中断されている。これにより、取着部の第2の端部40は上面の金属層の小さい部分58だけを介して周辺部14に取着された状態となる。図3に明瞭に示すように、この部分58の幅Wは、金属層の隣接部の幅よりも小さく形成されている。かくして、金属層の部分58は、接続部の第2の端部40と支持構造体の周辺部14との間に脆弱接続部を構成している。発泡体、ゲルまたエラストマのような順応性のある誘電パッド60が、中央部の底面18の下に配置されている。
使用に際しては、接続構成素子は、接点66が設けられた前面64を有するチップ62に集成される。接点66は、チップの周辺に沿って列をなして配置されている。接続構成素子は、接点の各列がスロット17の1つに沿って延びるように、チップと整合されている。リードの接続部36、特に、リードの結合領域および突起52は接点66と整合されている。支持構造体の中央領域12は、チップの中央を覆うとともに、順応性のある層60を介してチップの前面64に支持されている。リング状支持体68がチップの周辺を包囲するとともに、支持構造体の周辺領域14を支持するように配設されている。ボンディングツール70が、各リード36と係合するように、集成体の上部から下方へ前進される。図4に明瞭に示すように、ボンディングツールは、底端部に突起72を有している。この突起は、上部金属層即ち基準導体50と誘電ストリップ41とを組み合わせた厚さよりもわずかに長く形成されているので、突起72は下部金属層即ち主導体48の上面に当接する。ツールの肩部78もまた、上部金属層即ち基準導体50に当接することができる。ツールが下方へ前進すると、接続部の第2の端部40を下方へ付勢するので、脆弱部58の上部金属層を破断する。
ツールの連続動作により、突起52がチップの接点66と係合するまで接続部の第2の端部40は下方へ付勢される。かかる下方向の動きの際に、ボンディングツール70は、各リードを適宜の接点66と精確に整合して案内するように側方へ動くことができる。ボンディングツールは、適宜の機械可視系(図示せず)
により制御することができる。ボンディングツールはまた、リードの第1の端部38の方向へリードに対して長手方向に動くことにより、リードを略湾曲したS字形状に形成するのが好ましい。リードの整合、曲げおよびボンディングのこれらの処理は、本明細書において引用されている特許において詳細に説明されている。しかしながら、図1−6のリードを使用する処理においては、ボンディングツールとリードとの係合は、突起72の孔54への係合により行われる。この係合により、ボンディングツールはリードの第2の端部を側方向と長手方向の両方に動かすことができる。リードが適宜の接点66と係合すると、突起52は接点に当接する。熱および音波または超音波エネルギを印加して突起52を接点に結合するなどして、エネルギがツール70を介して印加される。突起72は下部金属層の金属に直接当接するので、エネルギ重合体誘電ストリップ41を通ることなく、金属−金属接触により効率的に伝達される。
により制御することができる。ボンディングツールはまた、リードの第1の端部38の方向へリードに対して長手方向に動くことにより、リードを略湾曲したS字形状に形成するのが好ましい。リードの整合、曲げおよびボンディングのこれらの処理は、本明細書において引用されている特許において詳細に説明されている。しかしながら、図1−6のリードを使用する処理においては、ボンディングツールとリードとの係合は、突起72の孔54への係合により行われる。この係合により、ボンディングツールはリードの第2の端部を側方向と長手方向の両方に動かすことができる。リードが適宜の接点66と係合すると、突起52は接点に当接する。熱および音波または超音波エネルギを印加して突起52を接点に結合するなどして、エネルギがツール70を介して印加される。突起72は下部金属層の金属に直接当接するので、エネルギ重合体誘電ストリップ41を通ることなく、金属−金属接触により効率的に伝達される。
得られた集成体は、チップ前面64の中央部を覆う支持構造体の中央部を有するとともに、チップの端子に取着された種々のリードの接続部50を有している。各重合体ストリップの底面の主導体即ち下部金属層46は、チップの接点66に接続されている。かくして、チップの各接点66は、中央領域12の底面のトレース34とバイアライナ24の一方とに接続されることにより、各接点を中央領域即ちチップキャリヤ12の上面の端子に接続している。上記したように、トレース34の幾つか従って周辺導体46とチップ接点66の幾つかは、中央領域12の底面の第2の電位基準素子32(図6)に共通に接続されている。これらの接続されたリードは、チップの電源接続体として使用されるのが好ましい。かくして、このように接続された特定のチップ接点は、チップの電源入力端子となる。電位基準導体50と第1の電位基準素子20は、主導体46のほとんどから電気的に隔離されている。かくして、リード接続部36は、1対の電気的に隔離された共通に延びる導体46および50を有する個々のストリップラインコネクタを提供している。上記したように、バイア24aの幾つかは、第1の電位基準素子20に電気的に接続されることにより、導体46の幾つかおよび幾つかのチップ接点66を第1の電位基準素子に接続する。好ましくは、第1の電位基準素子とこれらの接続されたチップ接点および端子は接地電位に接続され、集成体の接地基準として作用する。
はんだマスク層76(図6)が、中央領域12の上面および周辺領域14の上面に被着されている。はんだマスク層は、バイア即ち端子24と整合された開口を有している。ゲルまたはエラストマ78のような軟質で順応性のある封入材が、リード接続部36を包囲する間隔部において、はんだマスク層の下に配設されている。はんだボール80のような導電性ボンディング材が端子24に設けられている。チップ62の後面65と支持体68の対応する面とは、適宜の金属の熱スプレッダにより覆われている。かくして、得られる集成体は完全に包装されたチップとなる。集成体は、標準的な面実装技術を使用し、ボンディング材を活性化することにより回路板その他の回路パネルに実装することができる。
使用の際には、加熱と冷却による寸法の変化により、バイアライナ即ち端子24が、チップ接点66に対してチップの前面64と平行する水平方向とチップに接離する垂直方向の両方に動く可能性がある。順応性のある層60と、柔軟なリード36と、柔軟なチップキャリヤ即ち支持構造体の中央領域12とにより、端子はチップ接点に対して自由に動くことができる。かかる動きの際に、リード36は撓む。著しく薄い金属導体46と50は、大きな疲労を受けることなく撓むことができる。従って、金属導体は、リードの繰り返される撓みにより誘発される疲労破損に対して実質上耐性を有する。更に、封入材78はリードの応力を制限するととともに、集成体の耐疲労性を高める。
動作においては、信号が端子24とチップの接点66との間に伝送されると、二重導体リードは隣接するリードの信号間の混線に対して実質上耐性を発揮する。トレース34と第1の電位面素子即ち接地合20もまた、チップキャリヤ即ち中央領域12の底面に沿って信号伝送用の二重導体ストリップラインリード構成体を提供している。二重導体即ちストリップラインリード構成体はリード36を介してリード36の中に担持されるので、各リードと連係するトレースとの間には良好な接続性が確保され、トレースとリードとの接合点において単位長さ当たりの特性インピーダンスに急な変化のない滑らかな遷移が得られる。これらの因子の全てにより、系の高速動作が容易となる。
好ましくは、中央領域12の上面の第1の電位基準素子20と、ストリップ41の上面の基準導体50と、周辺領域の上面のバス28とは互いに一体的に形成され、一方、中央領域の底面のトレース34と、ストリップの底面の主導体46と、周辺領域の底面のバス30も一体に形成されている。最も好ましくは、構成素子を形成するために、先づ、連続するポリマシートの上面と底面を連続する金属層で覆う。金属層は、所定のマスタ層を被着しかつマスク層に写真パターニングを行うなどして、エッチングを行い種々の特徴を形成する。重合体層のスロット17、孔54およびギャップ56、並びに、バイアライナ24を収容する層10のバイアは、重合体層をレーザ融除しおよび/または化学エッチングすることにより形成することができる。この形成工程においては、金属素子は、重合体層のエッチングまたは融除においてマスクとして作用することができる。上部および底部金属層、従って、電位面素子、導体およびトレースは銅その他の銅ベースの合金、最も好ましくはベリリウム銅から形成することができる。各金属層はまた、金、白金などのような金属の1つ以上の別の層またはコーティングを含むことができる。これらの下層は、約0.2乃至約2.0ミクロンの厚さにすることができる。これらは、下にある金属を酸化および腐食から保護する。バイアライナ24および突起52は、銅、ニッケル、金その他の適宜の材料から形成することができる。従来のめっき処理により被着するのが好ましい。突起52の底面は、チップ接点66と金属結合を形成する金その他の材料の層で覆うのが好ましい。
本発明の別の実施の形態に係る構成素子は、図1−6に示す構成素子のリードと同様のリード136(図7)を有する。かくして、各リードは、チップの上面を覆う基準導体即ち上部金属層150と、ストリップの底面を覆う主導体即ち底部金属層148とを有する重合体ストリップ141を含んでいる。この実施の形態においても、各リードの第1の端部138は、誘電シート即ち支持構造体110に固定して接続され、一方、各リードの第2の端部140はリードの第2の端部から支持構造体に跨る上部金属層の小さな部分による構成される脆弱素子158によって、誘電シート即ち支持構造体に取り外し自在に取着されている。しかしながら、この実施の形態においては、リードは、支持部材の実質上全面に亘って延びる「エリアアレイ」("area array")、即ち、格子状に配置されている。各リードは、支持構造体の個々のギャップまたは孔117を介して延びている。端子即ちバイア124もまた、支持構造体の略全面に亘って延びるエリアアレイに配置されているので、端子はリードおよび孔とともに散在配置されている。各リードの主導体148は、支持構造体の底面に沿って延びる短いトレース134により隣接するバイア124の底端部に接続されている。支持構造体の上面は、支持構造体の上面の第1の電位基準素子120により実質上覆われており、電位基準素子120はリードの上面の基準導体150と一体となっている。バイア124は、誘電支持層110を介して延びるとともに、上面の電位基準素子120の孔を介して延びている。かくして、バイア124と、これに連係する、底面の主導体148およびトレース134とは、上面の第1の電位基準素子から電気的に隔離されている。しかしながら、幾つかのバイア124aは、上記したのと同様なブリッジ126により第1の電位基準素子に接続されている。
図7および8に示す構成素子は、チップがチップ前面を覆うエリアアレイに分布された接点を有するように構成されている以外は、図1−6に関して上記した構成素子と実質上同じ態様で構成することができる。この場合にも、構成素子は、チップの接点担持前面の上方に配置され、孔117と整合される孔を有する順応性のある層(図示せず)によりチップの前面の上方に支持されている。図4に関して上記したツールと同様のツールを各リードの上部の孔154と係合させて、各リードを下方へ付勢するとともに、突起152をリードの接点と係合させることができる。
上記した構成素子はまた、図9および10に示すようなボンディング処理に供することができる。リードを有する支持構成体110を含む図7および8に示す構成素子は、超小形電子素子162と整合される。構成素子と超小形電子素子は、一対の対向するプレート状ツール190と192との間に配置されるとともに、リードの底面の突起152をチップの接点166に結合するように加熱および加圧下で同時に付勢される。このボンディング処理の際には、リード136の先端即ち第2の端部140は脆弱素子158により誘電支持層110の所定の位置に保持される。ボンディング後は、はんだマスク層176(図10)が構成素子の上面に被着され、誘電支持層の孔(図7)を閉じる。構成素子と超小形電子素子162は、接続構成素子の支持構造体が超小形電子素子162から離れて上方へ動くように、垂直方向の動きの成分Vをもって互いに対して動かされる。かくして、リードの先端即ち第2の端部140は、リードの端子即ち第1の端部138に対して下方に動くことにより、リードを垂直方向に延びる略S字形状に曲げる。流動性のある液体の順応性材料160が接続構成素子の誘電層110とチップ162の前面との間に注入され、硬化されて、誘電層とチップ前面との間の所定の個所に軟質の順応性のある層を形成する。結合、移動および注入処理は、上記した米国特許第5,518,964号に実質上従うことができる。誘電層とチップとを互いに相対的に動かす工程は、誘電層と超小形電子素子即ちチップとの間に加圧下で流体を注入することにより、全体または一部を行うことができる。
加圧下で注入される流体は、流動性のある液体封入材160とすることができ、あるいは、その後に流動性流体により置換される気体とすることができる。'518特許に更に開示されているように、誘電層および超小形電子素子の垂直方向の動きは、各リードの第2の端部即ち先端部140をリードの第1の端部即ち端子138へ向けて動かしてリードをS字状に容易に曲げることができるように、水平方向への相対的な動きを伴うことができる。あるいは、垂直方向の動きは、誘電シート110および超小形電子素子即ちチップ162の相対的な水平方向の動きなしに行うことができる。かくして、リードは、米国特許第5,518,964号に教示されているように、製造されたままで構成素子の水平面内で湾曲させることができる。これにより垂直方向の動きが容易となる。別の構成においては、本発明に係る、重合体ストリップと重合体ストリップを覆う金属導体とを有するリードは、1995年9月12日付で出願され、本譲受人に譲渡された米国特許仮特許出願第60/003,619号に記載され、あるいはThomas DiStefanoおよびJohn W.Smithの名義で1996年9月12日付で出願され、本譲受人に同じく譲渡された、発明の名称が「リード構造体」(Lead Configurations)の、前記仮出願の利益を主張した非仮特許出願に記載されている物理的な構成で組み立てることができる。本明細書においては、これらの出願を引用してその説明に代える。更に、本発明に係るリードは、1996年9月12日付で出願された、発明の名称が「湾曲リード構造体」(Curved Lead Configurations)で、同じく譲渡されたThomas DiStefanoの米国特許仮出願に教示されている構成で組み立てることができる。
構成素子を、図9および10の集成方法において使用しようとする場合には、リードの先端即ち第2の端部の突起152には、上記した'964特許に教示されているように熱または圧力により活性化するのに適したボンディング材料が設けられている。使用することができる適宜のボンディング材料には共融ボンディング材料がある。例えば、リードまたはチップ接点が金を含む場合には、ボンディング材料は、錫、ゲルマニウムおよびこれらの混合物よりなりなる群から選ばれる金属のような、金と低融点共融混合物を形成するように選定される金属を含むことができる。他の適宜のボンディング材料には、液相を形成することなく導電金属層即ち主導体とチップの接点との間に結合を形成するのに適した拡散ボンディング材料、はんだあるいは金属担持重合体組成物が含まれる。あるいは、各リード先端部は、リードを下方へ曲げることなく、リードを図1−8に関して上記したようなツールと係合させることにより、連係するチップに結合させることができる。ボンディング後は、誘電層110を、リードを下方へ曲げかつ脆弱部158を図9および10に関して上記した態様で破断するように、超小形電子素子162から離れて動かすことができる。
'964特許に更に記載されているように、単一の接続構成素子を、多数のチップを含むウエハ全体の前面即ち接点担持面に結合することができ、あるいは幾つかの個々のチップその他の超小形電子素子の集成体に結合することができる。
更に、接続構成素子は、誘電支持構造体110の面を延びあるいは複数のチップ即ち超小形電子素子を相互接続するようにかかる構造体内を延びる別のリードまたはトレース(図示せず)を含むことができる。
更に、接続構成素子は、誘電支持構造体110の面を延びあるいは複数のチップ即ち超小形電子素子を相互接続するようにかかる構造体内を延びる別のリードまたはトレース(図示せず)を含むことができる。
図11A−11Hおよび図12A−12Hに示すように、図7−10の構成素子を製造する方法においては、先づ、上記した金属の連続層200および210を上面および底面にそれぞれ有する誘電層110が提供される。フォトレジスト230および240を上部および底部金属層200および210に被着し、図11Bおよび12Bに示すように写真パターニングを行う。次に、上部および底部層に図11Cおよび12Cに示すようにエッチングを行う。フォトレジストを除去し、図11Dおよび12Dに示すように、背後にパターン化された金属層を有する誘電層110を得る。この処理により、上部金属層に孔242およびリング244が形成される。リング244は、最終的には、バイアライナ124の上部を形成する。同じ処理により、リードを形成すべき各領域の両側で上部層に開口246が形成される。開口246は、脆弱素子158を構成する狭いブリッジ部を画成する。また、マスキングおよびエッチング処理により、リードを形成すべき各領域の先端に隣接して上部金属層に孔247が形成されるとともに、各リング244の中央に別の孔249が形成される。底部層のレジストパターニングおよび底部層のエッチングにより、トレース134とともに、誘電層の底面に個々のストリップ即ち主導体148も形成され、ストリップ148の延長部を構成する。各トレース134は、リング244内を孔249の下まで延びている。レーザと、モリブデンまたはレーザの照射に耐性がある他の材料から形成されるマスク252とを使用し、孔154および155を、層110内に上面から上部金属層の孔247および249を介して形成する。この処理の際に、上部金属層はマスクとしても作用し、孔154および155の位置を制限する。次に、別のフォトレジストを、開口を孔249とだけ整合させた状態で被着し、導電性のバイアライナ124がこれらの孔に形成されることにより、各バイアライナがトレース134に金属的に結合される。バイアライナは、従来の電気めっき方法その他の適宜の被着方法により形成することができる(図11Fおよび12F)。底面に別のフォトレジストを使用し、導電性ボンディング材料をリード148の先端領域にめっきすることにより突起152が形成される(図11Gおよび12G)。フォトレジストを除去した後、上部層の開口内にレーザを使用して誘電層を更に融除することにより、各リード136の構造素子を構成する誘電材料の細長いストリップを画成する孔117が形成される。
本発明の別の実施の形態に係る構成素子(図13A−13Cおよび図14)は、重合体ストリップ341の上面に導体348を1つだけ有している。導電金属突起即ちバンプ352が、リードの結合領域において重合体誘電層341の孔を介して導体348から下方へ延びている。脆弱部358は、リードの隣接部よりも狭い幅を有しているが、金属層即ち導体348と重合体層341の双方を備えている。この実施例においては、リードは上面の中へ延びる孔は有していない。リードが使用される場合には、リードには米国特許第5,390,844号に教示されているボンディングツールが係合する。熱および超音波エネルギを金属層348の上面を介して印加し、チップの接点に金属突起352を介して伝達することができる。図13A−13Cおよび図14に示すリードは、中央領域312および誘電支持構造体の周辺領域314に接続されており、図1−6に関して上記したように配設することができる。この実施の形態においても、各リードは、ボンディングツールにより下方に付勢することができ、これにより個々のリードの脆弱部358が破断される。図14に明瞭に示すように、重合体ストリップ341の上面の単一の導体即ち金属層348は、中央領域即ちチップキャリヤ312の誘電層の上面に沿って延びるトレース334と連続している。ボンディング後は、リードは図14に示すような形状を有し、突起352はチップの接点366に結合される。かくして、リードおよびこれに連係するトレース334は、中央部316の上面の端子324に対する接続を行う。本発明のこの実施の形態に係る接続構成素子および集成体は、柔軟なリードに電位基準導体を設けておらず、従って、かかる基準導体に関連する高められた電気的特性は発揮しない。しかしながら、本発明のこの実施の形態に係る構成素子は、重合体ストリップリードを薄い金属導体層だけとともに使用することにより得られる高められた柔軟性および耐疲労性は提供しない。図13Dに示すように、この構成に係るリードには、脆弱部358'が金属層348'の狭幅の部分によってのみ橋渡しされるように、重合体層341'に中断部を有する脆弱部358'を設けることができる。
逆の構成に係るリードが図15a−15cに示されている。このリードは、上面と底面とを有する重合体層441と、ストリップ441の底面の単一の金属層即ち導体448とを有している。この場合にも、脆弱部458は、重合体層と金属層の双方とともに、リードの狭幅部により構成されている。結合自在な材料452の小さな突起が底部金属層448から下方へ延びている。このリードも、層448により構成される1つの主導体だけを有している。この接続構成素子においては、導体即ち層448は、支持構造体の底面のトレース(図示せず)と連続している。各トレースは、支持構造体の底面の端子に接続することができ、あるいは上記と同様のバイア構成により接続構造体の上面の端子に接続することができる。図15bに示すリードは、重合体層が除去されている脆弱部458'を有するとともに、図4に関して上記したボンディングツールが係合するように突起452'と整合してリードの結合領域に孔454を有する点を除いて、同様に構成されている。
容易に理解することができるように、上記した構成の数多くの変更および組み合わせを、請求の範囲に記載の本発明から逸脱することなく利用することができるものである。単なる一例として、上記した特許およびPCT公報には、リードの数多くの構成とパターンが開示されている。これらのパターンは、本発明の教示に従って形成することができる。例えば、図1−6には、リードおよびトレースが「ファンイン」("fan-in")している、即ち、チップの周辺の接点からチップの中央領域にある端子へ内方に延びる構成が示されている。しかしながら、本発明は、リードがチップの周辺を越えて外方へ延びる「ファンアウト」("fan-out")構造あるいは支持構造体の中央領域の端子へ内方に延びる幾つかのリードおよびトレースを有するとともに、支持構造体の周辺領域の端子へ外方に延びる他のリードおよびトレースも有する「ファンイン−ファンアウト」構造にも適用することができる。実際に、本発明の構成は、柔軟なリード構造を含む実質上あらゆる超小形電子接続構成素子に適用することができる。本明細書において説明した特定の製造方法のほかに、数多くの製造方法を使用して上記した構造体を形成することができる。上記した構成のこれらおよび他の変更および組み合わせは本発明から逸脱することなく利用することができるので、好ましい実施例についての上記説明は、請求の範囲に記載の本発明を限定するのではなく、例示するものとして理解されるべきである。
Claims (11)
- (a)支持構造体と、
(b)1つ以上の柔軟なリードとを備え、該各リードは前記支持構造体に取着された第1の端部と該第1の端部から離隔した第2の端部とを有し、各リードは反対方向を向く上面および底面を有する重合体ストリップと前記面の一方に配置された第1の金属層とを含み、前記第1の導電層は厚さが10ミクロン未満である超小形電子接続構成素子。 - 前記第1の導電層は金属であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の構成素子。
- 前記第1の金属導電層は厚さが約2乃至約5ミクロンであることを特徴とする請求の範囲第2項に記載の構成素子。
- 前記リードは更に前記面の他方に配置された第2の導電層を有し、該第2の導電層は厚さが10ミクロン未満であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の構成素子。
- 前記重合体ストリップは厚さが約10ミクロン乃至約50ミクロンであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の構成素子。
- 支持構造体と1つ以上のリードとを備え、該リードは前記支持構造体から突出し、該リードは支持構造体に取着された第1の端部を有するとともに第1の端部から離隔した第2の端部を有し、前記リードの接続部は反対方向を向く上面および底面を有する重合体ストリップと、前記上面に配置された第1の金属層と、該金属層から下方へ延びかつ前記第2の端部に隣接したリードから下方へ突出する金属突起とを含むことを特徴とする超小形電子接続構成素子。
- 前記第1の金属層は連係するストリップの底面に配置されていることを特徴とする請求の範囲第6項に記載の構成素子。
- 前記各ストリップは前記突起に整合してストリップの上面からストリップを介して少なくとも部分的に延びる孔を有することを特徴とする請求の範囲第7項に記載の構成素子。
- 前記各リードは更にストリップの上部側でストリップに配置された第2の金属層を有し、該第2の金属層はリードの第2の端部へ延びるとともにストリップの孔と整合しかつかかるリードと整合する孔を有することを特徴とする請求の範囲第8項に記載の構成素子。
- 支持構造体と、1つ以上のリードとを備え、該各リードは支持構造体に取着された第1の端部を有するとともに第1の端部から離隔した第2の端部を有し、前記各接続部は反対方向を向く上面および底面を有する重合体ストリップと、ストリップの底面に配置された第1の金属層とを含み、前記第1の金属層は第2の端部に隣接するリードの結合領域に延び、前記上面から少なくとも部分的に前記各ストリップは前記結合領域において前記重合体層を介して延びる孔を有することを特徴とする超小形電子接続構成素子。
- リードの第2の端部を構成素子の接点と並列配置する工程と、ボンディングツールが第1の金属層と係合するように前記リードの孔ボンディングツールを挿入しかつボンディングツールを介して第1の金属層にエネルギを与えることによりリードを接点に結合する工程とを備えることを特徴とする請求の範囲第8、9、または10項に記載の接続構成素子を結合する方法。
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