JP2006106575A - アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 - Google Patents
アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006106575A JP2006106575A JP2004296134A JP2004296134A JP2006106575A JP 2006106575 A JP2006106575 A JP 2006106575A JP 2004296134 A JP2004296134 A JP 2004296134A JP 2004296134 A JP2004296134 A JP 2004296134A JP 2006106575 A JP2006106575 A JP 2006106575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating film
- hole
- inorganic insulating
- electrode
- contact hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 アクティブマトリクス型表示装置は、配線32と、配線32の表面に配置され貫通孔46を含む無機絶縁膜16と、貫通孔46に連通するように形成されたコンタクトホール41を含む有機絶縁膜11と、画素メタル電極1とを備える。有機絶縁膜11は、コンタクトホール41の表面の断面形状が2段になっており、第1テーパ部73の径が貫通孔46の径よりも大きくなるように形成され、第2テーパ部74の径が第1テーパ部73の径よりも大きくなるように形成されている。
【選択図】 図2
Description
(構成)
図1から図11を参照して、本発明に基づく実施の形態1におけるアクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法について説明する。
図1において、TFT31が駆動することにより、配線層37および配線32を通って、画素メタル電極1に通電される。有機EL素子36は、TFTが駆動することにより、電圧が印加されて発光する。本実施の形態における有機EL表示装置は、トップエミッション構造の表示装置であり、矢印81に示す向きに光が放出される。それぞれの有機EL素子36は、対応するそれぞれのTFT31によって駆動される。
(構成)
図12から図19を参照して、本発明に基づく実施の形態2におけるアクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法について説明する。
本実施の形態においては、コンタクトホールの底部が貫通孔の入口部よりも大きくなるように形成され、無機絶縁膜は、少なくともコンタクトホールの内側となる表面に改質層を含む。すなわち、無機絶縁膜は突出部を含み、無機絶縁膜は、少なくとも突出部の有機絶縁膜に向かう面において、表面改質が行なわれた改質層を含む。この構成を採用することにより、コンタクトホールを形成した後のアッシング工程において、無機絶縁膜がエッチングされることを改質層で抑制することができる。この結果、第2電極としての画素メタル電極の段切れなどによる導通不良を防止して、表示欠陥を防止したアクティブマトリクス型表示装置を提供することができる。
(構成)
図20から図27を参照して、本発明に基づく実施の形態3におけるアクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法について説明する。
図20に示すように、本実施の形態におけるアクティブマトリクス型表示装置においては、無機絶縁膜の表面に改質層27が形成され、突出部56の端部におけるテーパ形状に沿う一部分には、改質層27は形成されていない。このように、無機絶縁膜の貫通孔46の表面において、全ての表面に対して表面改質が行なわれていなくても、第2電極としての画素メタル電極の段切れを防止して、表示欠陥を防止したアクティブマトリクス型表示装置を提供することができる。
Claims (10)
- 第1電極と、
前記第1電極の表面に配置され、貫通孔を含む無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜の表面に配置され、前記貫通孔に連通するように形成されたコンタクトホールを含む有機絶縁膜と、
前記貫通孔の内側の前記第1電極の表面、前記貫通孔の表面および前記コンタクトホールの表面に沿うように形成された第2電極と
を備え、
前記有機絶縁膜は、前記コンタクトホールの表面の断面形状が2段になっており、前記無機絶縁膜の側の第1段目の径が、前記貫通孔の径の大きさ以上になるように形成され、第2段目の径が、前記第1段目の径よりも大きくなるように形成されている、アクティブマトリクス型表示装置。 - 前記有機絶縁膜は、前記コンタクトホールの前記第1段目の径の部分および前記第2段目の径の部分を接続する接続面を有し、
前記有機絶縁膜は、前記接続面と前記無機絶縁膜とに挟まれるように形成された被膜部を含み、
前記被膜部は、厚さが前記無機絶縁膜の厚さよりも薄くなるように形成されている、請求項1に記載のアクティブマトリクス型表示装置。 - 前記有機絶縁膜は、前記コンタクトホールの前記第1段目の径の部分および前記第2段目の径の部分を接続する接続面を有し、
前記有機絶縁膜は、前記接続面と前記無機絶縁膜とに挟まれるように形成された被膜部を含み、
前記貫通孔および前記コンタクトホールのうち少なくとも一方が、前記第1電極に向かって、徐々に開口が小さくなるように形成されている、請求項1に記載のアクティブマトリクス型表示装置。 - 第1電極と、
前記第1電極の表面に配置され、貫通孔を含む無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜の表面に配置され、前記貫通孔に連通するように形成されたコンタクトホールを含む有機絶縁膜と、
前記貫通孔の内側の前記第1電極の表面、前記コンタクトホールの内側の前記無機絶縁膜の表面、および前記コンタクトホールの表面に沿うように形成された第2電極と
を備え、
前記コンタクトホールは、前記コンタクトホールの底部が前記貫通孔の入口部よりも大きくなるように形成され、
前記無機絶縁膜は、少なくとも前記コンタクトホールの内側の表面において、表面改質が行なわれた改質層を含む、アクティブマトリクス型表示装置。 - 前記貫通孔の表面に前記改質層が形成されている、請求項4に記載のアクティブマトリクス型表示装置。
- 有機EL表示パネルおよび液晶表示パネルのうち、少なくとも一方を備える、請求項1から5のいずれかに記載のアクティブマトリクス型表示装置。
- 第1電極の一部を露出するように形成された貫通孔を有する無機絶縁膜を、前記第1電極の表面に形成する工程と、
前記第1電極の前記一部の表面および前記無機絶縁膜の表面に有機絶縁膜を形成する工程と、
前記第1電極の前記一部の表面を露出するように、前記有機絶縁膜にコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記第1電極の前記一部の表面に残存する前記有機絶縁膜を除去するアッシング工程と
を含み、
前記コンタクトホール形成工程は、前記コンタクトホールの表面の断面形状が2段になる工程を含み、
前記コンタクトホール形成工程は、前記無機絶縁膜の側の第1段目の径が、前記貫通孔の径と同じになるように、または、前記貫通孔の径よりも大きくなるように形成して、さらに、第2段目の径が、前記第1段目の径よりも大きくなるように形成する工程を含む、アクティブマトリクス型表示装置の製造方法。 - 前記有機絶縁膜として、感光性樹脂の膜を形成する工程を含み、
前記コンタクトホール形成工程は、マスクを用いて前記感光性樹脂の膜の一部を感光した後に現像する工程を含み、
前記マスクとして、前記無機絶縁膜の表面の前記貫通孔の周りの領域に対応する領域がハーフトーンマスクになっているものを用いる、請求項7に記載のアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。 - 第1電極の表面に無機絶縁膜を形成する工程と、
前記第1電極の一部の表面を露出するように、前記無機絶縁膜に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記第1電極の前記一部の表面および前記無機絶縁膜の表面に有機絶縁膜を形成する工程と、
前記第1電極の前記一部の表面を露出するように、前記有機絶縁膜にコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記第1電極の前記一部の表面に残存する前記有機絶縁膜を除去するアッシング工程と、
前記無機絶縁膜の表面の改質を行なう表面改質工程と
を含み、
前記コンタクトホール形成工程は、前記コンタクトホールの底部が前記貫通孔の入口部よりも大きくなるように行なう、アクティブマトリクス型表示装置の製造方法。 - 前記貫通孔形成工程の後に前記表面改質工程を行なう、請求項9に記載のアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004296134A JP4450715B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004296134A JP4450715B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006106575A true JP2006106575A (ja) | 2006-04-20 |
JP4450715B2 JP4450715B2 (ja) | 2010-04-14 |
Family
ID=36376365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004296134A Expired - Fee Related JP4450715B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4450715B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007148540A1 (ja) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Sony Corporation | 発光表示装置およびその製造方法 |
JP2009211986A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
JP2010027561A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 |
JP2010095342A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | エレベータ安全システム |
JP2012234748A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-11-29 | Jsr Corp | 有機el表示素子および有機el表示素子の製造方法 |
WO2013072963A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-23 | パナソニック株式会社 | 表示パネルの製造方法および表示パネル |
KR20200040656A (ko) | 2018-10-09 | 2020-04-20 | 알박 세이마쿠 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크스, 하프톤 마스크, 마스크 블랭크스의 제조 방법, 및 하프톤 마스크의 제조 방법 |
KR20200136832A (ko) | 2019-05-28 | 2020-12-08 | 알박 세이마쿠 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크스, 하프톤 마스크, 제조 방법, 제조 장치 |
-
2004
- 2004-10-08 JP JP2004296134A patent/JP4450715B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8747177B2 (en) | 2006-06-19 | 2014-06-10 | Sony Corporation | Light-emitting display and method of manufacturing the same |
US8115376B2 (en) | 2006-06-19 | 2012-02-14 | Sony Corporation | Light-emitting display with auxiliary wiring section and method of manufacturing the same |
WO2007148540A1 (ja) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Sony Corporation | 発光表示装置およびその製造方法 |
US8598777B2 (en) | 2006-06-19 | 2013-12-03 | Sony Corporation | Light-emitting display and method of manufacturing the same |
JP5228910B2 (ja) * | 2006-06-19 | 2013-07-03 | ソニー株式会社 | 発光表示装置およびその製造方法 |
JP2012230928A (ja) * | 2006-06-19 | 2012-11-22 | Sony Corp | 発光表示装置およびその製造方法 |
JP2009211986A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
US8253328B2 (en) | 2008-07-24 | 2012-08-28 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescence device, process of producing organic electroluminescence device, and electronic apparatus |
JP2010027561A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 |
JP2010095342A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | エレベータ安全システム |
JP2012234748A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-11-29 | Jsr Corp | 有機el表示素子および有機el表示素子の製造方法 |
CN103210698A (zh) * | 2011-11-16 | 2013-07-17 | 松下电器产业株式会社 | 显示面板的制造方法以及显示面板 |
WO2013072963A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-23 | パナソニック株式会社 | 表示パネルの製造方法および表示パネル |
JPWO2013072963A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2015-04-02 | パナソニック株式会社 | 表示パネルの製造方法および表示パネル |
US9190430B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-11-17 | Joled Inc. | Method of fabricating display panel |
KR20200040656A (ko) | 2018-10-09 | 2020-04-20 | 알박 세이마쿠 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크스, 하프톤 마스크, 마스크 블랭크스의 제조 방법, 및 하프톤 마스크의 제조 방법 |
KR20200136832A (ko) | 2019-05-28 | 2020-12-08 | 알박 세이마쿠 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크스, 하프톤 마스크, 제조 방법, 제조 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4450715B2 (ja) | 2010-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101089259B1 (ko) | 액정 표시 장치의 어레이 기판의 제조방법 | |
KR100482735B1 (ko) | 패턴형성방법 및 액정표시장치 제조방법 | |
US7253439B2 (en) | Substrate for display, method of manufacturing the same and display having the same | |
JP5409315B2 (ja) | 表示装置 | |
KR100966453B1 (ko) | 액정표시소자 제조방법 | |
WO2019223631A1 (zh) | 制备薄膜晶体管基板的方法、薄膜晶体管基板及显示装置 | |
JP2003297850A (ja) | 薄膜トランジスタアレイ及びその製造方法並びにこれを用いた液晶表示装置 | |
JP5071152B2 (ja) | 表示装置の製造方法および照明装置の製造方法 | |
JP2004145266A (ja) | 薄膜トランジスタ表示板 | |
JP2012103697A (ja) | アレイ基板及び液晶ディスプレイ | |
WO2013073084A1 (ja) | 表示パネルの製造方法および表示パネル | |
JP4450715B2 (ja) | アクティブマトリクス型表示装置およびアクティブマトリクス型表示装置の製造方法 | |
WO2010073425A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
WO2020007091A1 (zh) | 显示面板及其制备方法,显示装置 | |
KR101268388B1 (ko) | 액정표시소자 제조방법 | |
JP4656827B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR101493224B1 (ko) | 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 | |
KR20050078180A (ko) | 표시 장치용 기판의 제조 방법 및 그것을 이용한 표시장치의 제조 방법 | |
JP2737982B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPH11121178A (ja) | 有機エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法 | |
KR20060123810A (ko) | 금속패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치 제조방법 | |
CN110931528A (zh) | 显示面板的制备方法 | |
JP2006093220A (ja) | アクティブマトリクス型表示装置およびその製造方法 | |
KR20040022289A (ko) | 액정표시장치의 어레이 기판 제조방법 | |
CN113161291B (zh) | 阵列基板制作方法及阵列基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100119 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4450715 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140205 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |