JP2006089719A

JP2006089719A - 溶融物

Info

Publication number: JP2006089719A
Application number: JP2005219132A
Authority: JP
Inventors: Edgardo Anzures; エドガルド・アンズレス; Robert K Barr; ロバート・ケー・バー
Original assignee: Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Current assignee: Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Priority date: 2004-07-29
Filing date: 2005-07-28
Publication date: 2006-04-06
Also published as: TW200613327A; TWI306100B; CN1749854A; US20060121389A1; EP1630600A3; US20110086314A1; KR20060048820A; US20090214980A1; EP1630600A2

Abstract

【課題】溶融物
【解決手段】光減衰組成物およびそれを使用する方法が記載される。光減衰組成物を基体上の放射エネルギー感受性物質に選択的に適用する。複合体に適用される化学線を、光減衰組成物によりコートされない放射エネルギー感受性物質の一部が化学的に変化する。光減衰組成物は少なくともＵＶ範囲の光を減衰し、かつ水溶性または水分散性である。
【選択図】なし

Description

本発明は、少なくともＵＶ範囲内の光を選択的に減衰させる溶融物および画像化のための溶融物の使用方法に関する。より詳細には、本発明は、少なくともＵＶ範囲内の光を選択的に減衰させ、かつ水溶性または水分散性である溶融物、および画像化のための水溶性または水分散性溶融物の使用方法に関する。

基体上に画像を形成する方法は、エレクトロニクス、グラフィックアートおよび繊維工業等をはじめとする種々の工業を網羅する。画像を形成することは、典型的にはリソグラフィまたはフォトリソグラフィを伴う。たとえば、印刷された布のラベルを、種々の技術、たとえばスクリーン印刷、オフセットリソグラフィ印刷、染色、フレキソ印刷、インプラント印刷および転写印刷を使用して製造することができる。かかるラベルは、衣服への装飾、識別、広告、洗濯や取り扱いの説明、寸法、価格ならびにその他の目的に好適である。

シルクスクリーンとしても知られているスクリーン印刷は、スクリーン上に備え付けられた、非印刷領域がステンシルによって保護される多孔性のステンシルを使用する。マスキング材は、また、乾燥ラッカー、シェラックまたは膠でもよい。印刷は、機械プレス上で、スクリーンの下に布を供給し、塗料のような堅さを有するインクをスクリーンに適用し、広げ、そしてそれを微細メッシュの穴にスキージで押し通すことにより行われる。

オフセットリソグラフィ法においては、画像および非画像領域は基本的に薄い金属プレート表面の同一平面にあり、それらの間の分解能は化学的に維持される。インクは、プレート上の疎水性領域により捕捉されるが、親水性領域では捕捉されない。画像は、次いでオフセットラバーロールに転写され、次いでロールから織物シートに転写される。

フレキソ印刷は、柔軟性ゴムプレートおよび速乾性流体インクを使用した回転凸版印刷の形態である。ゴムプレートは、画像形成のためのレリーフ法を利用し、画像領域は非画像領域の上に上げられる。インクローラーは上げられた領域の上面に接触するだけである。周囲の非印刷領域はより低く位置し、インクを受け取らない。インクが適用された画像は、直接布に転写される。染色は、上記の任意の印刷法において着色されたインクよりもむしろ染料を使用して達成することができる。しかしながら、染料の使用は、織物中に染料を固定するための追加の後処理を必要とする。

エレクトロニクス工業界においては、画像は、回路形成のために基体上にフォトリソグラフィーによって形成される。これは、全面コーティング（スピン−キャスティング、ローラーコーティング、スプレーおよびスクリーン印刷および浸漬）としてまたは全面シート（積層）として表面に適用される感光性物質をはじめとする放射エネルギー感受性物質の使用を伴う。本材料は、コートされたウェハーまたは銅パネルの上面に、要求されたパターンのマスクを導入する前に感光性物質が前露光されないように、光が調節された製作室内において適用される。マスクは、コンタクトマスク、近接マスク（ｐｒｏｘｉｍｉｔｙｍａｓｋ）または投影マスクのいずれかであってよい。全ての場合において、マスクは高精度を有する別個の単位として製造され、損傷または粉塵／微粒子捕集に対し注意深く保護される。マスクが定位置に置かれ、感光性物質中に使用される光開始剤に適合した放射器材のランプを、マスクによって保護されない領域において基体コーティングを露光するのに使用することができる。採用される感光性物質の種類に応じて、達成されるパターン転写はマスクに対してポジまたはネガのいずれかであってよい。露光の後、感光性物質は、未処理物質を水性浸漬浴またはコンベヤーシャワー／スプレー中で洗い流すような方法でコーティングの化学的性質を変更する現像薬品に暴露される。

表面レリーフ画像を達成するスピンキャスト、浸漬、ローラーコーティング、スプレーおよびスクリーン印刷またはシートラミネーションフォトリソグラフィ法は成功しているが、材料消耗（全面技術故に）、選択的３−Ｄパターン化は困難でかつ時間浪費的であること、感光性物質に使用される化学現象は、高い毒性ランク、大容量の有害化学品および現像薬品の廃棄処理問題を有していること、ならびに単一のパターン化は、たとえばフォトコーティング、マスクアライメント、放射露光、マスク除去、パターン現像、過剰物質すすぎ除去および基体乾燥のように複数工程プロセスであること等の多くの問題を有している。

１以上のこれらの問題は、ステンシリング（スクリーン印刷）、マイクロドット転写（スタンピング）およびレーザライティング−エッチング（たとえばアブレーションスクリビングおよび直接描画フォトリソグラフィー相当の画像化）を含む、表面上のパターンレリーフ構造を提供することができる更なるプロセスを導入することにより解決することができる。各技術は、意図された用途の細目、たとえば素早いパターン発生、レリーフパターン厚さ、制御されたエッチング能、プロセスのコストおよび使用プロセスの容易性により左右される、その技術の利点と制限を有する。しかしながら、どの方法も、上記した問題の全てを解決するわけではない。

米国特許第５，７７９，７７９号は、紫外線を遮断することができ、かつ、基体上に印刷するためのインクジェットにより基体に適用することができるホットメルトインクを開示する。本特許は、インクが紫外線遮光材、可塑剤、染料およびワックスを含むことを開示する。本インクのワックス含量は、インクの３０重量％から９５重量％の範囲を取ることができる。本特許は、温水、熱水または溶媒を使用してシルクスクリーンから容易に洗浄することができるインクを開示している。しかしながら、温水または熱水は溶媒としてではなく、熱伝達剤として機能している。言葉を変えれば、水はインクを可溶化するのではなく、インクを融解するために熱を運搬する。モンタン、パラフィンおよびカンデリラをはじめとするワックスは、水に容易に溶解または分散しない。更に、多くの有機溶媒は、作業者および環境双方にとって有害である。従って、この業界では、それらの使用を回避しまたは少なくとも減少することが好ましいとされる。

電子デバイスの製造に使用される多くの方法は、全製造プロセスの次の工程を可能にするのに使用される感光性物質の選択的適用を要求する。たとえば、ソルダーマスクは、プリント配線板中のスルーホールから除外されるが、製造プロセスにおいて後に適用されるはんだに対する抵抗性を必要とする、プリント配線板の他の領域には存在する。

ソルダーマスクまたは他の感光性物質の選択的な、最終的な存在を可能にする多様な方法が、現在実施されている。たとえば、ソルダーマスクは、たとえば他の部品にはんだ付けするために露出が意図されている部分を除いて電子回路を完全に被覆するためにパターン形成される。ソルダーマスクは、典型的にはプリント回路板をはじめとする基体に適用される感光性物質から形成される。感光性物質は、化学線で露光され、アートワークまたはフォトツールを用いて画像形成される。露光に続き、感光性物質の露光または未露光部分のいずれか（感光性物質がポジ型か、ネガ型かに依存する）を洗い流す溶媒中で現像される。基体に残存する材料の部分は、たとえば、熱またはＵＶ線でその後硬化され、プリント回路を防護するよう意図された硬質の、耐久性のソルダーマスクを形成する。

エレクトロニクス工業における一つの問題は、多層プリント配線板の製造における場合のような正確な配列またはレジストレーションである。レジストレーションは、プリント配線板上の所望の配置に対して１以上のプリント配線パターンまたはそれらの部分の相対的位置、または配線板の他の面上にある別のパターンの相対的位置である。多層プリント配線板の製造における課題の一つは、十分な内層レジストレーションを得ることである。内部フィーチャーは、正確にお互いに対し位置合わせしなければならず、かつそれらは任意のドリルで開けられたホールに対し正確に位置合わせしなければならない。ホールに対する内層のミスレジストレーションは二つの潜在的な信頼性上の問題を生じさせる。すなわちホールからラインへの接続の失敗、およびホールおよび絶縁コンダクター間のショートである。内層のミスレジストレーションは、また、電気抵抗を増加させおよび導電性を減少させる。深刻なミスレジストレーションは、開回路状態、即ち導通の完全な喪失を生じさせる。

多層プリント配線板の製造における最後の工程の一つは、外層へのソルダーマスクの適用である。上記したようにソルダーマスクは、板上から特定領域が現像することができるようにフォトツールを使用して選択的に露光される。典型的にはジアゾ、ハロゲン化銀または石英およびクロムからなる当該フォトツールは、回路ライン配置の「理想化された」寸法に基づいて調製される。しかしながら、「理想化された」寸法から回路ラインの現実の板寸法における変動が、板製造において採用される厳しいプロセスによってよく起こる。動的に変化する板と組み合わせて「理想化された」フォトツールを使用することは、多層積層板における板との間のレジストレーション問題を結果的によく生じさせる。ソルダーマスク工程は、多層プリント配線板の製造における最後の工程の一つであるから、ミスレジストレーションが原因で板が廃棄されることは、高価で非効率な製造プロセスをもたらす。

更に、従来の実施においては、しばしば作業者は、複数の固定フォトツールを準備し、ミスレジストレーションを回避するためにフォトツールと板との間で手作業により最適の適合を見出そうとする。かかるプロセスは、不正確であり、かつ時間も浪費し、多層プリント配線板製造の更なる非効率を結果的に生じさせる。

正確なレジストレーションを提供することに加えて、作業者はフォトレジストの損傷を与えることなしに除去することができるフォトツールを望む。多くのフォトレジストは、フォトツールが除去されるときにフォトレジストの一部がフォトツールに固着するほど十分粘着性である。このことは、化学線への露光および現像の後にフォトレジストにより形成されるパターンへの損傷を引き起こす場合がある。また、作業者は、希望しない放射線を選択的に遮光するフォトツールを望む。多くのフォトレジストは４２５ｎｍまでの波長における光に対し感受性である。これは、ＵＶ線および可視光線領域の一部のいずれもが範囲となる。従って、業界は少なくともＵＶ線領域における光を選択的に遮光し、かつ損傷無くフォトレジストから除去することができるフォトツールまたはマスクを所望する。

米国特許第５，７７９，７７９号明細書

従って、改良された組成物、および基体上に画像を形成する方法に対する必要性が存在する。

組成物は、少なくともＵＶ範囲にある光を減衰するための１以上の化合物、および１以上の水溶性もしくは水分散性、フィルム形成性ポリマーを含む。本組成物は、非硬化性溶融物である。

他の態様において本組成物は、ＵＶおよび可視範囲の光を減衰するための１以上の化合物、１以上の水溶性もしくは水分散性、フィルム形成性ポリマー、１以上の酸化防止剤、および１以上の酸もしくはその無水物を含む。他の成分を本組成物に加えて、所望の性能を有するよう本組成物を調整することができる。

少なくともＵＶ範囲における光を減衰する任意の化合物を、本組成物において使用することができる。また、ＵＶおよび可視範囲の一方における光を減衰する化合物を、本組成物がＵＶおよび可視範囲の双方を減衰するように、光を減衰する少なくとも一つの他の化合物を本組成物に添加することを条件として採用することができる。従って、本組成物は、両領域の別個の波長内におけるＵＶおよび可視光を減衰するよう調整することができる。

任意の好適な水溶性または水分散性フィルム形成性ポリマーを使用することができる。本ポリマーの混合物も、また、本組成物において使用することができる。かかるポリマーは、組成物を水または塩基性水溶液で基体から１分以内に除去することを可能にする。かかるポリマーは、望ましくない有機溶媒および現像液を避け潜在的に有害な廃棄物の量を減少させるため使用される。従って、本組成物は、多くの従来の溶融物よりも環境的により優しい。

更なる態様は、放射エネルギー感受性組成物または物品を、基体上に堆積させ；マスキング組成物を放射エネルギー感受性組成物または物品上に選択的に堆積させて複合物を形成し、そのマスキング組成物は少なくともＵＶ範囲の光を減衰させるための１以上の化合物および１以上の水溶性もしくは水分散性フィルム形成性ポリマーを含み；化学線を複合物に適用し；および複合物を現像して基体上にパターンを形成することを含む方法である。本マスキング組成物はデジタル方式をはじめとする任意の好適な方法により適用することができる。インクジェットは、そのようなデジタル方式の一つである。

本組成物は、固形物または半固形物であるが、インクジェット温度において液体であるので、インクジェットに好適である。本組成物は、低温でインクジェット可能であり、本組成物の成分の熱分解の可能性を減少させる。

本組成物は、容易に水または塩基性水溶液で基体から除去可能である。従って、本組成物を使用する画像化方法において、有機現像液を回避することができ、その結果作業者は多くの慣用の画像化方法において使用される有害な有機現像液へ暴露されない。

更に、従来のフォトツールによる多くの従来技術を使用しても修正することが困難であるレジストレーションの問題を、本マスキング組成物を使用した画像化方法により効果的に解決することができる。かかるレジストレーションの問題は、隣接する配線板の間のスルーホールの位置合わせがエレクトロニクスデバイスにおける配線板の効率的な製造および作動のために重要である多層プリント配線板の製造において、典型的に見出される。

本明細書全体を通して、次の略語は、文章中に他に特段の断りの無い限り次の意味を有する：℃＝摂氏度；ｇｍ＝グラム；Ｌ＝リットル；ｍＬ＝ミリリットル；ｗｔ％＝重量パーセント；ｃｐ＝センチポイズ；ｋＶ＝キロボルト；ｐｓｉ＝平方インチ当たりのポンド；ｍＪ＝ミリジュール；ｃｍ＝センチメートル；ＵＶ＝紫外線；室温＝１８℃〜２５℃。

用語「プリント配線板」および「プリント回路板」は、本明細書全体を通して互換的に使用される。「堆積」および「めっき」は、本明細書全体を通して互換的に使用され、無電解めっきおよび電解めっき双方を含む。「多層」は、２以上の層を示す。「ポリマー」および「コポリマー」は、本明細書全体を通して互換的に使用される。「ポリマー」は、１以上の繰り返し単位を有する化合物である。「放射エネルギー」は、光または熱からのエネルギーを意味する。「化学線」は、化学変化を起こさせる光からの放射を意味する。「（アルキル）アクリレート」は、「アクリレート」および「アルキルアクリレート」双方を包含する。「粘度」＝内部流体摩擦または流体の剪断速度に対する剪断応力の比率。「擬似粘度」＝その最も粘着状態におけるチキソトロピー性物質の粘度。酸価＝１ｇの遊離酸を中和するために、および物質中に存在する遊離酸を測定するために必要とされる水酸化カリウムのグラム。用語「マスク」、「マスキング」および「減衰」は同一の意味を有し、本明細書全体を通して互換的に使用される。「染料」は、インクジェット可能組成物中に可溶性の発色剤である。「顔料」は、インクジェット可能組成物中に不溶性の発色剤である。

全てのパーセントは、他に特に断りの無い限り重量ベースであり、乾燥重量または無溶媒重量を基準である。全ての数量範囲は、その境界値を含み、およびかかる数量範囲が加えて１００％になると制約されることが論理的である場合を除き、任意の順序で組み合わせ可能である。

本組成物は、少なくともＵＶ範囲の光を減衰するための１以上の化合物、および１以上の水溶性もしくは水分散性フィルム形成性ポリマーを含む。本組成物は、温かい溶融物である。本組成物は、基体上に画像を形成する方法においてマスクとして使用することができる。マスキング組成物は、放射エネルギー感受性物質または製品に選択的に適用することができる。たとえば、感光性物質は、たとえばプリント配線板の形成における場合のように基体に適用することができる。マスキング組成物は、デジタル方式をはじめとする任意の好適な方法により感光性物質に選択的に適用することができる。感光性物質がドライフィルムである場合は、本組成物はドライフィルム製品のカバーシートに適用される。かかるカバーシートは、典型的にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）から製造される。化学線は複合物に適用され、その複合物は基体、感光性物質および選択的に適用されたマスク組成物を含む。マスキング組成物に含まれる光減衰化合物は、感光性物質の化学変化を防止するためにマスクによって被覆された感光性物質に化学線が到達しないように、十分な化学線を吸収または反射（即ち遮断）する。光減衰組成物により被覆されてない感光性物質は、化学的に変性する。光減衰組成物は、次いで水または好適な塩基性水溶液で除去される。光減衰組成物は、硬化性ではない。従って、本組成物は、不飽和を有するモノマーを含まない。

塩基水溶液を使用して、化学線で露光されなかった感光性物質を除去することができ、あるいは、化学線で露光された感光性物質を除去することができる。典型的には、化学線に露光されなかったネガ型感光性物質は除去され、化学線に露光されたポジ型感光性物質が除去される。かかる感光性物質の例としては、レジストおよびインクが挙げられる。レジストには、フォトレジスト、たとえばネガ型およびポジ型フォトレジスト、めっきレジスト、エッチングまたは内層レジストおよびソルダーマスクが含まれる。かかる塩基水溶液は、８以上、またはたとえば８から１２のｐＨ範囲を有する。

任意の好適な光減衰化合物は、それが少なくともＵＶ範囲の光を減衰することを条件に使用することができる。典型的には、かかる化合物はＵＶおよび可視範囲の光を減衰する。かかる化合物は、８００ｎｍ以下、またはたとえば５００ｎｍ〜３００ｎｍ、またはたとえば４５０ｎｍ〜３５０ｎｍ、またはたとえば４２５ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光を減衰する。光減衰化合物の例としては、吸収剤、光開始剤および光増感剤として典型的に使用される化合物、ならびに顔料および染料をはじめとする発色剤が挙げられる。カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；ＴｈｅＳｏｃｉｅｔｙｏｆＤｙｅｓａｎｄＣｏｌｏｒｉｓｔｓＣｏｍｐａｎｙ発行）において「顔料」と分類された化合物のみならず合成および天然染料および顔料が含まれる。かかる化合物は、組成物が所望の波長範囲以内の少なくともＵＶ線を減衰するよう十分な量において組成物中に含まれる。一般的に、光減衰化合物は、組成物のたとえば０．１重量％〜５０重量％、またはたとえば１重量％〜３０重量％、またはたとえば５重量％〜１５重量％等の量で含まれる。

光減衰化合物がＵＶ範囲または可視範囲のみを減衰する場合には、本組成物がＵＶおよび可視範囲双方の光を減衰するよう１以上の他の化合物と組合わせることができる。化合物は、不連続の波長範囲内のＵＶおよび可視光線双方を減衰するよう本組成物を調整するため組合わせることができる。化合物が光を減衰する波長は、従来のＵＶ／可視分光光度法を使用して容易に決定することができる。

光を吸収し、マスキング組成物のために好適な化合物としては、これらに限定されないが、たとえば、チオキサントンおよび置換チオキサントン、ベンゾフェノンおよび置換ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾールおよび置換ベンゾトリアゾール、およびトリアジンおよび置換トリアジンが挙げられる。かかる化合物は、組成物の０．１重量％〜３０重量％、またはたとえば０．５重量％〜２０重量％、またはたとえば０．７５重量％〜１０重量％、またはたとえば１重量％〜５重量％の量で使用される。光吸収化合物は、文献で開示された方法に従い製造することができる。幾つかは、商業的に入手可能である。

チオキサントンおよび置換チオキサントンは、下記の一般式を有する。

式中、Ｒは独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アセチル、直鎖または分岐（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルキル、（Ｃ_６〜Ｃ_１０）アリール、（Ｃ_７〜Ｃ_２４）アルキルアリールおよび直鎖または分岐（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルコキシ、およびｍは１〜４の整数である。ハロゲンは、フッ素、臭素、塩素およびヨウ素を包含する。典型的に、ハロゲンは臭素および塩素である。最も典型的には、ハロゲンは塩素である。かかる化合物の例は、チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ブロモチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−フェニルチオキサントン、２−ベンジルチオキサントン、２−アセチルチオキサントン、１−クロロ−４−ヒドロキシチオキサントン、１−クロロ−４−ｎ−プロポキシチオキサントン、１，３−ジクロロ−４−ｎ−プロポキシチオキサントン、４−ベンジルオキシ−１−クロロチオキサントン、１−クロロ−３−メチル−４−ｎ−プロポキシチオキサントン、１−フルオロ−４−ｎ−プロポキシチオキサントン、３−クロロ−２−ｎ−プロポキシチオキサントン、１−クロロ−４−オクチルオキシチオキサントン、１−クロロ−２−メチル−４−ｎ−プロポキシチオキサントン、１−ブロモ−４−プロポキシチオキサントン、１，４−ジメトキシチオキサントンおよび１−クロロ−４−イソプロポキシチオキサントンである。

ベンゾフェノンおよび置換ベンゾフェノンとしては、次式を有する化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

式中、Ｒ_１〜Ｒ_４は独立して水素、ヒドロキシル、ハロゲン、（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルコキシ、（Ｃ_１〜Ｃ_２０）ヒドロキシアルキル、（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルキル、フェノキシ、−Ｃ（Ｒ_６）_３（式中Ｒ_６は独立して水素およびハロゲンである）、−Ｎ（Ｒ_７Ｒ_８）（式中Ｒ_７およびＲ_８は独立して水素、直鎖または分岐（Ｃ_１〜Ｃ_５）アルキルである）であり、Ｒ_５は水素であり、Ｒ_１’〜Ｒ_４’はＲ_１〜Ｒ_４と同一であり、ならびにＲ_５’はＲ_５と同一である。ハロゲンには、フッ素、臭素、塩素およびヨウ素が含まれる。かかる化合物の例は、４−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’− ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−（メチルエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、および４，４’−ビス（ジフェノキシ）ベンゾフェノンである。

好適な置換ベンゾトリアゾールの例は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、および２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。

好適な置換トリアジンの例は、次式を有する１，３，５−トリアジンである。

式中、Ｒ_９およびＲ_１０は、独立して水素、ハロゲン（たとえば塩素、臭素およびヨウ素）、−ＣＮ、（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルキルおよび（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルコキシであり、ならびにＲ_１１は（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルキルである。（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルキルおよび（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルコキシは、それぞれ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソアミルまたはｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルまたはオクタデシル、ならびにメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ノニルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシおよびオクタデシルオキシ等の直鎖および分岐アルキルおよびアルコキシ基である。

他の好適な置換トリアジンの例は、トリス−置換１，３，５−トリアジン、フェニルアミノ−１，３，５−トリアジン、ｓ−トリアジン、ハロメチル−１，３，５−トリアジン、対称および非対称置換トリアジンである。

好適な発色剤の例としては、これらに限定されないが、酸化鉄（ＩＩＩ）等の鉄酸化物、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化コバルト、カドミウムレッド、硫酸バリウム、ウルトラマリンブルー（アルミノケイ酸塩）、混合相チタン酸塩（たとえばＣ．Ｉ．ピグメントグリーン−イエローＰＹ−５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエローＰＹ−５３およびＣ．Ｉ．ピグメントレッド−イエローＰＢｒ−２４）、混合相金属酸化物（たとえばＣ．Ｉ．ピグメントイエローＰＹ−１１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウンＰＢｒ−２９およびＣ．Ｉ．ピグメントブラウンＰＢｒ−３１）、二酸化チタン（たとえばルチルおよびアナターゼ）、琥珀、およびクロム酸鉛が挙げられる。

他の好適な発色剤の例としては、これらに限定されないが、カーボンブラック、インジゴ、フタロシアニン、パラレッド、フラバノイド（たとえば赤、黄色、青、橙色およびアイボリー色）が挙げられる。

追加の好適な発色剤の例としては、これらに限定されないが、アゾ染料、アントラキノン、ベンゾジフラノン、インジゴールド、メチンおよび関連染料、スチリル、ジ−およびトリアリールカルボニウム染料および関連染料、キノフタロン、硫黄ベース染料、ニトロおよびニトロソ染料、スチルベン、ホルマザン、ジオキサジン、ペリレン、キナクリドン、ピロロ−ピロール、イソインドリン、アントラキノイド、ペリノン、キサンテン、キノリン、ピラゾロンおよびイソインドリノンが挙げられる。

カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーを有する顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１およびＣ．Ｉ．ピグメントブラック７が挙げられる。

水溶性または水分散性を提供するために光減衰組成物は、１以上の水溶性または水分散性ポリマーを含む。好適なポリマーは、アルコキシル化骨格を有するポリマーである。かかるポリマーは、その組成物を１分以内、またはたとえば５秒〜１分、またはたとえば１０秒〜３０秒の期間に水または塩基性水溶液により基体から除去することを可能とする。

かかる水溶性または水分散性ポリマーの例としては、下記の一般式を有するポリマーが挙げられる。
Ｒ_１２−Ｒ_１３−（ＯＲ_１３）_ｎ（ＯＲ_１６）_ｐ（ＯＲ_１７）_ｑ−Ｒ_１４（ＩＶ）

式中、Ｒ_１３は直鎖または分岐（−Ｃ_１−Ｃ_１０−）脂肪族であり、典型的にＲ_１３は直鎖または分岐（−Ｃ_２−Ｃ_３−）脂肪族であり；Ｒ_１２およびＲ_１４は独立してヒドロキシル、置換または非置換（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルコキシ、置換または非置換（Ｃ_６〜Ｃ_１０）アリールオキシ、カルボキシル、スルホン、ホスホンまたはそれらの塩、および第一級または第二級アミノ基であり；Ｒ_１６およびＲ_１７は独立して直鎖または分岐（−Ｃ_１−Ｃ_１０−）脂肪族であり；ｎは１〜１００、典型的には５〜５０、より典型的には１０〜２０の整数であり；ｐは０〜１００、典型的には５〜５０、より典型的には１０〜２０の整数であり；ｑは０〜１００、典型的には５〜５０、より典型的には１０〜２０の整数である。ｑ＝０のとき、Ｒ_１４はＲ_１７の炭素に結合している。ｐ＝０のとき、（ＯＲ_１３）_ｎの炭素は（ＯＲ_１７）_ｑの酸素に結合している。ｐおよびｑ＝０のとき、Ｒ_１４は（ＯＲ_１３）_ｎの炭素に結合している。

追加の好適な水溶性または水分散性ポリマーの例としては、下記の一般式を有するポリマーが挙げられる。
Ｒ_１８−（ＯＲ_１９）_ｎ（ＯＲ_２０）_ｐ（ＯＲ_２１）_ｑ−Ｒ_２２（Ｖ）

式中、Ｒ_１８は直鎖または分岐（Ｃ_１〜Ｃ_１００）アルキルおよび置換または非置換（Ｃ_６〜Ｃ_１０）アリールであり；Ｒ_２２はヒドロキシル、置換または非置換（Ｃ_１〜Ｃ_２０）アルコキシ、置換または非置換（Ｃ_６〜Ｃ_１０）アリールオキシ、カルボキシル、スルホン、ホスホンまたはそれらの塩および第一級または第二級アミノ基であり；Ｒ_１９、Ｒ_２０およびＲ_２１は独立して直鎖または分岐（−Ｃ_１−Ｃ_１０−）脂肪族、典型的には（−Ｃ_２−Ｃ_３−）脂肪族であり；ならびにｎ、ｐおよびｑは上記と同じである。ｑ＝０のとき、Ｒ_２２はＲ_２０の炭素に結合している。ｐ＝０のとき、Ｒ_１９の炭素は（ＯＲ_２１）_ｑの酸素に結合している。ｐおよびｑ＝０のとき、Ｒ_２２はＲ_１９の炭素に結合している。

置換基としては、フッ素、臭素、塩素、およびヨウ素をはじめとするハロゲン、ヒドロキシル、（Ｃ_１〜Ｃ_１０）ヒドロキシルアルキル、（Ｃ_１〜Ｃ_１０）アルキル、（Ｃ_６〜Ｃ_１０）芳香族、（Ｃ_１〜Ｃ_１０）アルコキシ、（Ｃ_６〜Ｃ_１０）アリールオキシ、（Ｃ_６〜Ｃ_１２）アルキルアリール、カルボキシル、スルホン、ホスホンおよびそれらの塩、ならびに−Ｎ（Ｒ_２３Ｒ_２４）（ここでＲ_２３およびＲ_２４は独立して水素および（Ｃ_１〜Ｃ_１０）アルキルである）が挙げられる。かかるポリマーの重量平均分子量は、２００〜６０００、またはたとえば５００〜５０００、またはたとえば８００〜４０００、またはたとえば９００〜２０００の範囲である。分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により決定することができる。

かかるポリマーとしては、ポリエチレングリコールをはじめとするポリアルコキシレート、メトキシポリエチレングリコールをはじめとするメトキシポリアルコキシレート、ポリエチレン−コ−ポリエチレングリコールをはじめとするポリアルコキシル化ポリアルカン、トリスチリルフェノールエトキシレート等の置換アリールオキシアルコキシレートおよびポリオキシアルキレンアミンとしても知られるポリエーテルアミンが挙げられる。かかる化合物は、文献中に開示された方法により製造することができる。幾つかは、たとえば、ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ社から商品名ＣＡＲＢＯＷＡＸ（商標）１０００およびＣＡＲＢＯＷＡＸ（商標）１４５０の下で入手可能なポリエチレングリコールであり、商業的に入手可能である。メトキシポリエチレングリコールは、ＣＡＲＢＯＷＡＸ（商標）２０００の商品名でＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ社から入手可能である。商業的に入手可能な他のポリマーは、ＵＮＩＴＨＯＸ（商標）３８０、ＵＮＩＴＨＯＸ（商標）４５０およびＵＮＩＴＨＯＸ（商標）７２０の商品名でＢａｋｅｒＰｅｔｒｏｌｉｔｅ社から入手可能なポリエチレン−コ−ポリエチレングリコールである。ポリエチレングリコールは、典型的には１００重量％の酸化エチレン繰り返し単位からなり、ポリエチレン−コ−ポリエチレングリコールは典型的には２０重量％〜８０重量％、またはたとえば３０重量％〜６０重量％の酸化エチレン単位を構成する。商業的に入手可能なポリエーテルアミンの例としては、ＨｕｎｔｓｍａｎＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（米国、テキサス州、ヒューストン）から入手可能であるＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）製品群である。ポリエーテル骨格は、酸化プロピレン（ＰＯ）、酸化エチレン（ＥＯ）または混合ＥＯ／ＰＯのいずれかをベースにしている。ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）製品群はモノアミン、ジアミンおよびトリアミンを含み、それらは５０００までの多様な分子量範囲において入手可能である。かかる商業的に入手可能なポリエーテルアミンの具体例は、ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）Ｍ−２０７０、ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）ＥＤＲ−１４８、ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）Ｄ−２３０、Ｄ−４００およびＤ−２０００およびＪＥＦＦＡＭＩＮＥ（登録商標）Ｔ−４０３およびＴ−５０００である。

ポリマーＩＶおよびＶから誘導される水溶性および水分散性ポリマーもまた、好適である。かかる誘導体の例は、ウレタン、エステル、アミド、尿素およびアミノアルコールである。構造ＩＶおよびＶのヒドロキシル官能基は、イソシアネートと反応してウレタンを形成することができる。エステルは、ヒドロキシル官能基をカルボン酸と反応させることにより形成することができ、あるいは、代替においては、ポリマーＩＶおよびＶのカルボン酸官能基はヒドロキシル基含有化合物と反応することができる。アミドは、アミノ官能基をカルボン酸基と反応させることにより、またはカルボン酸官能基をイソシアネートもしくはアミンと反応させることにより、形成することができる。尿素は、アミノ官能基をイソシアネートと反応させることにより形成することができる。アミノアルコールは、アミノ官能基をエポキシと反応させることにより形成することができる。このような反応プロセスは、当該技術分野においてよく知られている。

本ポリマーは、組成物の６０重量％〜９９重量％、またはたとえば７０重量％〜９５重量％、またはたとえば７５重量％〜９０重量％を構成する。上記ポリマーの混合物を使用することができる。

酸化防止剤、有機酸およびそれらの無水物をはじめとする任意成分を、マスキング組成物中に含むことができる。

好適な酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェノールを含むフェノール、亜燐酸塩、ラクトン、アルキル化モノフェノール、アルキルチオメチルフェノール、ヒドロキノン、トコフェロール、ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフェノール、Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化マロン酸塩、芳香族ヒドロキシベンジル化合物、ベンジルホスホン酸塩、ヒンダードアミンをはじめとするアミン酸化防止剤、およびアスコルビン酸が挙げられる。かかる化合物は、当該技術分野においてよく知られており、多くは商業的に入手可能であり、たとえばチバスペシャリティーケミカルズから入手可能な商品名ＩＲＧＡＮＯＸ（商標）のヒンダードフェノールが挙げられる。一例として、ＩＲＧＡＮＯＸ（商標）１０７６（オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が挙げられる。１以上を組成物において使用することができる。かかる酸化防止剤は、組成物の０．０１重量％〜１０重量％、またはたとえば０．５重量％〜５重量％の量で含まれる。

好適な酸および無水物の例としては、オクタン酸、シュウ酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、フタル酸、グリコール酸、リンゴ酸、シュウ酸、コハク酸、グルタール酸、乳酸、サリチル酸、セバシン酸、ベンゼントリカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸および無水フタル酸が挙げられる。１以上のかかる酸および無水物は、組成物の０．１重量％〜１５重量％、またはたとえば１重量％〜１０重量％、またはたとえば３重量％〜８重量％の量で使用することができる。

酸化防止剤および有機酸に加えて、他の任意成分は界面活性剤、バッファー、バイオサイド、殺真菌剤、殺細菌剤、殺微生物剤および粘度調整剤を包含することができるが、これらに限定されない。かかる任意成分は、当該技術分野においてよく知られており、慣用量で使用される。

光減衰組成物は、当該技術分野で公知の任意の好適な方法により調製することができる。一つの方法は、成分の溶液、サスペンションまたはディスパーションを作ることである。組成物を構成するポリマーは、典型的には、室温において液体、固体または半固体である。固体および半固体を加熱して、それらが他の成分と容易に混合することができるように軟化または液化することができる。成分は、好適な混合または均質化機において任意の順序で組み合わせることができる。均質混合物を形成するために任意の成分を可溶化または混合することが必要とされる場合、十分な熱を適用することができる。典型的に２５℃より上、１５０℃までの温度を使用して、成分を混合する。本成分が均一に混合された後に、混合物を２５℃以下に冷却し、固体または半固体溶融物を形成することができる。

光減衰組成物は、任意の好適な手段により放射エネルギー感受性物質、またはドライフィルム製品のような放射エネルギー感受性製品に選択的に適用することができる。好適な適用方法の一例としては、インクジェットが挙げられるが、これに限定はされない。放射エネルギー感受性物質の例としては、レジストおよびインクが挙げられるが、これらに限定されない。レジストは、フォトレジストをはじめとする感光性物質およびめっきレジストが挙げられる。

任意の好適なインクジェット装置を使用して、放射エネルギー感受性物質に光減衰組成物を選択的に適用することができる。インクジェット装置は、放射エネルギー感受性物質に適用される選択的マスクデザインのための該装置のメモリーに情報をデジタル方式で保管することができ、その結果光減衰組成物はその間に介在する工程無しに選択的におよび直接に放射エネルギー感受性物質に適用することができる。好適なコンピュータープログラムの例は、ツーリングデータ（ｔｏｏｌｉｎｇｄａｔａ）をもたらすための標準ＣＡＤ（コンピューター支援設計）プログラムである。作業者は、インクジェット装置にデジタル方式で保管されたプログラムを変更することにより光減衰組成物の選択的堆積を容易に修正することができる。加えて、レジストレーション問題もまた、容易に解決することができる。インクジェット装置は、たとえば多層プリント配線板の製造における場合等において、基体間の潜在的な不正配列を感知するようプログラムすることができる。その装置が板間のミスレジストレーションを知覚すると、プログラムはマスクパターンのインクジェットの適用を変更し、隣接する板間のミスレジストレーションを回避し、または修正する。板から板にマスクパターンを再びデザインする能力は、板間のミスレジストレーションの可能性を減少させ、および複数の固定フォトツールを調製するためのコストおよび非効率な作業を削除することができる。従って、マスクの選択的堆積および画像形成の効率は、多くの従来法を超えて改善される。

インクジェット印刷に関し、「ドロップオンディマンド（Ｄｒｏｐ−Ｏｎ−Ｄｅｍａｎｄ）」インクジェットおよび「連続」インクジェットの二つの主要なカテゴリーがある。ドロップオンディマンドインクジェット技術を使用して、光減衰組成物を貯蔵器に保管し、プリンターのプリントヘッドのノズルに配達する。光減衰組成物の単一の液滴をノズルから放射エネルギー感受性物質に押し進めるための一つの手段が存在する。典型的には、これはノズルの外に小滴を「噴出させる」チャンバー内のダイアフラムの圧電作動であるか、またはチャンバー内の圧力を増加させるための流体の局部加熱であり、その結果小滴を強制的に噴射する。ノズルを通過する前に、加圧された光減衰組成物の流れが、電流にさらされたセラミック結晶を通って進む。この電流は、ＡＣ（交流）電流の周波数に等しい圧電振動を引き起こす。この振動が、順々に、遮断されてない流れから組成物の小滴を発生する。この組成物は、等間隔の等寸法の連続した一連の液滴に分散する。液滴が荷電電極中の液体流から分離する点における噴射の周囲で、電圧が荷電電極および液滴流の間に印加される。液滴が流れから分離したとき、液滴が分離した瞬間に印加された電圧に比例した電荷を各液滴が運搬する。液滴が作られるのと同一速度において荷電電極電圧を変えることにより、全ての液滴は所定のレベルに荷電することができる。液滴流はその飛行を続け、たとえば＋／−０．１ｋＶ〜＋／−５ｋＶまたは、たとえば＋／−１ｋＶ〜＋／−３ｋＶの一定電位に維持された二つのデフレクタープレートの間を通過する。この電界の存在において、液滴は、運搬された電荷に比例した量によりプレートの一つの方に偏向する。荷電されてない液滴は偏向せず、溝に集められ、インクノズルに再利用される。荷電され、それ故偏向された液滴は、液滴偏向の方向へ直角に運動する放射エネルギー感受性物質に衝突する。個々の液滴上の電荷を変えることにより、所望のパターンを適用することができる。液滴のサイズは、直径は３０μｍ〜１００μｍ、またはたとえば４０μｍ〜８０μｍ、またはたとえば５０μｍ〜７０μｍの範囲となり得る。

このインクジェットプロセスは、連続変動データの高速適用のためのコンピューター制御に適合可能である。インクジェット印刷法は、三つの一般的カテゴリーに分類することができる：高圧（１０ｐｓｉ以上）、低圧（１０ｐｓｉ未満）および真空の技術である。全ては当分野で公知でありまたは文献に記載されており、かつ放射エネルギー感受性物質への光減衰組成物の適用に用いられ得る。

光減衰組成物は、２５℃を超える温度、またはたとえば５０℃〜２５０℃、またはたとえば１００℃〜１５０℃の温度で、５ｃｐ〜２５ｃｐ、またはたとえば５ｃｐ〜２０ｃｐ、またはたとえば１０ｃｐ〜１５ｃｐの粘度においてインクジェットから適用される。光遮光組成物の擬似粘度は、２５℃以下の温度、またはたとえば１５℃〜２３℃の温度において、１０，０００ｃｐ以上、またはたとえば２０，０００ｃｐ〜１００，０００ｃｐまたはたとえば３０，０００ｃｐ〜７０，０００ｃｐである。かかる擬似粘度は、光減衰組成物が室温に冷めた後である。

上記したポリマーおよびかかるポリマー量もまた、所望の粘度および擬似粘度の形成に寄与する。上記した任意成分をまた使用して、所望の粘度および擬似粘度を得る。光減衰組成物は、インクジェット装置のノズルにおいて薄く（５ｃｐ〜２５ｃｐ）、基体への適用の後で増粘（１０，０００ｃｐ以上）される。

マスクが放射エネルギー感受性物質の任意部分と共に除去された後、パターンが基体上に残される。パターン形成された基体は更に処理されてもよく、またはパターン形成された基体は完成した製品であってもよい。ソルダーマスクの場合は、基体上に残された材料の部分は、ＵＶ線またはＵＶ熱線で硬化される。従来法を使用することができる。

エレクトロニクス製品に用いられる基体は、１以上の金属層をパターンにより形成されるスペースおよび経路に堆積させることにより更に処理することができる。金属または金属合金は、無電解的に、電解的にまたは浸漬により堆積することができる。任意の好適な無電解、電解および浸漬の浴および方法を、金属または金属合金層を堆積するために使用することができる。多くのかかる浴は商業的に入手可能であり、または文献より容易に製造することができる。また、多くの方法が当該技術分野および文献で知られている。堆積することができる金属としては、これらに限定されないが、貴金属および卑金属およびそれらの合金が挙げられる。好適な貴金属の例としては、金、銀、白金、パラジウムおよびそれらの合金が挙げられる。好適な卑金属の例としては、銅、ニッケル、コバルト、鉛、鉄、ビスマス、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、ルビジウム、インジウムおよびそれらの合金が挙げられる。

金属または金属合金堆積物を含有する基体は、たとえば積層化等により共に結合されて、多層プリント回路板を形成することができる。種々の積層化プロセスは当該技術分野で知られており、または文献に記載されている。多層プリント配線板の製造に関係する一つの問題は、上記したレジストレーションである。レジストレーションは、プリント配線板上の所望の配置または板のその他の面上にある別パターンに対する、１以上のプリント配線パターンまたはその一部の相対的な位置である。多層プリント配線板の製造における課題の一つは、十分な内層レジストレーションを得ることである。内部フィーチャーはお互いが正確に位置合わせされなければならず、かつそれらは任意の開けられたホールに対し正確に位置合わせされなければならない。ホール対内層のミスレジストレーションは、二つの潜在的な信頼性の問題を生じる：ホール対ライン接続の失敗、およびホールと絶縁コンダクターとの間の短絡である。内層のミスレジストレーションは、また、電気抵抗を増加させ、導電性を減少させる。重大なミスレジストレーションは、開放回路状態、即ち導通の完全な喪失を生じさせる。

本発明の方法は、ミスレジストレーション問題を解決する。たとえば、インクジェットによる光減衰組成物の適用は、基体上の放射エネルギー感受性物質上の選択された地点での組成物の正確な堆積を許容する。かかる選択的堆積は、複数基体について信頼性ある正確さを以って繰り返することができる。何故ならインクジェットは、正確な繰り返し適用のためにデジタル方式でプログラムすることができるからである。更に、かかるプログラムは、取り付け不良を感知しおよびマスクパターンの再設計をして隣接する基体間のミスレジストレーションを防ぐことによりミスレジストレーション問題を修正することができる。

例示される態様において、プリント回路板をはじめとする基体上へのソルダーマスクの形成において、光減衰組成物をフォトレジスト上にまたはドライフィルムフォトレジストのカバーシート上に選択的に堆積することができる。ソルダーマスクは、不導体の硬質の耐久性層であり、それはプリント回路の回路トレースを封止してプリント回路板の表面を被覆する。光減衰組成物は、ソルダーマスクが最終製品において回路トレースを被覆してマスクがパターンの輪郭を描けるようにプリント回路版上のフォトレジストに選択的に適用することができる。光減衰組成物の選択的適用は、インクジェットにより遂行することができる。

ポジ型およびネガ型フォトレジストは、液体およびドライフィルムと同様に使用することができる。たとえば、光減衰組成物がマスクとしてネガ型フォトレジストに適用される場合には、マスクおよびフォトレジスト双方は、化学線で露光後に塩基性水溶液で除去することができる。光減衰組成物がマスクとしてポジ型フォトレジストに適用される場合には、マスクおよび露光されたフォトレジスト双方は、塩基性水溶液で除去することができる。基体上に残るフォトレジストの部分は、従来法を使用して硬化することができ、基体は本工業界で知られた方法に従い更に任意に加工することができる。

光減衰組成物およびマスク形成の方法は、任意の好適な放射エネルギー感受性物質上に実施することができる。典型的には、かかる材料は、マスク形成前に基体上に塗布または積層化される。好適な基体の例としては、これらに限定されないが、金属および誘電体、たとえばセラミック、ガラス、プラスチック、ＦＲ４プリント配線板におけるようなエポキシ／ファイバーグラス材料が挙げられる。

次の実施例は、本発明を更に例示するよう意図されたもので、その範囲を限定するよう意図されたものでない。

実施例１
インクジェット可能組成物
下記の表は、インクジェット可能組成物の７つの実施例を開示する。

全７つの処方物を、同一法により調製した。ポリマーを、始めに溶融し、液体または粘性の半固体を形成した。残りの成分を、液化または粘性半固体に添加および混合し、均質組成物を形成した。各組成物を、次いで室温に冷却し固体を形成した。

各処方物の粘度を、１１０℃、１２０℃または１３０℃において測定した。粘度は、ブルックフィールド粘度計およびサーモセル（ｔｈｅｒｍｏｓｅｌ）付属品を使用して測定した。全ての粘度は、上記の表に示されたように２５センチポイズより下であった。処方物は慣用のインクジェット装置を使用したインクジェットに好適であった。

実施例２
処方物のインクジェット
実施例１の表からの処方物５を、ソルダーマスクの付いた銅パネル上に圧電ドロップオンディマンドプリントヘッド（ＳｐｅｃｔｒａＡｐｏｌｌｏ社）からインクジェットした。インクジェット過程での温度は、１２５℃であった。平均３５ナノグラムの液滴を、平均速度６．５ｍ／ｓでプリントヘッドから射出した。速度を慣用のドロップウォチャー（ｄｒｏｐｗａｃｈｅｒ）で測定した。処方物５は慣用のドロップオンディマンドインクジェット装置についての使用に好適であった。

実施例３
光減衰

上記の処方物を有するアクリル／エポキシソルダーマスクを、１０個の機械的に磨かれた銅パネルのそれぞれの上に堆積し、その後各パネル上のソルダーマスクの粘着性が無くなるまで７７℃で４０分間、乾燥した。実施例１の処方物３の成分を有するマスキング組成物を、１２０℃において圧電ドロップオンディマンドプリントヘッド（ＳｐｅｃｔｒａＡｐｏｌｌｏ社）を使用して各ソルダーマスクに選択的に適用した。銅パネル、ソルダーマスクおよびマスキング組成物の複合物を、広範囲のＵＶ／可視光源（キセノン水銀ランプ）で露光した。波長４２５ｎｍ以下の光が、マスキング組成物により被覆されたソルダーマスクの部分において減衰された。

各パネルを、マスキング組成物およびそのマスキング組成物の下のソルダーマスクが除去されるように、３０℃において１重量％の炭酸カリウムおよびナトリウム水溶液を使用して現像した。露光されたソルダーマスクは、クリア銅１２ステップ（ｃｌｅａｒｃｏｐｐｅｒ１２ｓｔｅｐ）（２１ステップウェッジ（ｓｔｅｐｗｅｄｇｅ））におけるものであり、適正な硬化度を示していた。

実施例４
光減退
実施例３と同一の操作を実施例１の処方物６について行った。マスキング組成物は広範囲のＵＶ／可視光源から４２５ｎｍ以下の波長を減衰し、それを被覆したソルダーマスクが化学変化を受けてアルカリ抵抗性ソルダーマスクを形成することを妨げた。１重量％炭酸ナトリウム水溶液での現像に際して、マスキング組成物およびマスキング組成物でコートしたソルダーマスクを除去した。ＵＶ／可視光線で露光されたソルダーマスクを、クリア銅１２ステップ（２１ステップウェッジ）におけるものであった。

実施例５
現像時間
１０個の銅パネルを、機械的に研磨した。１ｃｍ幅および５ｃｍ長さの黒い、水溶性インク（サンフォード社製）の二本の線を各パネル上に引いた。インクを室温で乾燥させた。実施例１の処方物３を有するマスキング組成物を、圧電ドロップオンディマンドインクジェットヘッドを使用して５０ミクロンの厚さで各パネル上のインク線上に堆積させた。マスキング組成物を、１２５℃の温度において堆積させた。

マスキング組成物を各パネル上で乾燥させた後、パネルを３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶液を使用して現像した。現像時間を、マスキング組成物直下のインクの除去により、目視的に表われた、マスキング組成物を除去するのに要した時間として決定した。ストップウォッチを現像の時間の決定に使用した。平均現像時間は７秒であった。短い現像時間により、フォトレジストが現像液に暴露される時間を最少化した。これは言い換えると、現像液が硬化レジストを攻撃することができる時間を減少させた。

実施例６
現像時間
実施例５において記載されたのと同一の手順を実施例１の処方物７を使用して遂行した。平均現像時間は３秒であった。マスキング組成物は更に改良された現像時間を示した。

実施例７
インクジェット可能組成物
下記の表における処方物を、実施例１において記載された組成物と同一の方法により調製する。

本組成物は４２５ｎｍ以下の光を減衰する。粘度を、サーモセル付属物を有するブルックフィールド粘度計を使用して測定し、１２０℃で１８センチポイズであると決定する。処方物は慣用のインクジェット装置を使用したインクジェットによる適用に好適である。

実施例８
ドライフィルム上のインクジェット
２５μ厚のシート状のＰＥＴのカバーシート、５０μ厚の層を形成するフォト画像形成可能組成物および２５μ厚のポリエチレン保護シートを有するソルダーマスクのためのドライフィルム製品を調製する。フォト画像形成可能組成物を下記のように配合する。

下記の表における光減衰処方物を実施例１において記載された組成物と同一の方法により調製する。

本組成物は４２５ｎｍ以下の光を減衰する。粘度はサーモセル付属物を有するブルックフィールド粘度計を使用して測定し、１２０℃において１５センチポイズであると決定する。ドライフィルム物品を銅クラッド配線板上に積層化し、ポリエチレン保護シートを除去しＰＥＴカバーシートを露出させる。表８ｂの光減衰組成物をＰＥＴカバーシートに選択的に適用し、ＰＥＴカバーシート上にパターンを形成する。光減衰組成物を１２０℃において圧電ドロップオンディマンドプリントヘッド（ＳｐｅｃｔｒａＡｐｏｌｌｏ社）を使用して適用する。

銅クラッド配線板、ＰＥＴカバーシートを有するドライフィルム、および選択的塗布光減衰組成物の複合物を、広範囲のＵＶ／可視光線（キセノン水銀ランプ）で露光する。４２５ｎｍ以下の波長の光は光減衰組成物でコートされたドライフィルムの部分において減衰される。

光減衰組成物を有するＰＥＴカバーシートを、ドライフィルムから剥離する。１％炭酸ナトリウムの現像液を、３０℃においてドライフィルムに適用する。光減衰組成物によりマスクされた部分を、パターン化されたソルダーマスクを形成して現像除去する。

実施例９
ドライフィルム上のインクジェット可能組成物
下記の表中の光減衰処方物を、実施例１に記載された組成物と同一の方法で調製する。

本組成物は４２５ｎｍ以下の光を減衰する。粘度はサーモセル付属物を有するブルックフィールド粘度計を使用して測定し、１２０℃において１８センチポイズであると決定する。処方物は慣用のインクジェット装置を使用したインクジェットによる適用に好適である。それを実施例８からのドライフィルム処方物に選択的に適用し、実施例８に記載されたドライフィルム上にパターンを形成するために使用する。

実施例１０
ポリオキシアルキレンアミン処方物
下記の表中の処方物を実施例１に記載された組成物と同一の方法により調製する：

本組成物は４２５ｎｍ以下の光を減衰する。粘度はサーモセル付属物を有するブルックフィールド粘度計を使用して測定し、１２０℃において１８センチポイズであると決定する。処方物は慣用のインクジェット装置を使用したインクジェットによる適用に好適である。

Claims

少なくともＵＶ範囲にある光を減衰させるための１以上の化合物、および１以上の水溶性または水分散性ポリマーを含む組成物。
１以上の酸化防止剤、１以上の有機酸、またはこれらの混合物を更に含む、請求項１に記載の組成物。
１以上の光減衰化合物が吸収剤、感光剤、光開始剤、染料および顔料から選択される、請求項１に記載の組成物。
１以上の光減衰化合物が８００ｎｍ以下の波長の光を減衰させる、請求項１に記載の組成物。
１以上の水溶性または水分散性ポリマーが、該組成物を水または塩基性水溶液で基体から１分以内に除去することを可能にする、請求項１に記載の組成物。
少なくともＵＶ範囲にある光を減衰させるための１以上の化合物、１以上の水溶性もしくは水分散性ポリマー、１以上の酸化防止剤、および１以上の有機酸から本質的になる組成物であって、１以上の水溶性または水分散性ポリマーが該組成物を水または塩基性水溶液により基体から１分以内に除去することを可能にする、組成物。
ａ）基体上に放射エネルギー感受性組成物または物品を堆積し；
ｂ）放射エネルギー感受性組成物または物品上にマスキング組成物を選択的に堆積し、（ここでマスキング組成物は少なくともＵＶ範囲にある光を減衰する１以上の化合物、および１以上の水溶性または水分散性ポリマーを含み）、複合物を形成し；
ｃ）化学線を該複合物に適用し；および
ｄ）現像液を該複合物に適用して基体上に画像を形成すること
を含む方法。
マスキング組成物がインクジェットにより放射エネルギー感受性組成物または物品上に堆積される、請求項７に記載の方法。
マスキング組成物が８００ｎｍ以下の波長の光を減衰させる、請求項７に記載の方法。
インクジェッティング過程における該マスキング組成物の粘度が２５ｃｐｓ以下である、請求項７に記載の方法。