JPH1150009A - 防曇性塗膜、防曇性物品および防曇性塗膜形成用組成物 - Google Patents
防曇性塗膜、防曇性物品および防曇性塗膜形成用組成物Info
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- JPH1150009A JPH1150009A JP9206102A JP20610297A JPH1150009A JP H1150009 A JPH1150009 A JP H1150009A JP 9206102 A JP9206102 A JP 9206102A JP 20610297 A JP20610297 A JP 20610297A JP H1150009 A JPH1150009 A JP H1150009A
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/42—Sulfonic acids; Derivatives thereof
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- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐候性および透明性に優れた防曇性塗膜、防
曇性物品および防曇性組成物を得る。 【解決手段】 親水性高分子と特定のベンゾフェノン系
化合物に含有させる。
曇性物品および防曇性組成物を得る。 【解決手段】 親水性高分子と特定のベンゾフェノン系
化合物に含有させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐候性、透明性お
よび基材との密着性に優れた防曇性塗膜に関する。さら
に硝子、プラスチック、金属、鏡等の基材上に前記防曇
性塗膜を有する防曇性物品および前記防曇性塗膜の形成
に供する組成物に関する。
よび基材との密着性に優れた防曇性塗膜に関する。さら
に硝子、プラスチック、金属、鏡等の基材上に前記防曇
性塗膜を有する防曇性物品および前記防曇性塗膜の形成
に供する組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】硝子、プラスチック、金属、鏡等の基材
を用いた物品の欠点は、高温高湿の場所または温度や湿
度差の大きい環境などにおいて使用すると表面に微細な
水滴が付着し、曇りが発生することである。
を用いた物品の欠点は、高温高湿の場所または温度や湿
度差の大きい環境などにおいて使用すると表面に微細な
水滴が付着し、曇りが発生することである。
【０００３】しかしながらこれら親水性高分子を含む防
曇層は耐水性が悪く、さらに防曇層の太陽光による劣化
が起こり、耐候性に問題があった。一方、耐水性を向上
させる方法として、コロイダルシリカと界面活性剤を含
有する組成物を塗布する方法も知られているが、透明
性、防曇性に問題があった。
曇層は耐水性が悪く、さらに防曇層の太陽光による劣化
が起こり、耐候性に問題があった。一方、耐水性を向上
させる方法として、コロイダルシリカと界面活性剤を含
有する組成物を塗布する方法も知られているが、透明
性、防曇性に問題があった。
【０００４】また、耐候性を向上させる目的でベンゾト
リアゾール系化合物などの紫外線吸収剤の添加による改
良も行われているが、耐候性は改善されるものの透明性
が低下するなどの問題点があった。
リアゾール系化合物などの紫外線吸収剤の添加による改
良も行われているが、耐候性は改善されるものの透明性
が低下するなどの問題点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の技
術においては、耐水性に優れ、かつ耐候性と透明性を満
足するものは得られなかった。本発明は、上記の問題点
を解決するもので、その目的は耐水性は勿論のこと、耐
候性および透明性に優れた防曇性塗膜、防曇性物品およ
び防曇性組成物を提供することにある。
術においては、耐水性に優れ、かつ耐候性と透明性を満
足するものは得られなかった。本発明は、上記の問題点
を解決するもので、その目的は耐水性は勿論のこと、耐
候性および透明性に優れた防曇性塗膜、防曇性物品およ
び防曇性組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、親水性高分子
および一般式（Ｉ）で表わされるベンゾフェノン系化合
物を含むことを特徴とする防曇性塗膜である。
および一般式（Ｉ）で表わされるベンゾフェノン系化合
物を含むことを特徴とする防曇性塗膜である。
【０００７】
【外３】 （Ｉ）式中Ｘ1 〜Ｘ10は、水素、ヒドロキシル基、スル
ホン酸基、カルボキシル基、アシル基、エステル基、エ
ーテル基、炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシル
基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基およびヒドロキシ
アルコキシル基から選ばれる基であって同一でも異なる
ものでもよい。但し、Ｘ1 〜Ｘ10の少なくとも１はヒド
ロキシル基およびスルホン酸基から選ばれる基である。
ホン酸基、カルボキシル基、アシル基、エステル基、エ
ーテル基、炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシル
基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基およびヒドロキシ
アルコキシル基から選ばれる基であって同一でも異なる
ものでもよい。但し、Ｘ1 〜Ｘ10の少なくとも１はヒド
ロキシル基およびスルホン酸基から選ばれる基である。
【０００８】本発明による防曇性塗膜は、優れた耐候性
を有するのみならず、透明性および耐水性に非常に優
れ、その上基材に対する密着性が非常に優れているもの
である。耐候性は主にベンゾフェノン系化合物が紫外線
吸収剤およびラジカル捕捉剤として作用するものである
が、前記ベンゾフェノン系化合物と親水性高分子との相
溶性が優れているため親水性高分子マトリックス中にベ
ンゾフェノン系化合物が微細に分散乃至溶解することに
より高度に発揮されると推定され、同時に塗膜の透明性
も保持される。さらにベンゾフェノン系化合物と親水性
高分子の間の相互作用が塗膜と基材との密着性、耐水性
の向上にも寄与しているものと推定される。防曇性塗膜
の耐候性は、ベンゾフェノン系化合物とともに、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン系ヒンダー
ドアミン化合物を含有させることで一層向上する。
を有するのみならず、透明性および耐水性に非常に優
れ、その上基材に対する密着性が非常に優れているもの
である。耐候性は主にベンゾフェノン系化合物が紫外線
吸収剤およびラジカル捕捉剤として作用するものである
が、前記ベンゾフェノン系化合物と親水性高分子との相
溶性が優れているため親水性高分子マトリックス中にベ
ンゾフェノン系化合物が微細に分散乃至溶解することに
より高度に発揮されると推定され、同時に塗膜の透明性
も保持される。さらにベンゾフェノン系化合物と親水性
高分子の間の相互作用が塗膜と基材との密着性、耐水性
の向上にも寄与しているものと推定される。防曇性塗膜
の耐候性は、ベンゾフェノン系化合物とともに、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン系ヒンダー
ドアミン化合物を含有させることで一層向上する。
【０００９】本発明で用いられる親水性高分子として
は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレングリコール、ポリビニルエーテル、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレン
イミン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸等の有機高分子化合物の他に無機アルコキシ
ドの加水分解縮合生成物などがあげられる。これらの親
水性高分子は、１種または２種以上、混合して使用でき
る。また、上記親水性高分子の共重合体も使用できる。
あるいは、親水性を損ねない範囲で、その他の共重合可
能なモノマーとの共重合体も使用できる。
は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレングリコール、ポリビニルエーテル、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレン
イミン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸等の有機高分子化合物の他に無機アルコキシ
ドの加水分解縮合生成物などがあげられる。これらの親
水性高分子は、１種または２種以上、混合して使用でき
る。また、上記親水性高分子の共重合体も使用できる。
あるいは、親水性を損ねない範囲で、その他の共重合可
能なモノマーとの共重合体も使用できる。
【００１０】さらに親水性高分子に、メラミン系、尿素
系等のアミノプラスト樹脂、エポキシ樹脂等の架橋剤を
適宜、配合することも可能である。
系等のアミノプラスト樹脂、エポキシ樹脂等の架橋剤を
適宜、配合することも可能である。
【００１１】本発明に用いられる一般式（Ｉ）に示され
るベンゾフェノン系化合物の炭化水素基としては、飽和
脂肪族系、不飽和樹脂族系、脂環式系、または芳香族系
のものが挙げられ、炭素数１〜１０のものが好適であ
る。
るベンゾフェノン系化合物の炭化水素基としては、飽和
脂肪族系、不飽和樹脂族系、脂環式系、または芳香族系
のものが挙げられ、炭素数１〜１０のものが好適であ
る。
【００１２】また、Ｘ1 、Ｘ5 、Ｘ6 、Ｘ10の少なくと
も１がヒドロキシル基であるベンゾフェノン系化合物が
好適である。
も１がヒドロキシル基であるベンゾフェノン系化合物が
好適である。
【００１３】例えば２，２’，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン等があげられる。
キシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン等があげられる。
【００１４】また、ここで用いられるベンゾフェノン系
化合物は親水性高分子に混合されるが、親水性高分子は
水、アルコール類又はそれらの混合物に溶解して使用さ
れるのが一般的であり、該ベンゾフェノン系化合物は水
および／又はアルコール類、中でも炭素数４以下のアル
コール類に対する溶解性を持つものが好ましい。
化合物は親水性高分子に混合されるが、親水性高分子は
水、アルコール類又はそれらの混合物に溶解して使用さ
れるのが一般的であり、該ベンゾフェノン系化合物は水
および／又はアルコール類、中でも炭素数４以下のアル
コール類に対する溶解性を持つものが好ましい。
【００１５】具体的には５重量％（ａｔ２５℃）以上の
水溶性又は５重量％（ａｔ２５℃）以上のアルコール溶
解性を有するものであることが好ましく、さらに１０重
量％（ａｔ２５℃）以上のメタノール溶解性を有するも
のであることが好ましく、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノンが好適に使用される。
水溶性又は５重量％（ａｔ２５℃）以上のアルコール溶
解性を有するものであることが好ましく、さらに１０重
量％（ａｔ２５℃）以上のメタノール溶解性を有するも
のであることが好ましく、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノンが好適に使用される。
【００１６】ベンゾフェノン系化合物の配合量は、親水
性高分子１００重量部に対して０．０１〜１０重量部で
あり、好ましくは１〜５重量部である。
性高分子１００重量部に対して０．０１〜１０重量部で
あり、好ましくは１〜５重量部である。
【００１７】本発明で用いられる２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジン系ヒンダードアミン化合物と
しては、例えばビス−［Ｎ−ホルミル−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメ
チレン、ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート等があげられる。
ラメチル−４−ピペリジン系ヒンダードアミン化合物と
しては、例えばビス−［Ｎ−ホルミル−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメ
チレン、ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート等があげられる。
【００１８】その中で好ましいのは、前記ベンゾフェノ
ン系化合物の場合と同様に水および／又はアルコール
類、中でも炭素数４以下のアルコール類に対する溶解性
を持つものである。具体的には５重量％（ａｔ２５℃）
以上の水溶性又は５重量％（ａｔ２５℃）以上のアルコ
ール溶解性を有するものであることが好ましく、さらに
１０重量％（ａｔ２５℃）以上のメタノール溶解性を有
するものであることが好ましく、ビス−［Ｎ−ホルミル
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ］ヘキサメチレンが好適に使用される。
ン系化合物の場合と同様に水および／又はアルコール
類、中でも炭素数４以下のアルコール類に対する溶解性
を持つものである。具体的には５重量％（ａｔ２５℃）
以上の水溶性又は５重量％（ａｔ２５℃）以上のアルコ
ール溶解性を有するものであることが好ましく、さらに
１０重量％（ａｔ２５℃）以上のメタノール溶解性を有
するものであることが好ましく、ビス−［Ｎ−ホルミル
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ］ヘキサメチレンが好適に使用される。
【００１９】ヒンダードアミン化合物の配合量は、親水
性高分子１００重量部に対して０．０１〜１０重量部で
あり、好ましくは１〜５重量部である。
性高分子１００重量部に対して０．０１〜１０重量部で
あり、好ましくは１〜５重量部である。
【００２０】本発明の防曇性塗膜を有する防曇性物品
は、溶媒に溶解した上記組成物をスプレーコート、バー
コート、ロールコート、カーテンフローコート、ディッ
プコート、スピンコート等の任意の方法で基材に塗布し
た後、加熱乾燥させることにより得られる。
は、溶媒に溶解した上記組成物をスプレーコート、バー
コート、ロールコート、カーテンフローコート、ディッ
プコート、スピンコート等の任意の方法で基材に塗布し
た後、加熱乾燥させることにより得られる。
【００２１】溶媒は、上記組成物を溶解するものであれ
ばいずれの溶媒でも用いることができるが、水との相溶
性の良いものが一般的に使用される。例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類や、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジエチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のグリコール類およびその
エーテル類、酢酸エチル等のエステル類などの一種又は
二種以上の混合体があげられる。
ばいずれの溶媒でも用いることができるが、水との相溶
性の良いものが一般的に使用される。例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類や、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジエチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のグリコール類およびその
エーテル類、酢酸エチル等のエステル類などの一種又は
二種以上の混合体があげられる。
【００２２】又、これらの溶媒に水を配合することもで
きる。
きる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下に実施例および比較例を示
し、本発明をさらに具体的に説明する。
し、本発明をさらに具体的に説明する。
【００２４】（実施例−１）ポリビニルアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８モル％）１０重量部
を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシ
メチロールメラミン０．５重量部、パラトルエンスルホ
ン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０
分間撹拌した。
平均重合度２０００、けん化度８８モル％）１０重量部
を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシ
メチロールメラミン０．５重量部、パラトルエンスルホ
ン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０
分間撹拌した。
【００２５】この様にして得られた防曇性組成物を硝子
坂上にディップコートし、１６０℃で３０分間乾燥して
防曇性物品を得た。
坂上にディップコートし、１６０℃で３０分間乾燥して
防曇性物品を得た。
【００２６】（実施例−２）実施例−１において、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベン
ゾフェノンを用いたこと以外は同様にして防曇性物品を
得た。
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベン
ゾフェノンを用いたこと以外は同様にして防曇性物品を
得た。
【００２７】（実施例−３）実施例−１において、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンを用いたこ
と以外は同様にして防曇性物品を得た。
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンを用いたこ
と以外は同様にして防曇性物品を得た。
【００２８】（実施例−４）実施例−１において、防曇
性組成物にさらにビス−［Ｎ−ホルミル−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキ
サメチレン０．３重量部を配合したこと以外は同様にし
て防曇性物品を得た。
性組成物にさらにビス−［Ｎ−ホルミル−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキ
サメチレン０．３重量部を配合したこと以外は同様にし
て防曇性物品を得た。
【００２９】（実施例−５）実施例−２において、防曇
性組成物にさらにビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート０．３重量部を配合した
こと以外は同様にして防曇性物品を得た。
性組成物にさらにビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート０．３重量部を配合した
こと以外は同様にして防曇性物品を得た。
【００３０】（比較例−１）実施例−１において、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
を用いたこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
を用いたこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
【００３１】（比較例−２）実施例−１において、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを加
えなかったこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを加
えなかったこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
【００３２】（比較例−３）実施例−１において、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−
５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ルを用いたこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの代
わりに２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−
５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ルを用いたこと以外は同様にして防曇性物品を得た。
【００３３】実施例および比較例について、下記の試験
法で評価を行った。結果は表１にまとめて示した。
法で評価を行った。結果は表１にまとめて示した。
【００３４】〔防曇性〕 防曇性成形物を７０℃の温水
の水面１ｃｍの所に５秒間おいた時の曇りの状態を目視
で観察し、以下の基準で評価した。
の水面１ｃｍの所に５秒間おいた時の曇りの状態を目視
で観察し、以下の基準で評価した。
【００３５】〇…曇りを生じない △…わずかに曇るがすぐに消える ×…曇る
【００３６】〔耐水性〕 防曇性成形物を２０℃の水に
３０秒間浸漬し、１００℃で１０分間乾燥した後、７０
℃の温水の水面１ｃｍの所に５秒間おいた時の曇りの状
態を目視で観察し、以下の基準で評価した。
３０秒間浸漬し、１００℃で１０分間乾燥した後、７０
℃の温水の水面１ｃｍの所に５秒間おいた時の曇りの状
態を目視で観察し、以下の基準で評価した。
【００３７】〇…曇りを生じない △…わずかに曇るがすぐに消える ×…曇る
【００３８】〔密着性〕 シルボン紙に水をしみ込ま
せ、荷重１００ｇで１０回往復拭き、塗膜の状態を目視
で観察し、以下の基準で評価した。
せ、荷重１００ｇで１０回往復拭き、塗膜の状態を目視
で観察し、以下の基準で評価した。
【００３９】〇…変化なし △…一部はがれる ×…はがれる
【００４０】〔耐候性〕 キセノンロングライフウエザ
ーメーターにおいてブラックパネル温度６３℃、湿度７
０％の条件下で防曇性成形物に対して紫外線を１００時
間照射させ、上記の防曇性、耐水性、密着性試験を行っ
た。
ーメーターにおいてブラックパネル温度６３℃、湿度７
０％の条件下で防曇性成形物に対して紫外線を１００時
間照射させ、上記の防曇性、耐水性、密着性試験を行っ
た。
【００４１】〔透明性〕 防曇性成形物の透明性を目視
で観察し、以下の基準で評価した。
で観察し、以下の基準で評価した。
【００４２】〇…透明である △…わずかに着色および／又は濁り ×…着色および／又は濁り
【００４３】
【表１】
【００４４】
【発明の効果】本発明の防曇性組成物を硝子、プラスチ
ック、金属、鏡等の基材に塗布することにより耐候性、
透明性および密着性に優れた防曇性塗膜、防曇性物品お
よび防曇性組成物を提供することができる。
ック、金属、鏡等の基材に塗布することにより耐候性、
透明性および密着性に優れた防曇性塗膜、防曇性物品お
よび防曇性組成物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/42 Ｃ０８Ｋ 5/42 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０９Ｄ 129/04 Ｃ０９Ｄ 129/04 131/04 131/04 133/02 133/02 133/26 133/26 139/06 139/06 171/02 171/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｆ 5/08 1/10 Ｚ (72)発明者 榊原 悌互 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 宇久田 秀雄 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (14)
- 【請求項１】 親水性高分子および一般式（Ｉ）で表わ
されるベンゾフェノン系化合物を含むことを特徴とする
防曇性塗膜。 【外１】 （Ｉ）式中Ｘ1 〜Ｘ10は、水素、ヒドロキシル基、スル
ホン酸基、カルボキシル基、アシル基、エステル基、エ
ーテル基、炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシル
基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基およびヒドロキシ
アルコキシル基から選ばれる基であって同一でも異なる
ものでもよい。但し、Ｘ1 〜Ｘ10の少なくとも１はヒド
ロキシル基およびスルホン酸基から選ばれる基である。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン
系化合物のＸ1 、Ｘ5 、Ｘ6 およびＸ10の少なくとも１
がヒドロキシル基である請求項１記載の防曇性塗膜。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン
系化合物が５重量％（ａｔ２５℃）以上の水溶性又は５
重量％（ａｔ２５℃）以上のアルコール溶解性を有する
ものである請求項１記載の防曇性塗膜。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン
系化合物が１０重量％（ａｔ２５℃）以上のメタノール
溶解性を有するものである請求項１記載の防曇性塗膜。 - 【請求項５】 ベンゾフェノン系化合物が親水性高分子
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部含有してい
る請求項１記載の防曇性塗膜。 - 【請求項６】 さらに２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む請求項
１記載の防曇性塗膜。 - 【請求項７】 ２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジン系ヒンダードアミン化合物が５重量％（ａｔ２
５℃）以上の水溶性又は５重量％（ａｔ２５℃）以上の
アルコール溶解性を有するものである請求項６記載の防
曇性塗膜。 - 【請求項８】 ２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジン系ヒンダードアミン化合物が１０重量％（ａｔ
２５℃）以上のメタノール溶解性を有するものである請
求項７記載の防曇性塗膜。 - 【請求項９】 ベンゾフェノン系化合物が親水性高分子
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部および２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン系ヒンダー
ドアミン化合物が水性高分子１００重量部に対して０．
０１〜１０重量部含有している請求項６記載の防曇性塗
膜。 - 【請求項１０】 請求項１〜９記載の防曇性塗膜を硝子
基材上に有することを特徴とする防曇性物品。 - 【請求項１１】 請求項１〜９記載の防曇性塗膜をプラ
スチック基材上に有することを特徴とする防曇性物品。 - 【請求項１２】 請求項１〜９記載の防曇性塗膜を金属
基材上に有することを特徴とする防曇性物品。 - 【請求項１３】 親水性高分子および一般式（Ｉ）で表
わされるベンゾフェノン系化合物を含むことを特徴とす
る防曇性塗膜形成用組成物。 【外２】 （Ｉ）式中Ｘ1 〜Ｘ10は、水素、ヒドロキシル基、スル
ホン酸基、カルボキシル基、アシル基、エステル基、エ
ーテル基、炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシル
基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基およびヒドロキシ
アルコキシル基から選ばれる基であって同一でも異なる
ものでもよい。但し、Ｘ1 〜Ｘ10の少なくとも１はヒド
ロキシル基およびスルホン酸基から選ばれる基である。 - 【請求項１４】 さらに２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む請求
項１３記載の防曇性塗膜形成用組成物。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP9206102A JPH1150009A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 防曇性塗膜、防曇性物品および防曇性塗膜形成用組成物 |
| US09/119,404 US6117919A (en) | 1997-07-31 | 1998-07-21 | Anti-fogging article and composition for forming anti-fogging coating film |
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|---|---|---|---|
| JP9206102A JPH1150009A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 防曇性塗膜、防曇性物品および防曇性塗膜形成用組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1150009A true JPH1150009A (ja) | 1999-02-23 |
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|---|---|---|---|
| JP9206102A Pending JPH1150009A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 防曇性塗膜、防曇性物品および防曇性塗膜形成用組成物 |
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1998
- 1998-07-21 US US09/119,404 patent/US6117919A/en not_active Expired - Lifetime
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| US6117919A (en) | 2000-09-12 |
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