JP2006043903A

JP2006043903A - 光反射シート及びその成形品

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Publication number: JP2006043903A
Application number: JP2004224016A
Authority: JP
Inventors: Masami Kogure; 真巳木暮; Hiroyuki Kawahigashi; 宏至川東
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 2004-07-30
Filing date: 2004-07-30
Publication date: 2006-02-16
Anticipated expiration: 2024-07-30
Also published as: CN1993635A; KR20070039573A; DE112005001872T5; US20080062542A1; WO2006011532A1; CN100485423C; KR101213253B1; US7964273B2; TWI385195B; TW200619266A; JP4410054B2

Abstract

【課題】光線反射率が高く、かつ遮光性に優れた光反射シート及びその成形品を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ポリカーボネート系重合体９０〜５０質量％及び（Ｂ）酸化チタン１０〜５０質量％の組み合わせを含むポリカーボネート樹脂組成物からなる基材シートの少なくとも片面に、熱可塑性樹脂組成物で構成され、かつ内部に空隙を有する光反射層が設けられた光反射シート及びその成形品である。
【選択図】なし

Description

本発明は、光反射シート及びその成形品に関し、詳しくは、液晶用バックライトの反射板、照明器具、住宅や各種設備などで用いられる蛍光管、ＬＥＤ（発光ダイオード）、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）、プラズマ、レーザーなどの光源部品の用途に好適な光反射シート及びその成形品に関する。

一般的に光反射材の用途としては、看板、ディスプレー及び液晶バックライトなどが挙げられる。従来より用いられている光反射シートとしては、金属板、金属箔／プラスチックシート、プラスチックシートの金属蒸着品、発泡延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムなどが挙げられる。
近年、液晶用途の拡大は目覚しく、従来のノートパソコンの画面のみならず特に液晶ＴＶ用途の大幅な成長が見込まれている。５０８ｍｍ（２０インチ）以下のモニターやノートパソコンでは、光源として導光型バックライトが用いられ、液晶ＴＶ用途では５０８ｍｍ（２０インチ）以上の中型画面及び大型画面において高輝度、高精細化を実現するために、光源として直下型バックライトが用いられている。各バックライトは蛍光管を光源として、その光を効率良く液晶ユニットへ送り込むために反射板が用いられ、その反射板として様々な素材が提案されている。
導光型バックライトの反射板としては、発泡ＰＥＴフィルムが導光板の下に敷かれて用いられ、直下型液晶用バックライトの反射板としては、発泡ＰＥＴフィルム又は発泡ＰＰフィルムとＡｌ板との張り合わせ品、及び超臨界発泡ＰＥＴシートが用いられている。なかでも発泡ＰＥＴフィルム／Ａｌ板張り合わせ品を折り曲げ加工したものが多く用いられている。
本出願人も独自の酸化チタン配合技術を活かした、ポリカーボネート系高反射板材料を上市しており、また、酸化チタンの含有率の高いポリカーボネート樹脂（ＰＣ樹脂）組成物を用いて得られた押出シートを、反射板形状に熱成形することで直下型バックライトへ適用する技術を提案している（例えば、特許文献１参照）。
現状、直下型バックライト及び導光型バックライトの両方の反射材として最も使用されている発泡反射フィルム（例えば、東レ（株）製、商品名：ルミラー）はその厚みが２００μｍと薄いため、遮光性がなく、かつ新たに反射材として使用され始めている超臨界発泡ＰＥＴに比べて光線反射率が低い。また、本出願人が提案しているポリカーボネート系高反射シートは、上記発泡反射フィルムに比べると、光線反射率、遮光性ともに高いが、超臨界発泡ＰＥＴに比べて光線反射率が低い。

特開２００４−１４９６２３号公報

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、光線反射率が高く、かつ遮光性に優れた光反射シート及びその成形品を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定のポリカーボネート樹脂組成物からなる基材シートの少なくとも片面に、内部に空隙を有する光反射層を設けることにより、基材シート及び光反射層のそれぞれを単独で用いる場合よりも光線反射率が向上すると共に遮光性に優れ、かつポリカーボネート樹脂組成物からなる単層シートと同様の熱成形が可能な光反射シートが得られることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下の光反射シート及び成形品を提供するものである。

１．（Ａ）ポリカーボネート系重合体９０〜５０質量％及び（Ｂ）酸化チタン１０〜５０質量％の組み合わせを含むポリカーボネート樹脂組成物からなる基材シートの少なくとも片面に、熱可塑性樹脂組成物で構成され、かつ内部に空隙を有する光反射層が設けられたことを特徴とする光反射シート。
２．光反射層内部の空隙の平均径が０．５〜５０μｍである上記１に記載の光反射シート。
３．基材シートが熱成形により製造されたものである上記１又は２に記載の光反射シート。
４．基材シートと光反射層との間に接着剤層を有する上記１〜３のいずれかに記載の光反射シート。
５．光反射層表面に可視光領域波長の光を照射して測定した光線反射率のＹ値が少なくとも１００．５％である上記１〜４のいずれかに記載の光反射シート。
６．光反射層表面に可視光領域波長の光を照射して測定した光線透過率が０．４％以下である上記１〜５のいずれかに記載の光反射シート。
７．上記１〜６のいずれかに記載の光反射シートを熱成形してなる成形品。

本発明よれば、基材シート及び光反射層のそれぞれを単独で用いる場合よりも光線反射率が向上すると共に遮光性に優れ、かつポリカーボネート樹脂組成物からなる単層シートと同様の熱成形が可能な光反射シート及びその成形品を得ることができる。

本発明の光反射シートを構成する基材シートは、（Ａ）ポリカーボネート系重合体及び（Ｂ）酸化チタン粉末を含むポリカーボネート樹脂組成物からなるものである。
（Ａ）ポリカーボネート系重合体としては、（Ａ−０）ポリカーボネート樹脂又は（Ａ−１）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体と（Ａ−２）ポリカーボネート樹脂との混合物が挙げられる。（Ａ−０）ポリカーボネート樹脂としては、種々のものが挙げられるが、一般式（１）

で表される構造の繰り返し単位を有する重合体が好適である。上記一般式（１）において、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、ヨウ素）又は炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基）である。ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数であって、ｍが２〜４の場合はＲ¹は互いに同一であっても異なっていてもよいし、ｎが２〜４の場合はＲ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。そしてＺは、炭素数１〜８のアルキレン基又は炭素数２〜８のアルキリデン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基など）、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基又は炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基（例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基など）、あるいは単結合、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合、もしくは次の式（２）あるいは式（２' ）

で表される結合を示す。
上記重合体は、通常一般式（３）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ、ｍ及びｎは、上記一般式（１）と同じである。］

表される二価フェノールと、ホスゲンなどのカーボネート前駆体とを反応させることによって容易に製造することができる。すなわち、例えば、塩化メチレン等の溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応により製造することができる。また、二価フェノールと炭酸エステル化合物のようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応などによっても製造することができる。
上記一般式（３）で表される二価フェノールとしては様々なものを挙げることができる。特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称、ビスフェノールＡ］が好ましい。ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロデカンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンなどが挙げられる。この他、二価フェノールとしては、ハイドロキノンなどが挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。

炭酸エステル化合物としては、例えばジフェニルカーボネート等のジアリールカーボネート、ジメチルカーボネート，ジエチルカーボネート等のジアルキルカーボネートなどを挙げることができる。上記二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させてポリカーボネートを製造する際に、必要に応じて分子量調節剤を用いることができる。この分子量調節剤については特に制限はなく、従来ポリカーボネートの製造において慣用されているものを用いることができる。このようなものとしては、例えばフェノール，ｐ−クレゾール，ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール，ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール，ｐ−クミルフェノール，ｐ−ノニルフェノール，ｐ−ドデシルフェノールなどの一価フェノールを挙げることができる。

（Ａ−０）ポリカーボネート樹脂は、上記の二価フェノールの一種を用いたホモポリマーであってもよく、また二種以上を用いたコポリマーであってもよい。さらに、多官能性芳香族化合物を上記二価フェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリカーボネート樹脂であってもよい。その多官能性芳香族化合物は、一般に分岐剤と称され、具体的には、１，１，１−トリス（４−ヒドキシフェニル）エタン、α，α’，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、１−［α−メチル−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル］−４−［α’，α’−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、フロログルシン、トリメリット酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）などが挙げられる。
（Ａ−０）ポリカーボネート樹脂は、機械的強度、特にアイゾット衝撃強度及び成形性などの点から、粘度平均分子量が１３，０００〜３０，０００の範囲にあるもの、特に１５，０００〜２５，０００の範囲にあるものが好ましい。なお、その粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83の式により算出した値である。

このような特性を有するポリカーボネート樹脂は、例えばタフロンＦＮ３０００Ａ、ＦＮ２５００Ａ、ＦＮ２２００Ａ、ＦＮ１９００Ａ、ＦＮ１７００Ａ、ＦＮ１５００Ａ（商品名，出光石油化学（株）製）のような芳香族ポリカーボネート樹脂として市販されている。
（Ａ）ポリカーボネート系重合体は、好ましくは、（Ａ−１）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体と（Ａ−２）ポリカーボネート樹脂との混合物である。（Ａ−１）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（以下ＰＣ−ＰＯＳ共重合体と略記する場合もある。）には様々なものがあるが、好ましくは下記一般式（１）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ、ｍ及びｎは、上記と同じである。］

で表される構造の繰返し単位を有するポリカーボネート部と、次の一般式（４）

［式中、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ水素原子、炭素数１〜５のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基など）又はフェニル基であり、ｐ及びｑは、それぞれ０又は１以上の整数であるが、ｐとｑとの合計は１以上の整数である。］

で表される構造の繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部からなるものである。ここで、ポリカーボネート部の重合度は、３〜１００が好ましく、また、ポリオルガノシロキサン部の重合度は、２〜５００が好ましい。

上記のＰＣ−ＰＯＳ共重合体は、上記一般式（１）で表される繰返し単位を有するポリカーボネート部と、上記一般式（４）で表される繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるブロック共重合体であって、粘度平均分子量が、好ましくは１０, ０００〜４０, ０００、より好ましくは１２，０００〜３５，０００のものである。このようなＰＣ−ＰＯＳ共重合体は、例えば、予め製造されたポリカーボネート部を構成するポリカーボネートオリゴマー（以下ＰＣオリゴマーと略称する。）と、ポリオルガノシロキサン部を構成する末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリジエチルシロキサンなどのポリジアルキルシロキサンあるいはポリメチルフェニルシロキサンなど）とを、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルムなどの溶媒に溶解させ、ビスフェノールの水酸化ナトリウム水溶液を加え、触媒として、トリエチルアミンやトリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどを用い、界面重縮合反応することにより製造することができる。また、特公昭４４−３０１０５号公報に記載された方法や特公昭４５−２０５１０号公報に記載された方法によって製造されたＰＣ−ＰＯＳ共重合体を用いることもできる。

ここで、一般式（１）で表される繰返し単位を有するＰＣオリゴマーは、溶剤法、すなわち塩化メチレンなどの溶剤中で公知の酸受容体、分子量調節剤の存在下、上記一般式（３）で表される二価フェノールと、ホスゲン又は炭酸エステル化合物などのカーボネート前駆体とを反応させることによって容易に製造することができる。すなわち、例えば、塩化メチレンなどの溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応により、あるいは二価フェノールと炭酸エステル化合物のようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応などによって製造することができる。
炭酸エステル化合物及び分子量調節剤としては、上記と同様のものを使用することができる。

本発明において、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造に供されるＰＣオリゴマーは、上記の二価フェノール一種を用いたホモポリマーであってもよく、また二種以上を用いたコポリマーであってもよい。さらに、多官能性芳香族化合物を上記二価フェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリカーボネートであってもよい。
なお、ｎ−ヘキサン可溶分が１．００質量％以下のＰＣ−ＰＯＳ共重合体を製造するには、例えば共重合体中のポリオルガノシロキサン含有率を１０質量％以下にするとともに、一般式（４) で表わされる繰返し単位の数が１００以上のものを用い、かつ第３級アミンなどの触媒を５．３×１０^-3モル／（ｋｇ・オリゴマー）以上用いて上記共重合を行うことが好ましい。

次に本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物を構成する（Ａ−２）成分のポリカーボネート樹脂としては、上述した一般式（１）で表される構造の繰り返し単位を有する重合体が好適である。具体的には、（Ａ−０）ポリカーボネート樹脂において説明したとおりである。（Ａ−２）ポリカーボネート樹脂は、ホスゲンや炭酸エステル化合物等のカーボネート前駆体と反応させる二価フェノールとして、上記一般式（３）で表される化合物とは異なるものを用いたポリカーボネート樹脂であってもよい。

（Ａ）＋（Ｂ）の各成分の合計１００質量部に対して、（Ａ）成分のうちの（Ａ−１）成分の配合割合は、５〜８５質量部、好ましくは１０〜５８質量部、（Ａ−２）成分の配合割合は、０〜８０質量部、好ましくは１０〜７５質量部である。（Ａ−１）成分が５質量部以上であると、ポリオルガノシロキサンの分散性が良好となるため、充分な難燃性が得られる。また、（Ａ−１）成分及び（Ａ−２）成分が好ましい範囲では難燃性の良いものが得られる。ＰＣ−ＰＯＳ中のポリオルガノシロキサン部分の含有量は、最終的な樹脂組成物として要求される難燃性のレベルに応じて適宜選択すればよい。（Ａ−１）成分中のポリオルガノシロキサン部分の割合は、（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分の合計量に対して、好ましくは０．３〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。ここで０．３質量％以上であると充分な酸素指数が得られ、目的の難燃性が発現される。また、１０質量％以下であると、樹脂の耐熱性が低下することがないので、樹脂がコストアップすることもない。好ましい範囲ではより好適な酸素指数が得られ、優れた難燃性のものが得られる。ここで「ポリオルガノシロキサン」には、後述の（Ｄ）成分であるオルガのシロキサンに含まれるポリオルガノシロキサン成分は含めず、除外したものである。

本発明に係る（Ｂ）成分としての酸化チタンは、ポリカーボネート樹脂に高反射性と低透明性、すなわち高遮光性を付与する目的から微粉末の形態で使用されるが、各種粒度の微粉末の酸化チタンは、塩素法又は硫酸法のいずれの方法によっても製造することができる。本発明において使用される酸化チタンは、ルチル型及びアナターゼ型のいずれでもよいが、熱安定性、耐候性などの点でルチル型が好ましい。また、その微粉末粒子の形状は特に限定されるものではなく、鱗片状，球状，不定形など適宜選択使用できる。

この（Ｂ）成分として使用される酸化チタンは、アルミニウム及び／又は珪素の含水酸化物の他、アミン化合物、ポリオール化合物などで表面処理したものが好ましい。この処理をすることによりポリカーボネート樹脂組成物中での均一分散性及びその分散状態の安定性が向上する他、さらに添加する難燃剤との親和性も向上して均一な組成物製造上好ましい。ここに言うアルミニウムや珪素の含水酸化物，アミン化合物及びポリオール化合物としては、それぞれアルミナ含水物，シリカ含水物，トリエタノールアミン及びトリメチロールエタンなどを例示することができる。上記表面処理における処理方法自体は特に限定されるものではなく、任意の方法が適宜採られる。この処理により酸化チタン粒子表面に付与される表面処理剤の量は、特に限定されるものではないが、酸化チタンの光反射性、ポリカーボネート樹脂組成物の成形性を考慮すれば酸化チタンに対し０．１〜１０．０質量％程度が適当である。

本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物において、（Ｂ）成分として用いられる上記酸化チタン粉末の粒子径については特に制限はないが、上記効果を効率よく発揮するには、平均粒子径０．１〜０．５μｍ程度のものが好適である。本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物における酸化チタンの配合量は、（Ａ）＋（Ｂ）の各成分の合計１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることを要し、好ましくは２０〜５０質量部である。配合量が１０質量部以上であると、遮光性が十分となるため、光線反射率が低下することがない。また、配合量が５０質量部以下であると、混練押し出しによるペレット化が容易であり、樹脂の成形加工も容易となり、成形品におけるシルバー発生が少なくなる。とりわけ液晶テレビ、モニター用途などのバックライトに用いられる反射板や反射枠には遮光性と高い光反射性が要求されるので、（Ｂ）成分の配合量は２０〜３５質量部がより好ましい。
本発明で用いる酸化チタンの表面酸量は、１０マイクロモル／ｇ以上であることが好ましく、表面塩基量は１０マイクロモル／ｇ以上であることが好ましい。表面酸量が１０マイクロモル／ｇより小さかったり、表面塩基量が１０マイクロモル／ｇより小さい場合は、安定化剤であるオルガノシロキサン化合物との反応性が低くなるため酸化チタンの分散が不充分となり、成形体の高輝度化が不充分となるおそれがある。酸化チタンの表面酸量は、より好ましくは１５マイクロモル／ｇ以上、さらに好ましくは１６マイクロモル／ｇ以上、表面塩基量は、より好ましくは２０マイクロモル／ｇ以上、さらに好ましくは２５マイクロモル／ｇ以上である。
なお、酸化チタンの表面酸量及び表面塩基量は、非水溶液中において電位差滴定により測定する。具体的には、表面酸量は、１／１００規定のｎ−プロピルアミンのＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）溶液中に酸化チタンを分散させ、上澄み液を１／１００規定の過塩素酸のＭＩＢＫ溶液を用いて電位差滴定を行うことにより測定する。また、表面塩基量は１／１００規定の酢酸のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）溶液中に酸化チタンを分散させ、上澄み液を１／１００規定のカリウムメトキシドのＭＩＢＫ溶液を用いて電位差滴定を行うことにより測定する。

本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物には、（Ｃ）成分としてフィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレン（以下「ＰＴＦＥ」と略称する場合もある。）を配合すると、必要に応じて溶融滴下防止効果を付与し、高い難燃性を付与することができる。ＰＴＦＥの平均分子量は５００，０００以上であることが好ましく、より好ましくは５００，０００〜１０，０００，０００、さらに好ましくは１，０００，０００〜１０，０００，０００である。（Ｃ）成分は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０〜１．０質量部が好ましく、より好ましくは０．１〜０．５質量部である。この量が１．０質量部以下であると、耐衝撃性及び成形品外観に悪影響を及ぼすことがなく、また、混練押出時にストランドの吐出が脈動することがないので、安定したペレット製造を行うことができる。上記範囲では好適な溶融滴下防止効果が得られ、優れた難燃性のものが得られる。

フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）としては、特に制限はないが、例えば、ＡＳＴＭ規格によりタイプ３に分類されるものを用いることができる。このタイプに分類されるものとしては、具体的には、テフロン６−Ｊ（商品名三井・デュポンフロロケミカル社製）、ポリフロンＤ−１及びポリフロンＦ−１０３（商品名ダイキン工業（株）製）などが挙げられる。また、タイプ３以外では、アルゴフロンＦ５（商品名モンテフルオス社製）及びポリフロンＭＰＡＦＡ−１００（商品名ダイキン工業（株）製）などが挙げられる。これらのＰＴＦＥは二種以上組み合わせて用いてもよい。
上記のようなフィブリル形成能を有するＰＴＦＥは、例えば、テトラフルオロエチレンを水性溶媒中で、ナトリウム、カリウムあるいはアンモニウムパーオキシジスルフィドの存在下で、０．００７〜０．７ＭＰａの圧力下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃で重合させることによって得ることができる。

本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物には、（Ｄ）成分としてオルガノシロキサンを配合することが、樹脂の劣化を防止し、樹脂の機械的強度や安定性、耐熱性などの特性を維持する点から好ましい。具体的には、アルキル水素シリコーン、アルコキシシリコーンが挙げられる。
アルキル水素シリコーンとしては、例えば、メチル水素シリコーン、エチル水素シリコーンなどがある。アルコキシシリコーンとしては、例えば、メトキシシリコーン、エトキシシリコーンなどが挙げられる。特に好ましいアルコキシシリコーンは、具体的にはアルコキシ基が直接又は二価炭化水素基を介してケイ素原子に結合したアルコキシシリル基を含むシリコーン化合物であり、例えば、直鎖状、環状、網状及び一部分岐を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンが挙げられ、特に直鎖状オルガノポリシロキサンが好ましい。さらに具体的には、シリコーン主鎖に対してメチレン鎖を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンが好ましい。

このような（Ｄ）成分のオルガノシロキサンとしては、例えば市販の東レ・ダウコーニング（株）製のＳＨ１１０７、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０、ＢＹ１６−１６１、ＢＹ１６−１６０Ｅ、ＢＹ１６−１６１Ｅなどを好適に使用することができる。
このオルガノシロキサンの添加量は、酸化チタンの添加量にもよるが、（Ａ）＋（Ｂ）の各成分の合計１００質量部に対して０．０５〜２．０質量部の範囲が好ましい。この量が０．０５質量部以上であると、ポリカーボネート樹脂の劣化が起こりにくいので、樹脂の分子量が低下することがない。また、２．０質量部以下であると効果と経済性のバランスが良好である上、成形体表面にシルバーが発生かることがないので、製品の外観が良好となる。

本発明に係るポリカーボネート樹脂組成物には、上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の各成分の他に、必要に応じて、各種の無機質充填剤、添加剤、またはその他の合成樹脂、エラストマーなどを配合することができる。まず、ポリカーボネート樹脂組成物の機械的強度、耐久性又は増量を目的として配合される上記無機質充填剤としては、例えばガラス繊維（ＧＦ）、炭素繊維、ガラスビーズ、ガラスフレーク、カーボンブラック、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、アルミナ、シリカ、アスベスト、タルク、クレー、マイカ、石英粉などが挙げられる。また、上記添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、アミン系などの酸化防止剤、例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、例えば脂肪族カルボン酸エステル系、パラフィン系、シリコーンオイル、ポリエチレンワックスなどの外部滑剤、離型剤、帯電防止剤、着色剤などが挙げられる。その他の合成樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポスチレン、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ポリメチルメタクリレートなどの各樹脂を挙げることができる。また、エラストマーとしては、イソブチレン−イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、アクリル系エラストマーなどが挙げられる。

本発明の光反射シートを構成する光反射層は、熱可塑性樹脂組成物で構成され、かつ内部に空隙を有するものである。熱可塑性樹脂としては、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。光反射層の内部の空隙は、熱可塑性樹脂、及びこの熱可塑性樹脂とは非相溶性の無機粒子及び／又は有機粒子を含む樹脂組成物からなるシート又はフィルムを延伸することにより形成することができる。すなわち、このようなシート又はフィルムを延伸することにより、延伸フィルムに気泡を含有せしめることができ、この気泡が光反射層（延伸フィルム）における空隙となる。この場合、熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン樹脂及びポリエステル樹脂が好ましい。また、光反射層の内部の空隙は、例えば、ポリエステル樹脂組成物からなるシート又はフィルムを超臨界発泡させることにより、気泡を含有する光反射層（フィルム又はシート）を形成することができる。

光反射層内部の空隙は、光の反射効果の点から、平均径が０．３〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜４０μｍ、さらに好ましくは１〜３０μｍである。この平均径が０．３μｍ以上であると、光の反射効果が十分となり、また、平均径が５０μｍ以下であると、光反射層の表面に空隙が突出することがないので、光反射層の表面が粗面化されることもない。また、光反射層における空隙の含有率は、通常１０〜８０容量％程度、好ましくは１０〜７０容量％、より好ましくは１５〜６５容量％である。空隙の含有率が１０容量％以上であると、光の反射効果が十分となり、また、８０容量％以下であると、光反射層の表面に空隙が突出することがないので、光反射層の表面が粗面化されることもない。

上記有機粒子としては、アクリル系架橋粒子、スチレン系架橋粒子などが挙げられ、アクリル系架橋粒子及びスチレン系架橋粒子が好ましい。アクリル系架橋粒子の市販品としては、ＭＢＸ（商品名積水化成（株）製）が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ゼオライト、カオリン、タルクなどが挙げられ、シリカ及び酸化チタンが好ましい。シリカの市販品としては、ミズカシル（商品名水澤化学（株）製）が挙げられる。これらの粒子は一種を単独で又は二種以上を混合して用いることができる。
上記延伸の際のこれらの粒子の使用量は、光反射層における空隙の含有率を１０〜８０容量％程度とすることができる量であればよく、光反射層を形成する熱可塑性樹脂組成物中、通常３〜３５質量％程度、好ましくは５〜２５質量％、より好ましくは６〜２０質量％である。これらの粒子の平均粒径は、空隙の平均径を０．５〜５０μｍとすることができる大きさであればよく、通常０．０５〜１５μｍ程度、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．３〜３μｍである。
光反射層には市販のフィルム又はシートを用いることができ、例えば、ルミラー（商品名東レ（株）製）、ホワイトレフスター（商品名三井化学（株）製）及びＭＣＰＥＴ（商品名古川電気工業（株）製）などが挙げられる。

本発明の光反射シートを構成する基材シートは、以下のようにして成形される。まず、上記ＰＣ樹脂組成物を、通常１２０〜１４０℃、２〜１０時間乾燥させ、脱揮装置付き押出機で押出し、ダイス温度２００〜２６０℃程度、ロール温度１２０〜１８０℃程度でシート成形する。ここでＰＣ樹脂組成物の乾燥条件は好ましくは１３０〜１４０℃、２〜１０時間であり、さらに好ましくは１３０〜１４０℃、４〜１０時間である。
このＰＣ樹脂組成物の乾燥は一般の加熱空気、乾燥空気、真空下などの雰囲気下で行うことができる。この乾燥により材料に含まれる水分、複合化の際に生ずる揮発性の反応複生成物の多くを除去することができる。
シート成形用の押出機には脱揮装置が必要である。この脱揮装置は、溶融状態のＰＣ樹脂組成物を大気圧以下に減圧できるものであり、押出時に２．６ｋＰａ（６０ｍｍＨｇ）以下、好ましくは３．９ｋＰａ（３０ｍｍＨｇ）以下に減圧する。この減圧脱揮によりＰＣ樹脂組成物に残存する水分、複合化の際に生ずる揮発性の反応複生成物を除去するとともに、本押出成形により生成する副次的な揮発性の反応複生成物をも除去することができる。

ここで、ＰＣ樹脂組成物の乾燥及び押出成形時の脱揮が不充分であると基材シートの発泡あるいは表面状態の肌荒れが生じ、反射率が低下するか反射むらが生じやすくなる。
また、シート成形ではダイス温度は、通常２００〜２６０℃、好ましくは２００〜２５０℃、より好ましくは２００〜２４０℃である。ダイス温度が２６０℃を超えるとドローレゾナンス現象が生じ易く、結果としてシートの幅方向（特に端部）及び長手方向の偏肉を生じ、シート単体及びその熱成形品の面としての反射むらが生じ易い。これは本発明に係るＰＣ樹脂組成物において酸化チタン粉末を多量に含む場合のシート成形に生じ易い現象である。
さらに、シート成形時の冷却ロール温度は、通常１２０〜１８０℃であり、好ましくは１２０〜１７０℃である。ここですべてのロール温度が１２０℃未満であると本材料の融体の剛性が高いためニップロール間でのサイジングが難しく、幅、長手方向での表面状態の均質性が保てず、本シート単体及びその熱成形品の面としての反射むらが生じ易い。
またすべてのロール温度が１７０℃を超えるとロールへの粘着、密着により表面の密着、剥がしむらやシートのそりが生じ、均一な反射特性を有する基材シートが得られにくい。

上記光反射層は、上記基材シートに直接設けてもよいが、接着性が不足する場合には、基材シートの表面をコロナ放電処理したり下引き処理した後に光反射層を設けることが好ましい。下引き処理は、上記シート製造工程内で設ける方法（インラインコーティング法）でもよく、また、基材シートを製造した後、別途塗布して設ける方法（オフラインコーティング法）でもよい。下引き処理に使用する材料は特に限定するものではなく、適宜選択すればよいが、共重合ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、及び各種カップリング剤などが好適である。
基材シート上に光反射層を設けるには、光反射層としてのフィルム又はシートと基材シートとを単に重ね合わせるか、あるいはポリウレタン系アンカーコート剤等の接着剤を用いて貼り合わせればよい。

上記のようにして得られる本発明の光反射シートは、基材シートの少なくとも片面に光を拡散反射する光反射層が設けられたものである。基材シートの厚みは、通常０．４〜２ｍｍ程度、好ましくは０．５〜２ｍｍ、より好ましくは０．６〜１．５ｍｍである。基材シートの厚みが０．４ｍｍ以上であると、大面積の基材シートを熱成形する際にドローダウンが生じることがないため偏肉の抑制が容易であり、面内の光反射のむらが生じにくい。また、基材シートの厚みが２ｍｍ以下であると、熱成形時の加熱において、基材シートの一方の表面と、基材シートの内部と、基材シートの他方の表面とで温度差が生じにくいため、均質な反射特性の熱成形品が得られる。
光反射層の厚みは、通常０．０５〜１．５ｍｍ程度、好ましくは０．０８〜０．３ｍｍ、より好ましくは０．１〜０．２ｍｍである。光反射層の厚みが０．０５ｍｍ以上であると、光反射層における光の反射性能が十分となり、光反射層の厚みが１．５ｍｍ以下であると、光反射シートの高反射特性が良好となる。

本発明の光反射シートには、光線透過率を低下させるために、光反射層を設ける面とは反対側の基材シート表面に遮光層を設けることができる。遮光層は、アクリルウレタン系樹脂等のベース剤（バインダー）に黒色顔料を分散させた遮光性溶液を、基材シートに積層することにより形成することができる。形成する方法としては、遮光性溶液の直接グラビアロールによるコーティング、ミスト状態での噴霧、スプレー等で乾燥厚さが１〜３０μｍとなるように形成し、熱風オーブンにて８０〜１２０℃程度で乾燥させる。または遮光性樹脂との共押出も有効である。
遮光層の厚みは、通常１〜３０μｍ程度、より好ましくは１〜２０μｍ、さらに好ましくは２〜２０μｍである。遮光層の厚みが１μｍ以上であると、可視光の透過が十分に抑制され、また、３０μｍ以下であるとコーティングにより遮光層を形成する際に、乾燥効率が下がることがないので、短時間で乾燥させることができる。

本発明の光反射シートは、光反射層の表面に可視光領域波長の光を照射して測定したときの光線反射率のＹ値が少なくとも１００．５％であることが好ましく、さらに、光反射層の表面に可視光領域波長の光を照射して測定したときの光線透過率が０．４％以下であることが好ましい。上記Ｙ値は、Ｄ６５光源を用い、視野角１０度で可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の白色板（セラミックタイル）への相対反射率を測定することにより求める。
また、基材シートは、光線反射率が、好ましくは９６％以上、より好ましくは９７％以上、さらに好ましくは９８％以上であり、光線透過率が、好ましくは１％以下、より好ましくは０．９％以下、さらに好ましくは０．８％以下であることが有利である。基材シートのこのような高度の反射率は、この基材シートを構成するＰＣ樹脂組成物において、酸化チタンの含有量を調整することにより達成できる。
一方、上記のような優れた光遮蔽性を有する基材シートは、それに設けられる遮光層の調製により達成することができる。
上記Ｙ値及び光線透過率を満足すると、目的とする反射用途において充分な輝度を得ることができる。さらに熱成形性を有することで光源のタイプ、個数に合わせた形状設計が容易となり、輝度が高く、むらのないライトボックスとすることができる。

本発明の光反射シートは熱成形性を有し、この光反射シートを用いて、特定の熱成形条件により光源の本数、形状に合わせた反射面を有する反射板を製造することができる。熱成形時のシート加熱温度（シート表面温度）は、通常１６０〜２００℃、好ましくは１７０〜２００℃であり、平均展開倍率は、通常１．１〜２倍、好ましくは１．２〜１．８倍である。
本発明において、熱成形の方法は特に限定されないが、プレス成形、真空成形、真空圧空成形、熱板成形、波板成形などを用いることができる。また一般的に真空成形と総称される成形法においてもドレープホーミング法、マッチドダイ法、プレッシャーバブルプラグアシスト真空成形法、プラグアシスト法、真空スナップバック法、エアースリップホーミング、トラッップドシート接触加熱―プレッシャーホーミング法、単純圧空成形法などが挙げられる。この真空成形の圧力は１ＭＰａ以下で適宜行えばよい。
上記シート加熱温度が１６０℃以上であると熱成形が容易であり、２００℃以下であるとシート表面に不均質な肌荒れが生じにくくなる。また平均展開倍率が１．２倍以下であると光源の形状に合わせた反射板の設計が容易であり、２倍以下であると熱成形品の厚みむらがないので、反射率のむらが生じにくい。なお、本熱成形時に際し、光反射シートは予備乾燥をして用いることが好ましく、予備乾燥により、吸湿による発泡現象を防ぐことができる。乾燥条件は、通常１００〜１２０℃、５〜１２時間が適当である。

上記のシート製造条件、熱成形条件を適宜調整することにより、光反射面の成形品の厚みむらが０．２ｍｍ以下である成形品を得ることができる。反射面の厚みむらが０．２ｍｍ以下であると均一な面反射特性が得られる。成形品の形状は光源の形状、個数、特性に合わせ適宜選定すればよい。例えば直下型液晶バックライト用の反射板の場合は、特開２０００−２６０２１３号公報、特開２０００−３５６９５９号公報、特開２００１−２９７６１３号公報及び特開２００２−３２０２９号公報に開示されている形状とすることができる。

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
製造例１［ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の製造］
（１）ＰＣオリゴマーの製造
４００Ｌの５質量％水酸化ナトリウム水溶液に、６０ｋｇのビスフェノールＡを溶解し、ビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。次いで、室温に保持したこのビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を１３８Ｌ／時間の流量で、また、塩化メチレンを６９Ｌ／時間の流量で、内径１０ｍｍ、管長１０ｍの管型反応器にオリフィス板を通して導入し、これにホスゲンを並流して１０．７ｋｇ／時間の流量で吹き込み、３時間連続的に反応させた。ここで用いた管型反応器は二重管となっており、ジャケット部分には冷却水を通して反応液の排出温度を２５℃に保った。また、排出液のｐＨは１０〜１１となるように調整した。
このようにして得られた反応液を静置することにより、水相を分離、除去し、塩化メチレン相（２２０リットル）を採取して、ＰＣオリゴマー（濃度３１７ｇ／リットル）を得た。ここで得られたＰＣオリゴマーの重合度は２〜４であり、クロロホーメイト基の濃度は０．７規定であった。
（２）反応性ＰＤＭＳの製造
１，４８３ｇのオクタメチルシクロテトラシロキサン、９６ｇの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン及び３５ｇの８６％硫酸を混合し、室温で１７時間攪拌した。その後、オイル相を分離し、２５ｇの炭酸水素ナトリウムを加え１時間攪拌した。濾過した後、１５０℃、３ｔｏｒｒ（４００Ｐａ）で真空蒸留し、低沸点物を除きオイルを得た。
６０ｇの２−アリルフェノールと０．００１４ｇの塩化白金−アルコラート錯体としてのプラチナとの混合物に、上記で得られたオイル２９４ｇを９０℃の温度で添加した。この混合物を９０〜１１５℃の温度に保ちながら３時間攪拌した。生成物を塩化メチレンで抽出し、８０％の水性メタノールで３回洗浄し、過剰の２−アリルフェノールを除いた。その生成物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で１１５℃の温度まで溶剤を留去した。得られた末端フェノールの反応性ＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）は、ＮＭＲの測定により、ジメチルシラノオキシ単位の繰り返し数は３０であった。
（３）ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の製造
上記（２）で得られた反応性ＰＤＭＳ１３８ｇを塩化メチレン２Ｌに溶解させ、上は（１）で得られたＰＣオリゴマー１０Ｌを混合した。そこへ、水酸化ナトリウム２６ｇを水１Ｌに溶解させたものと、トリエチルアミン５．７ｍｌを加え、５００ｒｐｍで室温にて１時間攪拌、反応させた。
反応終了後、上記反応系に、５．２質量％の水酸化ナトリウム水溶液５ＬにビスフェノールＡ６００ｇを溶解させたもの、塩化メチレン８Ｌ及びｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル９６ｇを加え、５００ｒｐｍで室温にて２時間攪拌、反応させた。
反応後、塩化メチレン５リットルを加え、さらに、水５Ｌで水洗、０．０３規定水酸化ナトリウム水溶液５Ｌでアルカリ洗浄、０．２規定塩酸５Ｌで酸洗浄、及び水５Ｌで水洗２回を順次行い、最後に塩化メチレンを除去し、フレーク状のＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体を得た。得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体を１２０℃で２４時間真空乾燥した。粘度平均分子量は１７，０００であり、ＰＤＭＳ含有率は３．０質量％であった。なお、粘度平均分子量(Ｍｖ)及びＰＤＰＳ含有率は下記の方法により求めた。

（１）粘度平均分子量(Ｍｖ)
ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式にて算出した。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83
（２）ＰＤＭＳ含有率
¹Ｈ−ＮＭＲで１．７ｐｐｍに見られるビスフェノールＡのイソプロピルのメチル基のピークと、０．２ｐｐｍに見られるジメチルシロキサンのメチル基のピークとの強度比を基に求めた。

製造例２［ポリカーボネート系樹脂組成物−１の製造］
製造例１で得られたポリカーボネートーポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ、Ｍｖ＝１７，０００、ＰＤＭＳ含有率＝３．０質量％）を４６質量部、ビスフェノールＡ型直鎖状ポリカーボネート（出光石油化学（株）製、商品名：タフロンＦＮ１５００、Ｍｖ＝１４，５００）を２４質量部、酸化チタン粉末（石原産業（株）製、商品名：ＰＦ７２６）を３０質量部の合計１００質量部に対し、オルガノシロキサン（東レ・ダウコーニング（株）、商品名：ＢＹ１６−１６１）を１．２質量部、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、旭硝子（株）製、商品名：ＣＤ０７６）を０．３質量部、トリフェニルホスフィン（城北化学（株）製、商品名：ＪＣ２６３）を０．１質量部混合し、二軸押出機にて溶融混練し、ポリカーボネート系樹脂組成物を得た。

製造例３［ポリカーボネート系樹脂組成物−２の製造］
製造例１で得られたポリカーボネートーポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ、Ｍｖ＝１７，０００、ＰＤＭＳ含有率＝３．０質量％）を４６質量部、ビスフェノールＡ型直鎖状ポリカーボネート（出光石油化学（株）製、商品名：タフロンＦＮ１５００、Ｍｖ＝１４，５００）を２４質量部、酸化チタン粉末（石原産業（株）製、商品名：ＰＦ７２６）を５０質量部の合計１００質量部に対し、オルガノシロキサン（東レ・ダウコーニング（株）、商品名：ＢＹ１６−１６１）を１．８質量部、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、旭硝子（株）製、商品名：ＣＤ０７６）を０．３質量部、トリフェニルホスフィン（城北化学（株）製、商品名：ＪＣ２６３）を０．１質量部混合し、二軸押出機にて溶融混練し、ポリカーボネート系樹脂組成物を得た。

製造例４［ポリカーボネート系樹脂組成物−３の製造］
製造例１で得られたポリカーボネートーポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ、Ｍｖ＝１７，０００、ＰＤＭＳ含有率＝３．０質量％）を５９質量部、ビスフェノールＡ型直鎖状ポリカーボネート（出光石油化学（株）製、商品名：タフロンＦＮ１５００、Ｍｖ＝１４，５００）を３１質量部、酸化チタン粉末（石原産業（株）製、商品名：ＰＦ７２６）を２０質量部の合計１００質量部に対し、オルガノシロキサン（東レ・ダウコーニング（株）、商品名：ＢＹ１６−１６１）を０．８質量部、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、旭硝子（株）製、商品名：ＣＤ０７６）を０．３質量部、トリフェニルホスフィン（城北化学（株）製、商品名：ＪＣ２６３）を０．１質量部混合し、二軸押出機にて溶融混練し、ポリカーボネート系樹脂組成物を得た。

製造例５［ポリカーボネート系樹脂組成物−４の製造］
製造例１で得られたポリカーボネートーポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ、Ｍｖ＝１７，０００、ＰＤＭＳ含有率＝３．０質量％）を４６質量部、ビスフェノールＡ型直鎖状ポリカーボネート（出光石油化学（株）製、商品名：タフロンＦＮ１５００、Ｍｖ＝１４，５００）を２４質量部、酸化チタン粉末（石原産業（株）製、商品名：ＰＦ７２６）を５質量部の合計１００質量部に対し、オルガノシロキサン（東レ・ダウコーニング（株）、商品名：ＢＹ１６−１６１）を０．５質量部、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、旭硝子（株）製、商品名：ＣＤ０７６）を０．３質量部、トリフェニルホスフィン（城北化学（株）製、商品名：ＪＣ２６３）を０．１質量部混合し、二軸押出機にて溶融混練し、ポリカーボネート系樹脂組成物を得た。

実施例１
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を熱風オーブンにて１４０℃、４時間の条件で乾燥させた。乾燥させた組成物を用い、脱揮装置付きの６５ｍｍφ単軸押出機、ギアポンプ及び６０ｃｍ幅コートハンガーダイを有する押出装置にて水平方向に押出し、縦３本冷却ロール方式にてシート成形を行い、厚み０．８ｍｍのシートを得た。ここでシリンダー温度は２５０〜２６０℃、脱揮圧力は１．３ｋＰａ（１０ｍｍＨｇ）、ダイス温度は２１０℃、ロール温度はＮＯ．１／ＮＯ．２／ＮＯ．３＝１２０℃／１５０℃／１７０℃、押出量は３０ｋｇ／ｈｒであった。
このシートの片面に光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）を重ね合わせて光反射シートを作製し、以下の方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

（１）光線反射率（Ｙ値）
分光光度計（Ｍａｃｂｅｔｈ社製、ＬＣＭ２０２０プラス）にて、Ｄ６５光源を用い、視野角１０度で可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の白色板（セラミックタイル）への相対反射率を測定し、Ｙ値を求めた。
（２）全光線透過率
ＪＩＳＫ７１０５に準拠して測定した。

実施例２
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を用い、実施例１と同様にして厚み０．６ｍｍの基材シートを作製した。このシートの片面に光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）を重ね合わせて光反射シートを作製し、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

実施例３
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を用い、実施例１と同様にして厚み０．６ｍｍの基材シートを作製した。このシートの片面に、ポリエステルポリウレタン系二液硬化型アンカーコート剤（大日本インキ（株）製、商品名：ディックドライＬＸ９０１／ＫＷ７５）を用い、ＬＸ９０１とＫＷ７５を質量比９：１で混合して１０μｍの厚みで塗布し、接着剤層を形成した。この接着剤層上に、光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）を重ね合わせ、接着して光反射シートを作製し、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

実施例４
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を用い、実施例１と同様にして厚み０．６ｍｍの基材シートを作製した。このシートの片面に、ベース樹脂に黒色顔料を分散させてなる塗料（東京インキ（株）製、商品名：ＳＹ９１５墨ＪＫ）を乾燥厚みが１０μｍになるように塗布し、これを熱風オーブン中で１００℃、３０分間の条件で乾燥させ、遮光層を形成した。
このシートの遮光層が形成された面とは反対側に、光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）を重ね合わせて光反射シートを作製し、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

実施例５
実施例２において、ポリカーボネート樹脂組成物−１の代わりにポリカーボネート樹脂組成物−２（ＰＣ−２、ペレット）を用いた以外は、実施例２と同様にして光反射シートを作製し、同様の測定を行った。結果を表１に示す。

実施例６
実施例２において、ポリカーボネート樹脂組成物−１の代わりにポリカーボネート樹脂組成物−２（ＰＣ−３、ペレット）を用いた以外は、実施例２と同様にして光反射シートを作製し、同様の測定を行った。結果を表１に示す。

実施例７
実施例２において、ポリカーボネート樹脂組成物−１の代わりにポリカーボネート樹脂組成物−２（ＰＣ−２、ペレット）を用いた以外は実施例２と同様にして光反射シートを作製し、同様の測定を行った。結果を表１に示す。

実施例８
実施例２において、光反射性ポリエステルフィルムの代わりに、ポリプロピレン系反射フィルム（三井化学（株）製、商品名：ホワイトレフスター）を用いた以外は実施例２と同様にして光反射シートを作製し、同様の測定を行った。結果を表１に示す。

実施例９
実施例２において、光反射性ポリエステルフィルムの代わりに、超臨界発泡ＰＥＴシート（古河電気化学工業（株）製、商品名：ＭＣＲＥＴ）を用いた以外は実施例２と同様にして光反射シートを作製し、同様の測定を行った。結果を表１に示す。

比較例１
光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）について、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。
比較例２
超臨界発泡ＰＥＴシート（古河電気化学工業（株）製、商品名：ＭＣＲＥＴ）について、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

比較例３
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を用い、実施例１と同様にして厚み０．６ｍｍの基材シートを作製し、このシートについて、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

比較例４
ポリカーボネート系樹脂組成物−１（ＰＣ−１、ペレット）を用い、実施例１と同様にして厚み０．８ｍｍの基材シートを作製し、このシートについて、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

比較例５
実施例１において、ポリカーボネート樹脂組成物−１の代わりにポリカーボネート樹脂組成物−３（ＰＣ−３、ペレット）を用いた以外は、実施例１と同様にして厚み０．８ｍｍの基材シート作製し、このシートについて、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。
結果を表１に示す。

比較例６
実施例１において、ポリカーボネート樹脂組成物−１の代わりにポリカーボネート樹脂組成物−４（ＰＣ−４、ペレット）を用いた以外は、実施例１と同様にして厚み０．６ｍｍの基材シートを作製した。このシートの片面に光反射性ポリエステルフィルム（東レ（株）製、商品名：ルミラーＥ６０Ｌ）を重ね合わせて光反射シートを作製し、上記方法により光線反射率（Ｙ値）及び全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

本発明の光反射シート及びその成形品は、液晶用バックライトの反射板、照明器具、住宅や各種設備などで用いられる蛍光管、ＬＥＤ（発光ダイオード）、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）、プラズマ、レーザーなどの光源部品の用途に好適である。

Claims

（Ａ）ポリカーボネート系重合体９０〜５０質量％及び（Ｂ）酸化チタン１０〜５０質量％の組み合わせを含むポリカーボネート樹脂組成物からなる基材シートの少なくとも片面に、熱可塑性樹脂組成物で構成され、かつ内部に空隙を有する光反射層が設けられたことを特徴とする光反射シート。
光反射層内部の空隙の平均径が０．５〜５０μｍである請求項１に記載の光反射シート。
基材シートが熱成形により製造されたものである請求項１又は２に記載の光反射シート。
基材シートと光反射層との間に接着剤層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の光反射シート。
光反射層表面に可視光領域波長の光を照射して測定した光線反射率のＹ値が少なくとも１００．５％である請求項１〜４のいずれかに記載の光反射シート。
光反射層表面に可視光領域波長の光を照射して測定した光線透過率が０．４％以下である請求項１〜５のいずれかに記載の光反射シート。
請求項１〜６のいずれかに記載の光反射シートを熱成形してなる成形品。