JP5315246B2 - 光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体 - Google Patents

Description

本発明は、光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体に関する。より詳しくは、流動性、熱安定性に優れ、光反射率、寸法安定性、外観に優れた液晶ディスプレイ分野の光反射板、ランプホルダー、照明機器の反射部材、光反射部材を備えた光学素子等の成形体に好適な光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体に関する。

ポリカーボネート樹脂を液晶ディスプレイ分野の光反射板、ランプホルダー、照明機器の反射部材に応用する場合、得られる成形体は、明るさを保持するために高反射率でなければならない。そのためには、光を吸収しにくい白色顔料を配合することが好ましく、例えば、白色顔料の中で最も優れている酸化チタンが一般に用いられる。しかし、酸化チタンを多量に配合すると、ポリカーボネート樹脂の分子量低下が大きくなり、機械的強度が低下する問題が生ずる。そこで、このような問題を改良したポリカーボネート樹脂組成物が提案されている（特許文献１参照）。

しかしながら、最近では、液晶ディスプレイの薄肉化、大面積化、光学部材の微小化に伴い、提案されているポリカーボネート樹脂組成物では、射出成形時の流動性が不足し、結果として充填不良になり満足な成形体を得ることができない。流動性を補う方策として、成形温度を上げる方法が考えられるが、得られる製品の反り変形といった問題があった。また、可塑剤を用いるポリカーボネート樹脂の流動性を向上させる方法が考えられるが、得られる製品の色調が悪化し、光源色の再現性に劣り、高い反射率を得ることができない。一方、特定のポリカーボネート共重合体を用いることによる、流動性に優れた光学成形体が知られているが、酸化チタンを用いた検討は行われていない（特許文献２参照）。
このような状況に鑑み、光反射性ポリカーボネート樹脂組成物においては、光反射率、熱安定性、成形時の流動性をさらに改良する必要が求められている。

特開平５−３２０５１９ 特開２００５−２４７９４７

本発明は、流動性、熱安定性に優れ、かつ光反射率、寸法安定性、外観に優れた成形体を与える光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、特定の繰り返し単位を特定量有し、かつ粘度数が特定範囲にあるポリカーボネート共重合体を含有するポリカーボネート樹脂と白色顔料を所定の割合で用いることにより上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明は、
１．下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有し、一般式（ＩＩ）の含有量が１〜３０質量％であり、粘度数が３０〜７１であるポリカーボネート共重合体（Ａ−１）を含有するポリカーボネート樹脂（Ａ）及び白色顔料（Ｂ）を含み、かつ（Ａ）成分と（Ｂ）成分との含有割合が、質量比で９９：１〜５０：５０であることを特徴とする光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、

［式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｘは単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合又は下記式(ＩＩＩ）もしくは下記式(ＩＶ）で表される基を示す。Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｙは炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。ａ〜ｄは、それぞれ０〜４の整数であり、ｎは２〜２００の整数である。また、複数のＲ¹及びＲ²、又は複数のＲ³及びＲ⁴は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］

２．ポリカーボネート樹脂（Ａ）と白色顔料（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、さらにオルガノポリシロキサン（Ｃ）０．０５〜３質量部を含む上記１に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
３．白色顔料（Ｂ）が、酸化チタンである上記１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
４．ポリカーボネート樹脂（Ａ）が、さらにポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−２）を含む上記１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
５．ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−２）が、ポリオルガノシロキサン部０．１〜１０質量％を含むものである上記４に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
６．ポリカーボネート樹脂（Ａ）が、さらに芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−３）を含む上記１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
７．ポリカーボネート樹脂（Ａ）と白色顔料（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、さらに難燃剤（Ｄ）０．１〜５質量部を含む上記１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物、
８．上記１〜７のいずれかに記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体、
９．光線反射体である上記８に記載の成形体、
１０．反射率（Ｙ）が９０％以上、肉厚１ｍｍにおいて全光線透過率が０．６％以下である上記９に記載の成形体
を提供するものである。

本発明によれば、流動性、熱安定性に優れた光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及び光反射率、寸法安定性、外観に優れた該組成物の成形体を得ることができる。

携帯電話用フレームを模した成形体である。

以下、本発明について、詳細に説明する。
［（Ａ）ポリカーボネート樹脂］
本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物は、（Ａ）ポリカーボネート樹脂（以下、単に「（Ａ）成分」ということがある）を含む組成物である。
（Ａ）成分は、（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体を必須成分として含有しており、（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂〔（Ａ−１）及び（Ａ−２）以外の他の芳香族ポリカーボネート樹脂〕から選ばれた任意成分の一種以上を含有することができる。

（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体は、フェノール変性ジオール共重合ポリカーボネートであり、界面重合法と呼ばれる慣用の製造方法により製造することができる。すなわち、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる方法により製造することができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の不活性溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により触媒や分岐剤を添加し、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる。
（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体は、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する。

一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、ａ、ｂ及びＸについては、下記一般式（Ｉａ）と併せて説明する。また、一般式（ＩＩ）中、Ｒ³、Ｒ⁴、ｃ、ｄ、ｎ及びＹについては、後述する一般式（ＩＩａ）と併せて説明する。
（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体の製造に用いる二価フェノールとしては、下記一般式（Ｉａ）で表される化合物を挙げることができる。

一般式（Ｉａ）において、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、アルキル基は直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。ａ及びｂは、それぞれＲ¹及びＲ²の置換数を示し、０〜４の整数である。なお、Ｒ¹が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ²が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。

Ｘは単結合、炭素数１〜８のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチリレン基、ヘキシレン基等）、炭素数２〜８のアルキリデン基（例えば、エチリデン基、イソプロピリデン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基（例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基（例えば、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等）、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合又は下記式(ＩＩＩ）もしくは下記式(ＩＶ）で表される基を示す。

上記一般式（Ｉａ）で表される二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、及び２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、及び１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；

４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル、及び４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、及び４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、及び４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、及び４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類；４，４'−ジヒロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、及び９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、及び１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタエン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。

分子量調節剤としては通常、ポリカーボネート樹脂の重合に用いられるものであれば、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール、ｏ−イソブチルフェノール、ｍ−イソブチルフェノール、ｐ−イソブチルフェノール、ｏ−ｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ｎ−ペンチルフェノール、ｍ−ｎ−ペンチルフェノール、ｐ−ｎ−ペンチルフェノール、ｏ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｍ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール、ｏ−シクロヘキシルフェノール、ｍ−シクロヘキシルフェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｏ−ｎ−ノニルフェノール、ｍ−ノニルフェノール、ｐ−ｎ−ノニルフェノール、ｏ−クミルフェノール、ｍ−クミルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｏ−ナフチルフェノール、ｍ−ナフチルフェノール、ｐ−ナフチルフェノール；２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール；３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，５−ジクミルフェノール；３，５−ジクミルフェノール；ｐ−クレゾール、ブロモフェノール、トリブロモフェノール、平均炭素数１２〜３５の直鎖状又は分岐状のアルキル基をオルト位、メタ位又はパラ位に有するモノアルキルフェノール；９−（４−ヒドロキシフェニル）−９−（４−メトキシフェニル）フルオレン；９−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−９−（４−メトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン；４−（１−アダマンチル）フェノール等が挙げられる。これらの一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、及びｐ−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。

触媒としては、相間移動触媒、例えば、三級アミン又はその塩、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等を好ましく用いることができる。三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、及びジメチルアニリン等が挙げられる。また、三級アミン塩としては、例えば、これらの三級アミンの塩酸塩及び臭素酸塩等が挙げられる。四級アンモニウム塩としては、例えば、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、及びテトラブチルアンモニウムブロミド等が、四級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロリド、及びテトラブチルホスホニウムブロミド等が挙げられる。これらの触媒は、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記触媒の中では、三級アミンが好ましく、特にトリエチルアミンが好適である。

不活性有機溶剤としては、各種のものがある。例えば、ジクロロメタン（塩化メチレン）、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、及びクロロベンゼン等の塩素化炭化水素や、トルエン、アセトフェノン等が挙げられる。これらの有機溶剤はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。これらの中では、特に塩化メチレンが好適である。

分岐剤として、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール；フロログリシン、トリメリト酸、及びイサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。

（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体の製造に用いるフェノール変性ジオールは、下記一般式（ＩＩａ）で表されるフェノール変性ジオールである。

一般式（ＩＩａ）において、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を示し、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。Ｒ³が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁴が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。Ｙは、炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、アルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、及びイソペンチレン基等のアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、及びイソペンチリデン基等のアルキリデン基が挙げられる。ｃ及びｄは０〜４の整数であり、ｎは２〜２００の整数である。ｎは、好ましくは６〜７０である。

上記一般式（ＩＩａ）で表されるフェノール変性ジオールは、例えば、ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステル、酸塩化物とポリエーテルジオールから誘導される化合物である。このフェノール変性ジオールは、特開昭６２−７９２２２号公報、特開昭６０−７９０７２号公報、特開２００２−１７３４６５号公報等で提案されている方法により合成がすることができるが、これらの方法により得られるフェノール変性ジオールに対し適宜精製を加えることが望ましい。精製方法としては、例えば、反応後段で系内を減圧にし、過剰の原料（例えば、パラヒドロキシ安息香酸）を留去する方法、フェノール変性ジオールを水又はアルカリ水溶液（例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液）等で洗浄する方法等が望ましい。

ヒドロキシ安息香酸アルキルエステルとしては、ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、ヒドロキシ安息香酸エチルエステル等が代表例である。ポリエーテルジオールは、ＨＯ−（Ｙ−Ｏ）ｎ−Ｈ（Ｙ及びｎは前記と同じである。）で表され、炭素数２〜１５の直鎖状又は分岐状のオキシアルキレン基からなる繰返し単位を有するものである。具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。入手性及び疎水性の観点からポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。ポリエーテルジオールのオキシアルキレン基の繰返し数ｎは２〜２００、好ましくは６〜７０である。ｎが２以上であると、フェノール変性ジオールを共重合する際の効率が高く、ｎが２００以下であると、（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体の耐熱性の低下が小さいという利点がある。

酸塩化物としては、ヒドロキシ安息香酸とホスゲンから得られるものが代表例である。より具体的には、特許２６５２７０７号公報等に記載の方法により得ることができる。ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステルはパラ体、メタ体、オルト体のいずれでも良いが、共重合反応の面からはパラ体が好ましい。オルト体は水酸基に対する立体障害のため共重合の反応性に劣るおそれがある。

（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体の製造工程において、フェノール変性ジオールは、その変質等を防ぐため、可能な限り塩化メチレン溶液として用いるのが好ましい。塩化メチレン溶液として用いることができない場合、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液として用いることができる。
（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体において、フェノール変性ジオールの共重合量を増やせば流動性は改善されるが耐熱性が低下する。従って、フェノール変性ジオールの共重合量は所望の流動性と耐熱性のバランスにより選択することが好ましい。フェノール変性ジオール共重合量が多すぎると、特開昭６２−７９２２２号公報に示されているように、エラストマー状となり、一般のポリカーボネート樹脂と同様の用途への適用ができなくなるおそれがある。１００℃以上の耐熱性を保持するには、（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体中に含まれるフェノール変性ジオール残基の量は、１〜３０質量％であり、好ましくは１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％である。

本発明において、（Ａ）成分に用いられる（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体は、粘度数が３０〜７１［Ｍｖ（粘度平均分子量）＝１０，０００〜２８，１００に相当］であり、好ましくは３４．７〜６２（Ｍｖ＝１２，０００〜２４，１００に相当）である。粘度数が３０以上であると機械物性が良好であり、粘度数が７１以下であると、フェノール変性ジオール（コモノマー）の共重合効果が良好に発揮される。
また、高流動性を発現させようとすると多量のコモノマーが必要となるが、粘度数が７１以下であると、コモノマーの使用量に対して耐熱性が大きく低下することがない。なお、粘度数は、ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した値である。

（Ａ）成分に用いられる（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体としては、様々なものがあるが、好ましくは下記一般式（Ｖ）で表される構造を有する繰り返し単位を有するポリカーボネート部と、下記一般式（ＶＩＩ）で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるものである。

［式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素、沃素）又は炭素数１〜８のアルキル基であり、ｅ及びｆは、それぞれ０〜４の整数である。Ｒ⁵が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁶が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。そして、Ｚは、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基又は−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合、単結合もしくは下記一般式（ＶＩ）で表される基を示す。］

［式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、それぞれ水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ｇ及びｈは、それぞれ０又は１以上の整数である。］

このポリオルガノシロキサン部の重合度は、５〜１０００が好ましく、より好ましくは２０〜３００であるものが、難燃性、成形品の外観の点から好ましい。（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、上記一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネート部と、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるブロック共重合体であって、粘度平均分子量１０,０００〜５０,０００、好ましくは１５,０００〜３５,０００のものである。また、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下であることが好ましい。
この（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、難燃性の観点からポリオルガノシロキサン部の含有量０．１〜１０質量％であり、好ましくは０．５〜５質量％である。

この（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、例えば、予め製造されたポリカーボネート部を構成するポリカーボネートオリゴマー（ＰＣオリゴマー）と、ポリオルガノシロキサン部を構成する末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサン［例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリジエチルシロキサン等のポリジアルキルシロキサンあるいはポリメチルフェニルシロキサン等］とを、塩化メチレン、クロロベンゼン、及びクロロホルム等の溶媒に溶解させ、ビスフェノールの水酸化ナトリウム水溶液を加え、触媒としてトリエチルアミンやトリメチルベンジルアンモニウムクロライド等を用い、界面反応することにより製造することができる。また、特公昭４４−３０１０８号公報や特公昭４５−２０５１０号公報に記載された方法によって製造されたポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を用いることもできる。ここで、一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネートオリゴマーは、溶剤法、すなわち、塩化メチレン等の溶剤中で公知の酸受容体、分子量調節剤の存在下、一般式(ＶＩＩＩ)で表わされる二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応又は二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応によって製造することができる。

［式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ、ｅ及びｆは、前記と同じである。］

上記一般式(ＶＩＩＩ)で表わされる二価フェノールとしては様々なものがあるが、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕が好ましい。また、ビスフェノールＡの一部又は全部を他の二価フェノールで置換したものであってもよい。ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン、ハイドロキノン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、及びビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンのような化合物；又はビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、及びビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンのようなハロゲン化ビスフェノール類等を挙げることができる。

（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造に供されるポリカーボネートオリゴマーは、これらの二価フェノール１種を用いたホモポリマーであってもよく、また２種以上を用いたコポリマーであってもよい。さらに、多官能性芳香族化合物を上記二価フェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリカーボネートであってもよい。なお、ｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を製造するには、例えば、共重合体中のポリオルガノシロキサン含有率を１０質量％以下にするとともに、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位の数が５以上のものを用い、かつ第３級アミン等の触媒を５.３×１０^-3モル／（ｋｇ・オリゴマー）以上用いて上記共重合を行うことが好ましい。

（Ａ）成分に用いられる（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂〔（Ａ−１）及び（Ａ−２）以外の他の芳香族ポリカーボネート樹脂〕は、慣用された製造方法、すなわち、通常、二価フェノールとホスゲンまたは炭酸エステル化合物等のポリカーボネート前駆体とを反応させることにより製造したものを挙げることができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により分岐剤を添加し、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応により、あるいは二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応等によって製造されたものである。

（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂の製造に用いられる二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが使用できる。

また、炭酸エステル化合物としては、ジフェニルカーボネート等のジアリールカーボネートやジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のジアルキルカーボネート等が挙げられる。分子量調節剤としては通常、ポリカーボネートの重合に用いられるものなら、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、及びｐ−ｎ−ブチルフェノール等、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが用いられる。一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−フェニルフェノールが好ましく用いられる。

その他、分岐剤として、前述のポリカーボネート共重合体同様、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；フロログリシン、トリメリト酸、及びイサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。

本発明において用いられる（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂は、通常、粘度平均分子量が１０，０００〜１００，０００のものが好ましく、より好ましくは１３，０００〜４０，０００である。
（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂としては、前述で説明したもの、あるいは市販品を用いることができる。

（Ａ）ポリカーボネート樹脂に含有される、（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体、（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体及び（Ａ−３）芳香族ポリカーボネート樹脂の混合割合（Ａ−１）：（Ａ−２）：（Ａ−３）は、質量比で１〜１００：９９〜０：９９〜０であり、好ましくは１０〜９０：９０〜１０：８０〜０、より好ましくは２０〜６０：８０〜１０：７０〜０である。

［（Ｂ）白色顔料］
本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物は、（Ｂ）白色顔料（以下、単に「（Ｂ）成分」ということがある）を含む組成物である。
（Ｂ）成分は、様々なものを用いることができる。具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、硫化亜鉛、及び鉛白等が挙げられる。これらの中では、着色力が優れている酸化チタンが好ましい。酸化チタンとしては、ルチル型及びアナターゼ型のいずれであってもよいが、熱安定性、耐候性に優れるルチル型を用いるのが好ましい。酸化チタンは、各種表面処理剤で処理し、その表面を被覆すると効果的である。その処理剤としては、水和アルミ、シリカ、及び亜鉛等が通常用いられる。その他、酸化チタンの樹脂中での分散性を向上させるために、シリコーンオイルやポリオール等を用いることもできる。
（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）白色顔料との混合割合は、樹脂の成形加工性、成形品の遮光性や高い光反射性の観点から、質量比で９９：１〜５０：５０であり、好ましくは９０：１０〜５０：５０、より好ましくは８０：２０〜５０：５０である。

［（Ｃ）オルガノポリシロキサン］
本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物には、（Ｃ）オルガノポリシロキサン（以下、単に「（Ｃ）成分」ということがある）を配合することができる。
（Ｃ）成分は、アルキル水素シリコーン、及びアルコキシシリコーン等が挙げられ、例えば、東レ・ダウコーニング社製のＳＨ１１０７、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０、ＢＹ１６−１６１、ＢＹ１６−１６０Ｅ、及びＢＹ１６−１６１Ｅを好適に用いることができる。
また、（Ｃ）成分を、（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）白色顔料の合計量１００質量部に対して、０．０５〜３質量部配合することが好ましく、これにより（Ａ）ポリカーボネート系樹脂の分解を防ぐことができる。（Ｃ）成分の配合量は、好ましくは０．１〜２質量部、より好ましくは０．４〜２質量部である。（Ｃ）オルガノポリシロキサンの配合量が０．０５質量部未満であると、（Ａ）ポリカーボネート樹脂が劣化し、分子量が低下するおそれがある。また、３質量部を超えると、成形体表面にシルバーが発生し、製品外観を低下させるおそれがある。

［（Ｄ）難燃剤］
本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物には、（Ｄ）難燃剤（以下、単に「（Ｄ）成分」ということがある）を配合することができる。
（Ｄ）成分には特に制限はなく、リン系、金属塩系、及びシリコーン系等の難燃剤を使用することができるが、好ましくはポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が挙げられる。
ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体の好ましい具体例としては、（Ｅ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｆ）多官能性単量体（ｆ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｆ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｇ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部［（Ｅ）、（Ｆ）及び（Ｇ）合わせて１００質量部に対し］を重合して得られるポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が挙げられる。

（Ｅ）ポリオルガノシロキサン粒子は、光散乱法または電子顕微鏡観察から求められる数平均粒子径が、好ましくは０．００８〜０．６μｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０１〜０．１５μｍである。該数平均粒子径が０．００８μｍ未満のものをうることは困難な傾向にあり、０．６μｍを超える場合には、難燃性が悪くなる傾向にある。
また、（Ｅ）ポリオルガノシロキサン粒子のトルエン不溶分量（該粒子０．５ｇをトルエン８０ｍｌに室温で２４時間浸漬した場合のトルエン不溶分量）が９５％以下、さらには５０％以下、特には２０％以下であるものが難燃性、耐衝撃性の点から好ましい。

多官能性単量体（ｆ−１）は、分子内に重合性不飽和結合を２つ以上含む化合物であり、具体例として、メタクリル酸アリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、フタル酸ジアリル、ジメタクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸１，３−ブチレングリコール、及びジビニルベンゼン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。これらの中では、経済性および効果の点で、メタクリル酸アリルの使用が好ましい。

共重合可能な単量体（ｆ−２）の具体例としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、パラメチルスチレン、パラブチルスチレン等の芳香族ビニル系単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸グリシジル、及びメタクリル酸ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル系単量体；イタコン酸、（メタ）アクリル酸、フマル酸、及びマレイン酸等のカルボキシル基含有ビニル系単量体等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。

（Ｇ）その他のビニル系単量体は、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体を得るために使用される成分であり、さらに該グラフト共重合体を芳香族ポリカーボネート樹脂に配合して難燃性及び耐衝撃性を改良する場合に、グラフト共重合体と芳香族ポリカーボネート樹脂との相溶性を確保して芳香族ポリカーボネート樹脂にグラフト共重合体を均一に分散させるために使用される成分でもある。このため、（Ｇ）ビニル系単量体としては、該ビニル系単量体の重合体の溶解度パラメーターが、好ましくは９．１５〜１０．１５［（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2］であり、より好ましくは９．１７〜１０．１０［（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2］、特に好ましくは９．２０〜１０．０５［（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2］である。溶解度パラメーターが前記範囲にあると難燃性が向上する。かかる溶解度パラメーターの詳細については、特開２００３−２３８６３９号公報に記載されている。

（Ｄ）成分の平均粒子径は、電子顕微鏡観察から求めた値で０．１〜１μｍで分散可能であることが好ましい。この平均粒子径が１μｍより大きいと、十分な難燃性、剛性及び衝撃強度が得られず、０．１μｍより小さいと、衝撃強度の向上が不十分となる。
（Ｄ）成分の配合量は、（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）白色顔料の合計量１００質量部に対して、０．１〜５質量部である。（Ｄ）成分の配合量は、好ましくは０．２〜４質量部、より好ましくは０．４〜３質量部である。０．１質量部より少ないと難燃性や衝撃強度が不十分であり、５質量部より多いと難燃性が低下するとともに剛性が低下する。

［その他］
また、本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、リン系安定剤、ポリテトラフルオロエチレン、及び各種添加剤を配合することができる。
リン系安定剤は、製造時または成形加工時の熱安定性を向上させ、機械的特性、色相および成形安定性を向上させる。
かかるリン系安定剤としては、リン酸系化合物及び／又は芳香族ホスフィン化合物が挙げられる。

リン酸系化合物としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル等が挙げられ、具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、４，４'−ビフェニレンジホスホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、及び下記の化合物１〜１０等が挙げられる。

これらの中で、上記化合物１、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ＰＥＰ−３６）、及びトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（Ｉｒｇ１６８）が好ましい。

芳香族ホスフィン化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＸ）
Ｐ−(Ｗ)₃ （ＩＸ）
［式中、Ｗは、炭化水素基であり、少なくともその１つは置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基である。］
で表わされるアリールホスフィン化合物が挙げられる。

上記一般式（ＩＸ）のアリールホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス−（ｐ−トリル）ホスフィン、トリス−（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン、トリス−（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル−（ヒドロキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（アセトキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（β−エチルカルボキシエチル）−ホスフィン、トリス−（ｐ−クロロフェニル）ホスフィン、トリス−（ｐ−フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル−β−シアノエチルホスフィン、ジフェニル−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−ホスフィン、ジフェニル−１，４−ジヒドロキシフェニル−２−ホスフィン、及びフェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。なかでも、特にトリフェニルホスフィンを好適に用いることができる。
上記リン系安定剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明で用いられるリン系安定剤の配合量は、（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂１００質量部に対し、通常、０．００１〜１質量部、好ましくは０．００５〜０．５質量部、より好ましくは０．０１〜０．１質量部である。
リン系安定剤の配合量が上記範囲内であると、成形時の熱安定性が向上する。

ポリテトラフルオロエチレンは、フィブリル形成能を有するものであれば特に制限はない。ここで、フィブリル形成能とは、せん断力等の外的作用により、樹脂同士が結合して繊維状になる傾向を示すことをいう。
フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレンは、本発明の樹脂組成物に溶融滴下防止効果を付与し、優れた難燃性を発現させる。具体例としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、及びテトラフルオロエチレン系共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体等）等を挙げることができる。これらの中では、ポリテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」ということがある）が好ましい。

フィブリル形成能を有するＰＴＦＥは、極めて高い分子量を有し、標準比重から求められる数平均分子量で、通常５０万以上、好ましくは５０万〜１５００万、より好ましく１００万〜１０００万である。かかるＰＴＦＥは、例えば、テトラフルオロエチレンを水性溶媒中で、ナトリウム、カリウムあるいはアンモニウムパーオキシジスルフィドの存在下で、７〜７００ＫＰａの圧力下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃で重合することによって得ることができる。かかるＰＴＦＥは、固体形状の他、水性分散液形態のものも使用可能である。

かかるフィブリル形成能を有するＰＴＦＥとしては、例えば、ＡＳＴＭ規格によりタイプ３に分類されるものを用いることができる。このタイプ３に分類される市販品としては、例えば、テフロン６−Ｊ（商品名、三井・デュポンフロロケミカル株式会社製）、ポリフロンＤ−１及びポリフロンＦ−１０３（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。また、タイプ３以外では、アルゴフロンＦ５（商品名、モンテフルオス社製）及びポリフロンＭＰＡ ＦＡ−１００（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。
ポリテトラフルオロエチレンは、単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。
ポリテトラフルオロエチレンの配合量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計１００質量部に対して、０．１〜０．５質量部であり、好ましくは０．２〜０．４質量部である。

各種添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、及びエステル系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系等の光安定剤、通常用いられる離型剤、帯電防止剤、及び蛍光増白剤等が挙げられ、これらを適宜含有させることができる。

［光反射性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体］
本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物は、上記の各成分を配合し、必要に応じて溶融混練することにより得ることができる。配合及び溶融混練は、通常の方法を採用することができる。溶融混練機としては、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、及び多軸スクリュー押出機等を適用することができる。また、溶融混練に際しての加熱温度は通常２５０〜３００℃が適当である。

得られた光反射性ポリカーボネート樹脂組成物は、既知の種々の成形方法、例えば、射出成形、中空成形、押出成形、圧縮成形、カレンダー成形、及び回転成形等を適用して、種々の形状の成形体とすることができる。また、本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物を用いて押し出し成形し、加熱成形又はプレス成形して、良好な成形体を得ることができる。加熱成形の方法としては、具体的には予備成形体を加熱し、真空および／または圧縮空気の圧力で成形する方法を挙げることができる。ここで加熱の際は、予備成形体の片側又は両側のいずれからでもよく、熱源に直接接触させて加熱することもできる。このとき、加熱温度が１５０℃未満の場合は均一に成形できない場合があり、２００℃を越えると発泡が生じやすく、好ましくない。熱成形の方法は、特に限定されないが、例えば、単純な真空成形法、ドレープホーミング法、マッチドダイ法、プレッシャーバブルプラグアシスト真空成形法、プラグアシスト法、真空スナップバック法、プレッシャーバブル真空スナップバック法、エアースリップホーミング、トラップドシート接触加熱−プレッシャーホーミング、及び単純圧空成形法等が挙げられる。この成形時の圧力は、真空成形法の場合は０．１ＭＰａ以下、圧空成形法の場合は０．３〜０．８ＭＰａが好ましく、真空成形法と圧空成形法は組み合わせて行うことができる。この熱成形により光源のタイプ、個数に応じた形状、均質な面反射が可能な形状にすることができる。この成形体は、耐熱性や難燃性に優れるとともに、高い反射性を有するものであり、液晶ディスプレイの光反射板等の成形品、あるいは光学素子等の分野の成形品や部品を製造するのに好適に使用することができる。

また、このようにして得られた本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物を、通常の成形方法、例えば、射出成形法や圧縮成形法等を用いて平面板又は曲面板に成形することにより、本発明の光線反射体が得られる。この光線反射体は、例えば、照明装置用や液晶ディスプレイバックライト用等に好ましく用いられるが、特に液晶ディスプレイバックライト用反射板として好適である。本発明の光線反射体は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。さらに、本発明の光線反射体は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。

本発明の光線反射体は、反射率（Ｙ）が９０％、肉厚１ｍｍでの全光線透過率が０．６％以下である。
反射率（Ｙ）及び全光線透過率（％）については、実施例において後述するが、反射器に求められる反射特性は、Ｙ値で９０％以上であることが好ましいとされており、光の漏洩に起因する照明装置の輝度（照射率）の低下を防止するためには、肉厚１ｍｍでの全光線透過率は０．６％以下であることが望まれている。Ｙ値が９０％以上であり、肉厚１ｍｍでの全光線透過率が０．６％以下の、反射器を兼ねる照明装置用ハウジングは、反射器の反射特性および照明装置の輝度（照射率）に極めて優れたものである。
本発明の光線反射体は、Ｙ値が、より好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上、肉厚１ｍｍでの全光線透過率が、より好ましくは０．３％以下、さらに好ましくは０．１％以下である。

本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。

＜製造例＞
〈共重合コモノマーの製造例１〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００〕
窒素下でポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝２０００）１００質量部とｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル１６．７質量部をジブチル錫オキシド０．０５質量部の存在下、２１０℃で加熱し、メタノールを留去した。
反応系内を減圧にし、過剰のｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを留去した。反応生成物を塩化メチレンに溶解後、この塩化メチレン溶液に８質量％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え２０分間激しく混合後、遠心分離により塩化メチレン相を採取した。塩化メチレン相を減圧下で濃縮し、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）を得た。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によりｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを定量した結果、ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ以下、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。
なお、ＨＰＬＣ測定方法は、ＧＬサイエンス社製ＯＤＳ−３カラムを用い、カラム温度４０℃、０．５％リン酸水溶液とアセトニトリルの１：２混合溶媒、流速１．０ｍＬ／分の条件で測定した。定量は標品による検量線を元に算出した。

〈共重合コモノマーの製造例２〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ以下、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。

〈共重合コモノマーの製造例３〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝６００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル５０質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ以下、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。

〈共重合コモノマーの製造例４〉
〔ポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラエチレングリコール（ＰＴＥＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ以下、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。

〈ポリカーボネートオリゴマー溶液の製造〉
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に、後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレン１５Ｌ／ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液０．０７Ｌ／ｈｒ、水１７Ｌ／ｈｒ、１質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒで添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは、濃度３２９g／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。

〈ポリカーボネート共重合体ＰＣＣ１の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、前記で製造したポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１７１０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ２２５ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ６１７ｇと亜二チオン酸ナトリウム１．９ｇを水９．０Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ９３０ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。

こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１００℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は４．０質量％であった。
ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した（以下、同様に粘度数を測定）粘度数は３８．１（Ｍｖ＝１３５００）であった。

〈ポリカーボネート共重合体ＰＣＣ２の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）をポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）１６３ｇ（ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００）に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は２．０質量％であった。
粘度数は３８．０（Ｍｖ＝１３５００）であった。

〈ポリカーボネート共重合体ＰＣＣ３の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）の添加量を８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を２４６ｇに、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は１０．７質量％であった。
粘度数は３５．６（Ｍｖ＝１２４００）であった。

〈ポリカーボネート共重合体ＰＣＣ４の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）３２５ｇを、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００）８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を、２１３ｇに、乾燥温度を、８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は９．９質量％であった。
粘度数は３９．６（Ｍｖ＝１４２００）であった。

〈ポリカーボネート共重合体ＰＣＣ５の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、ジメチルシラノオキシ単位の繰返し数が９０であるアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳ６２５ｇ及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３９０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ＰＴＢＰの塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１７２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５６６ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．２ｇを水８．３Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１１１６ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。

こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたＰＤＭＳ残基の量は１０．０質量％であった。
粘度数は４１．５（Ｍｖ＝１５０００）であった。

＜実施例＞
樹脂組成物の物性測定及び評価は、以下の方法により行った。
（１）Ｑ値
得られたペレットは、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、高架式フローテスターを用い、ＪＩＳ Ｋ７２１０に準拠し、２８０℃、１５．７MＰaの圧力下にて、直径１ｍｍ、長さ１０ｍｍのノズルより流出する溶融樹脂量（ｍＬ／ｓｅｃ）を測定した。なお、溶融粘度の低下とともに流れ値（Ｑ値）は増加する。
（２）反射率Ｙ・黄色度ＹＩ
得られたペレットは、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、成形機［住友重機械株式会社製、住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×３．２ｍｍの反射率測定用の平板を作製した。反射率、黄色度は、ＬＣＭ分光光度計ＭＳ２０２０プラス（Ｍａｃｂｅｔｈ社製）によるＹ値、ＹＩ値で評価した。
（３）全光線透過率（％）
成形機［住友重機械株式会社製、住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、８０ｍｍ×８０ｍｍ×１．０ｍｍの全光線透過率測定用の平板を作製した。ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製の試験機により、平行光線透過率を測定した。
（４）粘度平均分子量差（ΔＭｖ）
原料ポリカーボネートとの粘度平均分子量差（ΔＭｖ）を求めた。
得られたペレットを塩化メチレン溶液に溶解して、不溶分をフィルターにて取り除き、蒸発させてフィルムを作製し、そのフィルムを再度塩化メチレンに溶解させ、２０℃でウベローデ粘度管にて粘度を測定し、これより極限粘度〔η〕を求めた後、次式にて算出した。
〔η〕＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83
（５）成形体の外観評価
射出成形機［住友重機械株式会社製、ＳＨ１００］を用い、成形機にて同時にピンゲート（１ｍｍφ）２個を有する箱形状の金型（寸法：１０７ｍｍ×１５２ｍｍ×１０ｍｍ、肉厚：２ｍｍ）を用いて、成形温度３００℃、金型温度８０℃、１３０秒の冷却時間（成形サイクル時間１６０秒）を設けることにより、滞留時間を延長した場合の成形体を作製し、この成形体について外観（シルバー発生の有無）を目視で判定した。シルバーの発生がない場合を○、シルバーがわずかに発生した場合を△、シルバーが発生した場合を×、成形体が採取できなかった場合を−とした。
（６）携帯フレーム成形試験
得られたペレットを、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、住友重機械株式会社製、ＳＧ１００Ｍ−ＨＰを用いて、成形温度２８０、２９０、３００、３１０℃、金型温度８０℃で、図1に示す携帯電話用フレームを模した成形体を作製し、成形可能最低温度を評価し、成形不可能な場合を×とした。
さらに、３１０℃成形体について目視により成形体ソリを評価した。ソリの評価基準として、ソリがない場合を○、少しソリがある場合を△、大きくソリがある場合を×、成形体が採取できなかった場合を−とした。
（７）難燃性評価試験
得られたペレットは、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、住友重機械株式会社製、ネスタールＮ５１５／１５０を用いて、成形温度３００℃、金型温度８０℃で、１２７ｍｍ×１２ｍｍ×１ｍｍ厚さの焼試験用試験片を作製した。作製した試験片はＵＬ９４準拠の難燃性試験により評価した。
なお、ＵＬ９４難燃性試験（垂直燃焼試験）とは、鉛直に保持した所定の大きさの試験片にバーナーの炎を１０秒間接炎した後の残炎時間から難燃性を評価する方法であり、Ｖ−０試験合格の場合を○、Ｖ−０試験不合格の場合を×とした。

〈実施例１〜２４及び比較例１〜７〉
下記表１〜４において、用いた成分は以下のとおりである。
・（Ａ）成分
（Ａ−１）成分： ポリカーボネート共重合体
ＰＣＣ１〜４（製造例により製造したもの）
（Ａ−２）成分：ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体
タフロンＦＣ1700（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝17500、ＰＤＭＳ含有量３．５質量％）
ＰＣＣ５（製造例により製造したもの）
（Ａ−３）成分：ポリカーボネート樹脂
タフロンＦＮ1700（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝17500）
タフロンＦＮ1500（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝14200）
・（Ｂ）成分：酸化チタン粉末
ＰＦ726（石原産業株式会社製、商品名：ＰＦ７２６、平均粒径０．２１μｍ）
ＰＣ３（石原産業株式会社製、商品名：ＰＣ３、平均粒径０．２１μｍ）
２２３３（ＫＲＯＮＯＳ社製、商品名：２２３３）
・（Ｃ）成分：オルガノポリシロキサン
ＢＹ−１６−１６１（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：ＢＹ−１６−１６１）
・（Ｄ）成分：難燃剤
ＭＲ−０１（株式会社カネカ製、商品名：ＭＲ−０１）
・可塑剤
ＫＬＢ635（花王株式会社製、商品名：ＫＬＢ−６３５)
・難燃化助剤：ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
ＰＴＦＥ（旭硝子株式会社製、商品名：ＣＤ０７６）

上記の市販の各種のポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体、市販の各種のポリカーボネート樹脂、酸化チタン、オルガノシロキサン、ＰＴＦＥを使用し、表に示す配合割合で配合し、ベント付き二軸押出し機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ−３５Ｂ）によって、温度２８０℃で混練し、ペレット化した。得られたペレットを上記（１）〜（７）に従い物性測定及び評価し、その結果を表１〜４に示した。
なお、表１及び表２は、難燃剤を配合しておらず、表３及び表４は、難燃剤を配合している実施例及び比較例である。

表１〜４より以下のことが判明した。
〈１〉実施例１〜１０及び比較例１〜６から、（Ａ−１）ポリカーボネート共重合体を含有させることにより、特に流動性に優れ、熱安定性、寸法安定性及び成形外観に優れた材料となることが分かった。
〈２〉実施例１１〜２４及び比較例７から、（Ａ−２）ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含有させることにより、難燃剤を含有させなくても熱安定性、寸法安定性及び難燃性に優れた材料となることが分かった。

本発明の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物は、流動性、熱安定性に優れており、さらに該樹脂組成物の成形体は、光反射率、寸法安定性、外観に優れているため、液晶ディスプレイの光反射板、ランプホルダー、照明機器の反射部材、光反射部材を備えた光学素子等の分野を中心に高い光反射性が要求される分野に有効利用できる。

Claims (10)

1. 下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有し、一般式（ＩＩ）の含有量が１〜３０質量％であり、粘度数が３０〜７１であるポリカーボネート共重合体（Ａ−１）を含有するポリカーボネート樹脂（Ａ）及び白色顔料（Ｂ）を含み、かつ（Ａ）成分と（Ｂ）成分との含有割合が、質量比で９９：１〜５０：５０であることを特徴とする光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｘは単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合又は下記式(ＩＩＩ）もしくは下記式(ＩＶ）で表される基を示す。Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｙは炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。ａ〜ｄは、それぞれ０〜４の整数であり、ｎは２〜２００の整数である。また、複数のＲ¹及びＲ²、又は複数のＲ³及びＲ⁴は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］
   

   
2. ポリカーボネート樹脂（Ａ）と白色顔料（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、さらにオルガノポリシロキサン（Ｃ）０．０５〜３質量部を含む請求項１に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
3. 白色顔料（Ｂ）が、酸化チタンである請求項１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
4. ポリカーボネート樹脂（Ａ）が、さらにポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−２）を含む請求項１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
5. ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−２）が、ポリオルガノシロキサン部０．１〜１０質量％を含むものである請求項４に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
6. ポリカーボネート樹脂（Ａ）が、さらに芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−３）を含む請求項１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
7. ポリカーボネート樹脂（Ａ）と白色顔料（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、さらに難燃剤（Ｄ）０．１〜５質量部を含む請求項１又は２に記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の光反射性ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体。
9. 光線反射体である請求項８に記載の成形体。
10. 反射率（Ｙ）が９０％以上、肉厚１ｍｍにおいて全光線透過率が０．６％以下である請求項９に記載の成形体。

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