JP2006038852A - 基板整列方法及び装置、これを用いた基板のパターン検査方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板整列方法及び装置、これを用いた基板のパターン検査方法及び装置が開示される。
【解決手段】 基板整列方法によると、半導体工程が行われた基板上の整列マークから新しいマークイメージを獲得する。新しいマークイメージを工程前の整列マークから予め設定された基準イメージと比較する。比較結果によって、整列マークが基準イメージ又は新しいマークイメージに相応するように基板を整列する。従って、基準イメージを後続整列工程に選択的に使用することができるので、整列時間が大幅短縮される。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の好ましい実施形態による基板整列装置を示すブロック図である。
図3は、本発明の好ましい実施形態による基板のパターン検査装置を示すブロック図である。
112 発光部
114 受光部
120 イメージ貯蔵部
130 イメージ処理部
132 比較部
134 交替部
140 基板整列部
Claims (31)
- 半導体工程が行われた基板上の整列マークからマークイメージを獲得する段階と、
前記マークイメージを前記工程前の整列マークから予め設定された基準イメージと比較する段階と、
前記比較結果によって、前記整列マークが前記基準イメージ又は前記マークイメージに相応するように、前記基板を整列する段階とを含む基板整列方法。 - 前記基準イメージは、前記整列マークを用いた前記半導体工程前に決定されることを特徴とする請求項1記載の基板整列方法。
- 前記マークイメージを獲得する段階は、
前記工程後の整列マークに光を照射する段階と、
前記整列マークから反射された光を収集する段階と、
前記収集された光から前記整列マークと対応する前記マークイメージを獲得する段階とを含むことを特徴とする請求項1記載の基板整列方法。 - 前記比較する段階は、前記マークイメージを前記基準イメージと重畳させて比較することを特徴とする請求項1記載の基板整列方法。
- 前記基板を整列する段階は、
前記基準イメージを削除する段階と、
前記マークイメージを新たな基準イメージとして設定する段階とを含むことを特徴とする請求項1記載の基板整列方法。 - 工程条件によってパターンが形成された基板上の整列マークからマークイメージを獲得する段階と、
前記マークイメージを前記工程前の整列マークから予め設定された基準イメージと比較する段階と、
前記比較結果によって、前記整列マークが前記基準イメージ又は前記マークイメージに相応するように前記基板を整列する段階と、
前記パターンが前記工程条件に一致するかの可否を検査する段階と、を含む基板のパターン検査方法。 - 前記マークイメージを獲得する段階は、
前記工程後の整列マークに光を照射する段階と、
前記整列マークから反射された光を収集する段階と、
前記収集された光から前記整列マークと対応する前記マークイメージを獲得する段階とを含むことを特徴とする請求項6記載の基板のパターン検査方法。 - 前記マークイメージを前記基準イメージと重畳させて比較することを特徴とする請求項6記載の基板のパターン検査方法。
- 前記基板を整列する段階は、
前記基準イメージを削除する段階と、
前記マークイメージを新たな基準イメージとして設定する段階とを含むことを特徴とする請求項6記載の基板のパターン検査方法。 - 半導体工程が行われた基板上の整列マークに関するマークイメージを生成するイメージ生成部と、
前記マークイメージと前記工程前の整列マークと対応する基準イメージが貯蔵されたイメージ貯蔵部と、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較して、比較信号を生成するイメージ処理部と、
前記比較信号によって前記基板を整列する基板整列部とを含む基板整列装置。 - 前記基準イメージは、前記半導体工程が行われる前の整列マークから決定されることを特徴とする請求項10記載の基板整列装置。
- 前記イメージ処理部は、前記比較結果によって前記基準イメージを前記マークイメージに選択的に交替することを特徴とする請求項10記載の基板整列装置。
- 前記基板整列部は、前記整列マークが前記基準イメージ又は前記マークイメージと対応するように前記基板を整列させることを特徴とする請求項10記載の基板整列装置。
- 前記イメージ生成部は、
前記整列マークに光を照射する発光部と、
前記整列マークから反射された光を収集する受光部と、を含むことを特徴とする請求項10記載の基板整列装置。 - 前記イメージ処理部は、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較する比較部と、
前記比較部の比較結果によって、前記基準イメージを前記マークイメージに選択的に交替する交替部とを含むことを特徴とする請求項10記載の基板整列装置。 - 工程条件による半導体工程を通じてパターンが形成された基板上の整列マークに関するイメージを生成するイメージ生成部と、
前記マークイメージと前記工程前の整列マークと対応する基準イメージが貯蔵されたイメージ貯蔵部と、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較して、比較信号を生成するイメージ処理部と、
前記比較信号によって基板を整列する基板整列部と、
前記パターンが前記工程条件に符合するかの可否を検査するパターン検査部とを含む基板のパターン検査装置。 - 前記イメージ生成部は、
前記整列マークに光を照射する発光部と、
前記整列マークから反射された光を収集する受光部とを含むことを特徴とする請求項16記載の基板のパターン検査装置。 - 前記イメージ処理部は、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較する比較部と、
前記比較部の比較結果によって、前記基準イメージを前記マークイメージに選択的に交替する交替部とを含むことを特徴とする請求項16記載の基板のパターン検査装置。 - 基板上の整列マークから発生されたマークイメージを予め設定された基準イメージと比較する段階と、
前記比較結果によって前記基板を整列させる段階とを含み、
前記マークイメージは、前記基板を含む半導体基板を形成するための半導体工程を行った後に発生され、前記基準イメージは、前記半導体工程を行う前に決定される基板整列方法。 - 前記整列マークに光を照射する段階と、
前記整列マークから反射された光を収集する段階と、
前記収集された光から前記整列マークと対応する前記マークイメージを獲得する段階とを含むことを特徴とする請求項19記載の基板整列方法。 - 前記マークイメージを前記基準イメージと重畳させて比較することを特徴とする請求項19記載の基板整列方法。
- 前記基板を整列する段階は、
前記基準イメージを削除する段階と、
前記マークイメージを新たなイメージとして設定する段階とを含むことを特徴とする請求項19記載の基板整列方法。 - 半導体装置を製造するための工程条件によって、基板上にパターンを形成する段階と、
前記整列マークからマークイメージを獲得する段階と、
前記マークイメージを前記工程前の整列マークから予め設定された基準イメージと比較する段階と、
前記比較結果によって、前記整列マークが前記基準イメージ又は前記マークイメージに相応するように前記基板を整列する段階と、
前記パターンが前記工程条件に符合するかの可否を検査する段階とを含む基板のパターン検査方法。 - 半導体工程が行われた基板上の整列マークに関するマークイメージを生成するイメージ生成部と、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較して、比較信号を生成するイメージ処理部と、
前記比較信号によって前記基板を整列する基板整列部とを含む基板整列装置。 - 前記基板整列部は、前記比較信号によって前記基板を整列させて、前記整列マークを前記基準イメージ又は前記マークイメージと対応させることを特徴とする請求項24記載の基板整列装置。
- 前記マークイメージと前記基準イメージが貯蔵されたイメージ貯蔵部を更に含むことを特徴とする請求項24記載の基板整列装置。
- 前記イメージ生成部は、
前記整列マークに光を照射する発光部と、
前記整列マークから反射された光を収集する受光部とを含むことを特徴とする請求項24記載の基板整列装置。 - 前記イメージ処理部は、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較する比較部と、
前記比較部の比較結果によって、前記基準イメージを前記マークイメージに選択的に交替する交替部とを含むことを特徴とする請求項24記載の基板整列装置。 - 半導体工程が行われた基板上の整列マークに関するマークイメージを生成するイメージ生成部と、
前記マークイメージを前記基準イメージと比較して、比較信号を生成するイメージ処理部と、
前記比較信号によって前記基板を整列する基板整列部と、
前記パターンが前記工程条件に符合するかの可否を検査するパターン検査部とを含む基板のパターン検査装置。 - イメージ生成部、イメージ貯蔵部、イメージ処理部、及び基板整列部を含み、請求項1の方法によって基板を整列する装置。
- イメージ生成部、イメージ処理部、及び基板整列部を含み、請求項19の方法によって基板を整列する装置。
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