JP2009141124A - 電子ビーム測定装置 - Google Patents
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Abstract
多重露光法により試料上に形成されたパターンの形状、寸法、または欠陥の有無等の検査を行う電子ビーム測定技術を提供する。
【解決手段】
多重露光法により形成された基板上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該複数の画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする。
【選択図】図3
Description
はじめに、本発明の基本的構成について説明する。
の1つのラインのみを用いても同様の管理が可能である。
図5に、本実施例での計測フローを示す。本フローでは、SEM画像を取得した後に設計データとの比較を行うことでパターンの分類を行なっている(ステップ501)。但し、図9のようなラインとスペースが交互に並んでいるパターンでは1ピッチ異なって照合してしまう危険性があるために、本方法はパターン形状が複雑なロジックLSIに適した方法といえる。ラインアンドスペースパターンの場合には、実施例1の明るさ分類との組み合わせが有効と考えられる。
図6に、本実施例での計測フローを示す。本実施例では、複数画像を用いている。取得した測定座標に試料を移動した後に異なる条件で2つのSEM画像を取得した(ステップ601、602)。第1の条件は観察領域内の走査の回数が8回であり、第2の条件は観察領域内のテレビ走査の回数が32回である。条件を変えた理由は被加工層からの信号が弱いためであり、SNを向上させるために1つ条件では走査回数を32回としている。第2の条件の場合、ハードマスク層は信号が強くなりすぎるので検出信号が飽和してしまう。
図7に、本実施例での計測フローを示す。本実施例でも、複数画像を用いている。本実施例にのみ、図1(f)の試料を用いた。取得した測定座標に試料を移動した後に2つのSEM画像を取得した(ステップ701、702)。1つは2次電子を用いた画像であり、1つは反射電子を用いた画像である。図1(f)では第2レジスト層RL2の観測は容易であるが、ハードマスク層HMの観測は反射防止膜に覆われて容易ではない。
図8に、本実施例での計測フローを示す。これまでの実施例と異なるところは、グループ分類の後にグループ間の位置関係を検出することにある(ステップ801)。ここで、グループ間の位置関係とは、2回の露光間の重ね合わせ誤差に相当する量である。具体的には、X方向の位置関係はY方向に伸びるパターンの輪郭線の中心線位置から、Y方向の位置関係はX方向に伸びるパターンの輪郭線の中心線位置から求めた。2回の露光間の重ね合わせ誤差はパターンのスペースの距離や、多重露光法の種類ではパターンの寸法を定めるために、その評価は非常に重要である。これは、これまでの検査では行なわれていないもので、これを実行するためには装置によるパターンの自動分類は必須である。
Claims (10)
- 電子源から放出された電子ビームを、レンズおよび偏向器を用いて、試料上の所望の観察領域を走査する電子光学系と、前記電子ビーム照射により前記試料から二次的に発生する荷電粒子を検出する検出器と、検出した前記荷電粒子による画像を作成する手段とを有し、前記画像情報から、前記試料上に形成されたパターンを検査する電子ビーム測定装置において、
前記試料上のパターンは、多重露光法により基板上の同一レイヤーに形成されたものであり、
前記試料上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする電子ビーム測定装置。 - 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、前記複数のグループの分類は、主に前記荷電粒子のうち2次電子からなる画像と、主に前記荷電粒子のうち反射電子からなる画像とを基に行うことを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、前記複数のグループの分類は、取得した画像と設計データベースとの比較によりそれぞれのパターンを露光履歴に応じて行うことを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、前記複数のグループの分類は、1つおきに存在するパターンを異なるグループに分類することを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、前記分類された複数のグループのそれぞれについて、異なるグループに対しては異なる画像処理パラメータもしくは異なる波形処理パラメータを用いてパターンの寸法もしくはパターンの輪郭位置を求めることを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、前記分類された複数のグループのそれぞれについて、異なるグループに対しては異なる参照画像もしくは異なる参照波形を用いてパターンの寸法もしくはパターンの輪郭位置を求めることを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム測定装置において、分類された前記複数のグループ間の位置関係の情報を求めることを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 電子源から放出された電子ビームを、レンズおよび偏向器を用いて、試料上の所望の観察領域を走査する電子光学系と、前記電子ビーム照射により前記試料から二次的に発生する荷電粒子を検出する検出器と、検出した前記荷電粒子による画像を作成する手段とを有し、前記画像情報から、前記試料上に形成されたパターンの検査を行う電子ビーム測定装置において、
前記試料上のパターンは、多重露光法により基板上の同一レイヤーに形成されたものであり、
前記試料上のパターンに前記電子ビームを照射して、領域がほとんど重なりあう複数の画像を異なる画像取得条件で取得し、前記複数の画像内のパターンを露光履歴に応じた複数グループに分類する手段を有し、
異なるグループに対しては異なる画像取得条件で取得した画像を用いてパターンの寸法もしくはパターンの輪郭位置を求めるよう構成したことを特徴とする電子ビーム測定装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の電子ビーム測定装置において、前記試料上のパターンは、ダブルパターニング技術により形成されたものであることを特徴とする電子ビーム測定装置。
- 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の電子ビーム測定装置において、検出した前記荷電粒子による画像は、走査電子顕微鏡像であることを特徴とする電子ビーム測定装置。
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