JP6609568B2 - 差分ダイおよび差分データベースを利用した検査 - Google Patents
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Description
本願は、2014年3月25日に出願された、「差分ダイの改良(Delta Die Enhancement)」と題するCari E.Hess et al.の過去の米国仮特許出願第61/969,984号と、2014年3月25日に出願された「差分データベースクリティカルディメンション均一性マップ(Delta Database Critical Dimension Uniform Map)」と題するCari E.Hess et al.の米国仮特許出願第61/969,990号の、米国特許法第119条に基づく優先権を主張するものであり、これらの出願の全体を、あらゆる目的のために参照によって本願に援用する。
Claims (27)
- フォトリソグラフィ用レチクルの検査方法において、
検査ツールを使って、レチクル上の同じダイの集合の各ダイの各パッチ領域の複数のパッチ領域画像を取得するステップと、
各パッチ領域画像の積分強度値を確定するステップと、
各パッチ領域画像の積分強度値に、そのパッチ領域画像の他のパッチ領域画像のパターン密度と比較したパターン密度を定量化したパターンスパース性メトリクスに比例した量で前記積分強度値が変化するようにゲインを適用するステップと、
ダイの、各ペアがテストダイと基準ダイを含むようなペアの中の各パッチの積分強度値間の差を確定し、レチクルの特徴物エッジに依存する特徴物の特性のばらつきと相関するレチクルの強度差マップを形成するステップと、
を含む方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各ダイのパッチ領域画像は、ダイのうちの同じダイのパッチ領域画像と整合させられる方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各パッチ領域画像の積分強度値は、パッチ領域画像の複数の小領域の平均強度値である方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各ダイの各パッチ領域画像のスパース性メトリクスは、そのダイの他のパッチ領域画像の平均エッジピクセル数とそのようなパッチ領域画像の局所的エッジピクセル数との比であり、各パッチ領域画像の積分強度値に前記ゲインを適用することは、他のパッチ領域画像よりも低いパターン密度及び対応する低いエッジピクセル数を有する各パッチ領域画像の積分強度値を増大させる、方法。 - 請求項4に記載の方法において、
平均および局所的エッジピクセル数は、各特徴物エッジに関する所定のピクセル幅に限定される方法。 - 請求項1に記載の方法において、
特徴物の特性のばらつきはクリティカルディメンション(CD)のばらつきである方法。 - 請求項6に記載の方法において、
レチクルの各パッチ領域の校正係数を使って強度差マップをCD差マップに変換するステップをさらに含む方法。 - 請求項7に記載の方法において、
各パッチ領域のための校正係数は、そのレチクルの製造に使用された、各パッチ領域の既知のCD値を有するデザインデータベースから確定される方法。 - 請求項8に記載の方法において、
各パッチ領域のための校正係数は、
そのようなパッチ領域に対応するデザインデータベースの1つまたは複数のパターンに基づいて、レチクルの各パッチ領域の画像をレンダリングし、
各パッチ領域の各レンダリング画像について、予想される積分強度値を確定し、
所定のCD変化によって、(i)各パッチ領域に対応する1つまたは複数のパターンの各々をバイアスし、バイアスされた1つまたは複数のパターンをそのようなパッチ領域のバイアス画像にレンダリングするか、または(ii)各パッチ領域のレンダリング画像の1つまたは複数のパターンをバイアスして、そのようなパッチ領域のバイアス画像を形成し、
各パッチ領域の各バイアス画像について、予想される積分強度値を確定し、
各パッチ領域について、レンダリング画像の積分強度値とバイアス画像の積分強度値との間の積分強度差を確定し、
各パッチ領域について、積分強度差を所定のCD変化で割ることによって校正係数を確定する
ことによって確定される方法。 - 請求項8に記載の方法において、
校正係数が各パッチ領域のために、フォトリソグラフィプロセスでそのレチクルを1回または複数回使用した後にCD均一性をモニタするために保存される方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各パッチ領域画像について、積分強度値を確定する前に、強度値をパッチ領域画像の中の何れの特徴物エッジからも所定の距離だけ離れた位置にある何れかのフラットフィールド領域の所定の一定値に変化させるステップをさらに含む方法。 - 請求項11に記載の方法において、
所定の距離は、特徴物エッジが隣接するフラットフィールド領域から確定された強度値に影響を与えないように選択される方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各パッチ領域画像の積分強度値に適用されるゲインは、所定の量により限定される方法。 - フォトリソグラフィ用レチクルを検査する検査システムにおいて、
少なくとも1つのメモリと、
レチクル上の同じダイの集合の各ダイの各パッチ領域の複数のパッチ領域画像を取得する動作と、
各パッチ領域画像の積分強度値を確定する動作と、
各パッチ領域画像の積分強度値に、そのパッチ領域画像の他のパッチ領域画像のパターン密度と比較したパターン密度を定量化したパターンスパース性メトリクスに比例した量で前記積分強度値が変化するようにゲインを適用する動作と、
ダイの、各ペアがテストダイと基準ダイを含むようなペアの中の各パッチの積分強度値間の差を確定し、レチクルの特徴物エッジに依存する特徴物の特性のばらつきと相関するレチクルの強度差マップを形成する動作と、
を実行するように構成された少なくとも1つのプロセッサと、
を含む検査システム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
各ダイのパッチ領域画像は、ダイのうちの同じダイのパッチ領域画像と整合させられるシステム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
各パッチ領域画像の積分強度値は、パッチ領域画像の複数の小領域の平均強度値であるシステム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
各ダイの各パッチ領域画像のスパース性メトリクスは、そのダイの他のパッチ領域画像の平均エッジピクセル数とそのようなパッチ領域画像の局所的エッジピクセル数との比であり、各パッチ領域画像の積分強度値に前記ゲインを適用することは、他のパッチ領域画像よりも低いパターン密度及び対応する低いエッジピクセル数を有する各パッチ領域画像の積分強度値を増大させる、システム。 - 請求項17に記載のシステムにおいて、
平均および局所的エッジピクセル数は、各特徴物エッジに関する所定のピクセル幅に限定されるシステム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
特徴物の特性のばらつきはクリティカルディメンション(CD)のばらつきであるシステム。 - 請求項19に記載のシステムにおいて、
少なくとも1つのメモリと少なくとも1つのプロセッサは、レチクルの各パッチ領域の校正係数を使って強度差マップをCD差マップに変換するようにさらに構成されているシステム。 - 請求項20に記載のシステムにおいて、
各パッチ領域のための校正係数は、そのレチクルの製造に使用された、各パッチ領域の既知のCD値を有するデザインデータベースから確定されるシステム。 - 請求項21に記載のシステムにおいて、
各パッチ領域のための校正係数は、
そのようなパッチ領域に対応するデザインデータベースの1つまたは複数のパターンに基づいて、レチクルの各パッチ領域の画像をレンダリングし、
各パッチ領域の各レンダリング画像について、予想される積分強度値を確定し、
所定のCD変化によって、(i)各パッチ領域に対応する1つまたは複数のパターンの各々をバイアスし、バイアスされた1つまたは複数のパターンをそのようなパッチ領域のバイアス画像にレンダリングするか、または(ii)各パッチ領域のレンダリング画像の1つまたは複数のパターンをバイアスして、そのようなパッチ領域のバイアス画像を形成し、
各パッチ領域の各バイアス画像について、予想される積分強度値を確定し、
各パッチ領域について、レンダリング画像の積分強度値とバイアス画像の積分強度値との間の積分強度差を確定し、
各パッチ領域について、積分強度差を所定のCD変化で割ることによって校正係数を確定する
ことによって確定されるシステム。 - 請求項21に記載のシステムにおいて、
校正係数が各パッチ領域のために、フォトリソグラフィプロセスでそのレチクルを1回または複数回使用した後にCD均一性をモニタするために保存されるシステム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
少なくとも1つのメモリと少なくとも1つのプロセッサは、
各パッチ領域画像について、積分強度値を確定する前に、強度値をパッチ領域画像の中の何れの特徴物エッジからも所定の距離だけ離れた位置にある何れかのフラットフィールド領域の所定の一定値に変化させるようにさらに構成されるシステム。 - 請求項24に記載のシステムにおいて、
所定の距離は、特徴物エッジが隣接するフラットフィールド領域から確定された強度値に影響を与えないように選択されるシステム。 - 請求項14に記載のシステムにおいて、
各パッチ領域画像の積分強度値に適用されるゲインは、所定の量により限定されるシステム。 - 検査ツールを使って、レチクル上の同じダイの集合の各ダイの各パッチ領域の複数のパッチ領域画像を取得する動作と、
各パッチ領域画像の積分強度値を確定する動作と、
各パッチ領域画像の積分強度値に、そのパッチ領域画像の他のパッチ領域画像のパターン密度と比較したパターン密度を定量化したパターンスパース性メトリクスに比例した量で前記積分強度値が変化するようにゲインを適用する動作と、
ダイの、各ペアがテストダイと基準ダイを含むようなペアの中の各パッチの積分強度値間の差を確定し、レチクルの特徴物エッジに依存する特徴物の特性のばらつきと相関するレチクルの強度差マップを形成する動作と、
を実行するための命令が記憶されている非一時的コンピュータ読取可能媒体。
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