JP2006029881A - パターン欠陥検査方法および装置 - Google Patents
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Abstract
グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】
複数波長を出力する照明手段3および4から射出された光を、ビームスプリッタ6で反射しウェハ1に照射する。ウェハ1からの回折光は対物レンズ8で集光され、光変調ユニット7、11、13を通して、光検出部17にてイメージセンサに結像し、信号処理部18にて欠陥を検出する。ここで、光変調ユニットは複数の光学部品を選択的に用いて対象欠陥に最適化する。
【選択図】図1
Description
パターンに応じて照明手段の照明波長と照明手段及び/又は結像光学系手段の開口絞りとの組合せを選択する選択手段とを備えて構成し、試料を照明手段から発射した光で照明し、照明された試料のパターンの光学像を結像光学系で結像させ、この結像させた光学像を検出して試料のパターンの画像を検出し、この検出した画像を処理して前記試料上のパターンの欠陥を検出する場合において、試料の表面に形成されたパターンに応じて試料を照明する光の波長と照明段及び/又は結像光学系手段の開口絞りとの組合せを選択して試料のパターンの光学像を結像させるようにした。
動作は、まず、BS部6で反射された照明光が1/2波長板711へ入射する。1/2波長板711では照明光の偏光方向を回転する。該回転された照明は1/4波長板712を通過することにより楕円偏光となり、対物レンズ8を通してウェハ1に照射される。該照射光は、ウェハ1で反射・回折され、対物レンズ8で集光され、1/4波長板712、1/2波長板711を通してBS部6に入射する。この時、ウェハ1で反射・回折された光は、0次回折光と高次回折光とで偏光状態(偏光の回転量や位相差)の変化量が違うため、該回折光の偏光方向に対して1/2波長板711と1/4波長板712を光軸周りに回転させることにより、BS部6における0次回折光と高次回折光の透過比率を変えることができる。前記高次回折光には、ウェハ1上の回路パターンのエッジ情報が含まれているため、0次回折光の光量に対して、高次回折光の光量を多く検出することによって、回路パターンのコントラストを向上させることが可能となる。
Claims (15)
- 試料上に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置であって、
表面にパターンが形成された試料を照明する照明手段と、
該照明手段で照明された前記試料のパターンの光学像を形成する結像光学系手段と、
該結像光学系手段で結像させた光学像を検出して前記試料のパターンの画像を検出する検出手段と、
該検出手段で検出した画像を処理して前記試料上のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と、
前記パターンに応じて前記照明手段の照明波長と前記照明手段及び/又は前記結像光学系手段の開口絞りとの組合せを選択する選択手段と
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 表面にパターンが形成された試料を照明する照明手段と、
該照明手段により照明された試料からの回折光の像を結像する結像光学系手段と、
該照明手段および/または該結像光学系手段の光路中に配置されて光の強度または/および位相を制御する光変調手段と、
前記結像光学系手段により結像された試料からの回折光の像を撮像して画像信号を出力する画像検出手段と、
該画像検出手段から出力された画像信号を処理して前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と
を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 前記照明手段は複数の照明光源を備え、該複数の照明光源にランプ光源とレーザ光源とを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明手段は、ランプ光源を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明手段は、レーザ光源を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明手段は、波長の異なる複数の照明光源と、該複数の照明光源のそれぞれの強度を測定する強度測定部と、該強度測定部で測定した前記複数の照明光源のそれぞれの強度の比率が一定になるように前記複数の照明光源から発射される光の強度を調整する強度調整部とを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記光変調手段は、1/2波長板と1/4波長板とを備えていることを特徴とする請求項2記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記光変調手段は、微分干渉光学系を備えていることを特徴とする請求項2記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記光変調手段は、透過率を制御された誘電体膜を用いたフィルタを備えていることを特徴とする請求項2記載のパターン欠陥検査装置。
- 表面にパターンが形成された試料を照明手段から発射した光で照明し、
該照明された前記試料のパターンの光学像を結像光学系で結像させ、
該結像させた光学像を検出して前記試料のパターンの画像を検出し、
該検出した画像を処理して前記試料上のパターンの欠陥を検出するパターン検査方法であって、
前記試料の表面に形成されたパターンに応じて前記試料を照明する光の波長と前記照明段及び/又は前記結像光学系手段の開口絞りとの組合せを選択して前記試料のパターンの光学像を結像させることを特徴とするパターン検査方法。 - 表面にパターンが形成された試料を照明手段から発射した光で照明し、
該照明された前記試料のパターンの光学像を結像光学系で結像させ、
該結像させた光学像を検出して前記試料のパターンの画像を検出し、
該検出した画像を処理して前記試料上のパターンの欠陥を検出するパターン検査方法であって、
該照明手段および/または該結像光学系の光路中に配置されて光の強度または/および位相を制御することを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 前記試料を、ランプとレーザとを用いて照明することを特徴とする請求項10又は11に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記試料を、ランプで照明することを特徴とする請求項10又は11に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記照明を、レーザで照明することを特徴とする請求項10又は11に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記照明を波長の異なる複数の照明光を用いて行い、該複数の照明光のそれぞれの強度を測定し、該測定した前記複数の照明光のそれぞれの強度の比率が一定になるように前記複数の照明光の強度を調整することを特徴とする請求項10又は11に記載のパターン欠陥検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004206688A JP2006029881A (ja) | 2004-07-14 | 2004-07-14 | パターン欠陥検査方法および装置 |
US11/180,536 US7359044B2 (en) | 2004-07-14 | 2005-07-14 | Method and apparatus for inspecting pattern defects |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004206688A JP2006029881A (ja) | 2004-07-14 | 2004-07-14 | パターン欠陥検査方法および装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006029881A true JP2006029881A (ja) | 2006-02-02 |
Family
ID=35599062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004206688A Pending JP2006029881A (ja) | 2004-07-14 | 2004-07-14 | パターン欠陥検査方法および装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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