JP2005531028A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 平面光導波路組立品の製造方法であって、
   （ｉ）（Ａ）１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合アルケニル基を含有し且つＲ ^２ _３ ＳｉＯ _１／２ 単位とＳｉＯ _４／２ 単位とからなるＭＱ樹脂およびＲ ^２ _３ ＳｉＯ _１／２ 単位とＲ ^１ ＳｉＯ _３／２ 単位とからなるＭＴ樹脂から選択される有機ポリシロキサン、
   （Ｂ）該組成物を硬化させるに充分な濃度の、１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合水素原子を含有し且つトリメチルシロキシ末端化ポリ（ジメチルシロキサン／メチル水素シロキサン）およびＰｈＳｉＯ _３／２ 単位とＨ（ＣＨ _３ ） _２ ＳｉＯ _１／２ 単位とからなる有機水素ポリシロキサン樹脂から選択される有機シリコン化合物、および
   （Ｃ）触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
   を含むシリコーン組成物を、基板表面へ適用してシリコーンフィルムを形成させるステップ、
   （ｉｉ）１５０〜８００ｎｍの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも１つの選択領域を露光させて、少なくとも１つの露光領域と少なくとも１つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産するステップ、
   （ｉｉｉ）該露光領域が実質的に現像溶媒中不溶性となり、該非露光領域が該現像溶媒中可溶性となるように、所定の時間該部分露光フィルムを加熱するステップ、
   （ｉｖ）該現像溶媒を用いて、この加熱されたフィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させるステップ、ならびに
   （ｖ）該パターンフィルムを充分な時間加熱して、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３〜１．７の屈折率を持つ少なくとも１つのシリコーンコアを形成させるステップ
   を含み、ここで該基板が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ平面光導波路組立品の製造方法。
2. 前記有機ポリシロキサンが、本質的にＲ ^２ _３ ＳｉＯ _１／２ 単位とＲ ^１ ＳｉＯ _３／２ 単位とからなる有機ポリシロキサン樹脂であって、ここで、Ｒ ^２ _３ ＳｉＯ _１／２ 単位のＲ ^１ ＳｉＯ _３／２ 単位に対するモル比が０．０５〜１．０であり、各Ｒ ^１ が、ヒドロカルビル、重水素置換ヒドロカルビル、およびハロゲン置換ヒドロカルビルから独立に選択され、全て脂肪族不飽和部分を含まず、Ｒ ^２ がＲ ^１ またはアルケニルである請求項１に記載の方法。
3. 前記光活性化ヒドロシリル化触媒が、白金（ＩＩ）β−ジケトネートである請求項１に記載の方法。
4. （ｖｉ）前記基板および前記シリコーンコアを、硬化可能なポリマー組成物を用いて被覆して、ポリマーフィルムを形成させるステップ、
   （ｖｉｉ）該ポリマーフィルムを硬化させて、被覆層を形成させるステップ
   を更に含み、ここで、該被覆層が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ請求項１に記載の方法。
5. 請求項１に記載の方法によって製造される平面光導波路組立品。