JP2002286912A

JP2002286912A - 光学部品の製造方法

Info

Publication number: JP2002286912A
Application number: JP2001088154A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Tsushima; 宏津島
Original assignee: Nippon Paint Co Ltd
Current assignee: Nippon Paint Co Ltd
Priority date: 2001-03-26
Filing date: 2001-03-26
Publication date: 2002-10-03

Abstract

(57)【要約】【課題】表面が平坦なマイクロレンズ等の微細な光学
部品を簡易な製造工程で製造する。【解決手段】（Ａ）有機溶剤に可溶な重量平均分子量
１００００以上のポリシランと、（Ｂ）光ラジカル発生
剤、酸化剤、及びシリコーン化合物のうちの少なくとも
一種と、（Ｃ）有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物を、
基材上に塗布して感光層を形成し、該感光層の所定領域
を所定の露光量となるように選択的に露光して屈折率を
変化させ、該感光層を光学部品とすることを特徴として
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光により屈折率
が変化する感光材料を用いて光学部品を製造する方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】デジタルカメラ等に使用されるＣＣＤ素
子は、近年、画素数の向上とともに微細化が進み、ＣＣ
Ｄ素子１つ当りの受光エリアが減少してきている。受光
量を高める目的で、ＣＣＤ素子の上に凸レンズ状のマイ
クロレンズを形成することが試みられている。ＣＣＤ素
子に用いるマイクロレンズとしては、フォトレジスト膜
をパターニングして凹凸のパターンを形成し、この凹凸
のパターンを加熱溶融させてレンズ形状に形成してい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＣＣＤ
素子の高密度化に伴い、上記の方法では微細なマイクロ
レンズを高精度に形成することができないという問題が
あった。また、マイクロレンズが凹凸形状を有している
ので、マイクロレンズを形成した後、その上に配線等を
形成するためには、マイクロレンズの上に別の樹脂を充
填し、表面を平坦化させなければならないという問題が
あった。

【０００４】本発明の目的は、表面が平滑なマイクロレ
ンズ等の微細な光学部品を簡易な製造工程で製造するこ
とができる光学部品の製造方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の光学部品の製造
方法は、（Ａ）有機溶剤に可溶な重量平均分子量１００
００以上のポリシランと、（Ｂ）光ラジカル発生剤、酸
化剤、及びシリコーン化合物のうちの少なくとも一種
と、（Ｃ）有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物を、基材
の上に塗布して感光層を形成する工程と、該感光層の所
定領域を所定の露光量となるように選択的に露光して屈
折率を変化させ、感光層を光学部品とする工程とを備え
ることを特徴としている。

【０００６】上記感光性樹脂組成物に含まれるポリシラ
ンは、紫外線等の光照射により、Ｓｉ−Ｓｉ結合が切断
されて、Ｓｉ結合の間に酸素が導入され、Ｓｉ−Ｏ−Ｓ
ｉ結合（シロキサン結合）が生成する。このようなシロ
キサン結合が生成することにより、屈折率が低下する。
このようなシロキサン結合の生成は、露光量に比例して
増加する。従って、上記感光性樹脂組成物から形成した
感光層を露光することにより、その露光量に依存して屈
折率を低下させることができる。

【０００７】本発明では、上記感光性樹脂組成物が形成
した感光層の所定領域を所定の露光量となるように選択
的に露光することにより屈折率を変化させ、マイクロレ
ンズ等の光学部品としている。

【０００８】本発明は、ＣＣＤ用マイクロレンズ、並び
に液晶ディスプレー、スキャナー、プロジェクターなど
幅広い分野で用いられる光学部品の製造に適用すること
ができる。

【０００９】本発明の光学部品は、上記本発明の製造方
法により製造されたことを特徴としている。本発明の光
学部品形成用材料は、上記感光性樹脂組成物からなるこ
とを特徴としている。

【００１０】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に従う製造方法の
一例を説明するための模式的断面図である。図１に示す
ように、基材１の上に、感光性樹脂組成物を塗布し、塗
布後乾燥させて感光層２を形成する。次に、感光層２の
上に、所定のパターンで孔３ａが形成されたマスク３を
配置する。マスク３は、感光層２に密着させるのではな
く、適当な距離離れた位置に配置する。

【００１１】マスク３の孔３ａを光４が通過する際、光
４は回折されて、孔３ａから広がった状態で感光層２に
照射される。この拡散した光は、孔３ａの真下の位置に
おいて光強度が最も強く、孔３ａの真下の位置から離れ
るにしたがって徐々に光強度が弱くなる分布を有してい
る。従って、孔３ａの真下の位置が最も露光量が大き
く、離れるにしたがって露光量が減少する。上述のよう
に、感光層２に含まれるポリシランは、光照射によりそ
の屈折率が減少するので、図１に示すように、感光層２
の屈折率は、孔３ａの真下の位置において最も低くな
り、ここから離れるにしたがい徐々に高くなるように変
化する。従って、感光層２内では、図１に示すような屈
折率のパターンが形成されるので、感光層２をマイクロ
レンズとして用いることができる。

【００１２】図２は、本発明に従う製造方法の他の例を
示す模式的断面図である。図２に示すように、基材１の
上に、感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥することによ
り、感光層２が形成されている。感光層２の上には、マ
スク５が密着するように配置されている。

【００１３】図３は、マスク５のパターンを示す平面図
である。図３に示すように、マスク５は、階調性のパタ
ーンを有しており、形成すべきマイクロレンズの中心に
対応する、中心点５ａにおいて透過率が最も低くなって
おり、中心点５ａから離れるにしたがって光の透過率が
高くなるような階調性のパターンを有している。従っ
て、このような階調性のパターンを有するマスク５を用
いて、感光性２を露光することにより、中心点５ａに対
応する感光層２の領域において屈折率が最も高くなり、
中心点５ａから離れるにしたがって屈折率が徐々に低下
するように、感光層２を露光することができる。

【００１４】以上のように、本発明に従えば、種々の方
法で感光層を露光し、感光層に所望の屈折率変化を付与
することができる。従って、マイクロレンズ等の微細な
光学部品を簡易な工程で製造することができる。また、
感光層の表面は平坦であるため、表面が平坦なマイクロ
レンズ等の微細な光学部品とすることができる。

【００１５】以下、本発明において用いる感光性樹脂組
成物について詳細に説明する。＜感光性樹脂組成物＞本発明において用いる感光性樹脂
組成物は、（Ａ）有機溶剤に可溶な重量平均分子量１０
０００以上のポリシランと、（Ｂ）光ラジカル発生剤、
酸化剤、及びシリコーン化合物のうちの少なくとも一種
と、（Ｃ）有機溶剤とを含んでいる。（Ｂ）成分につい
ては、光ラジカル発生剤、酸化剤、及びシリコーン化合
物のうち少なくとも一種が含まれていればよい。以下、
これらについて説明する。

【００１６】（ポリシラン）本発明において用いるポリ
シランとしては、ネットワーク状及び直鎖状のものが挙
げられる。感光性材料としての機械的強度を考慮する
と、ネットワーク状ポリシランが好ましい。ネットワー
ク状と鎖状は、ポリシラン中に含まれるＳｉ原子の結合
状態によって区別される。ネットワーク状ポリシランと
は、隣接するＳｉ原子と結合している数(結合数)が、３
または４であるＳｉ原子を含むポリシランである。これ
に対して、直鎖状のポリシランでは、Ｓｉ原子の、隣接
するＳｉ原子との結合数は２である。通常Ｓｉ原子の原
子価は４であるので、ポリシラン中に存在するＳｉ原子
の中で結合数が３以下のものは、Ｓｉ原子以外に、炭化
水素基、アルコキシ基または水素原子と結合している。
このような炭化水素基としては、炭素数１〜１０の、ハ
ロゲンで置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素
数６〜１４の芳香族炭化水素基が好ましい。

【００１７】脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、トリフルオロプロピル基及びノナフルオ
ロヘキシル基などの鎖状のもの、及びシクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基のような脂環式のものなど
が挙げられる。

【００１８】また、芳香族炭化水素基の具体例として
は、フェニル基、ｐ−トリル基、ビフェニル基及びアン
トラシル基などが挙げられる。アルコキシ基としては、
炭素数１〜８のものが挙げられる。具体例としては、メ
トキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、オクチルオキシ
基などが挙げられる。合成の容易さを考慮すると、これ
らの中でメチル基及びフェニル基が特に好ましい。

【００１９】ネットワーク状ポリシランの場合には、隣
接するＳｉ原子との結合数が３または４であるＳｉ原子
は、ネットワーク状ポリシラン中の全体のＳｉ原子数の
２〜５０％であることが好ましい。この値は、硅素の核
磁気共鳴スペクトル測定により決定することができる。

【００２０】なお、本明細書におけるポリシランは、ネ
ットワーク状と直鎖状のポリシランを混合したものも含
んでいる。その場合における、上記のＳｉ原子の含有率
は、ネットワーク状ポリシランと直鎖状ポリシランの平
均によって計算される。

【００２１】本発明に使用されるポリシランはハロゲン
化シラン化合物をナトリウムのようなアルカリ金属の存
在下、ｎ−デカンやトルエンのような有機溶媒中におい
て８０℃以上に加熱することによる重縮合反応によって
製造することができる。

【００２２】ネットワーク状ポリシランは、例えば、オ
ルガノトリハロシラン化合物、テトラハロシラン化合
物、及びジオルガノジハロシラン化合物からなり、オル
ガノトリハロシラン化合物及びテトラハロシラン化合物
が全体量の２モル％以上５０モル％未満であるハロシラ
ン混合物を加熱して重縮合することにより得ることがで
きる。ここで、オルガノトリハロシラン化合物は、隣接
するＳｉ原子との結合数が３であるＳｉ原子源となり、
テトラハロシラン化合物は、隣接するＳｉ原子との結合
数が４であるＳｉ原子源となる。なお、ネットワーク構
造の確認は、紫外線吸収スペクトルや硅素の核磁気共鳴
スペクトルの測定により確認することができる。

【００２３】直鎖状ポリシランは、複数もしくは単一の
ジオルガノジクロロシランを用いる他は、上記のネット
ワーク状ポリシランの場合と同様の反応により製造する
ことができる。

【００２４】ポリシランの原料として用いられるオルガ
ノトリハロシラン化合物、テトラハロシラン化合物、及
びジオルガノジハロシラン化合物がそれぞれ有するハロ
ゲン原子は、塩素原子であることが好ましい。オルガノ
トリハロシラン化合物及びジオルガノジハロシラン化合
物が有するハロゲン原子以外の置換基としては、上述の
炭化水素基、アルコキシ基または水素原子が挙げられ
る。

【００２５】これらのネットワーク状及び直鎖状のポリ
シランは、有機溶剤に可溶であり、重量平均分子量が１
００００以上のものであれば特に限定されない。感光性
材料としての利用を考慮すると、本発明で使用するポリ
シランは蒸発性を有する有機溶媒に可溶であることが好
ましい。このような有機溶媒としては、炭素数５〜１２
の炭化水素系、ハロゲン化炭化水素系、エーテル系の有
機溶剤が挙げられる。

【００２６】炭化水素系の例としては、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、シクロヘキサン、ｎ−デカン、ｎ−ド
デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベン
ゼンなどが挙げられる。ハロゲン化炭化水素系の例とし
ては、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエ
タン、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどが挙げられ
る。エーテル系の例としては、ジエチルエーテル、ジブ
チルエーテル、テトラハイドロフランなどが挙げられ
る。

【００２７】本発明において使用するポリシランは、重
量平均分子量が１００００以上のものである。重量平均
分子量が１００００未満であると、感光材料に粘着性が
出たりする場合がある。好ましい重量平均分子量として
は、１００００〜５００００であり、さらに好ましくは
１５０００〜３００００である。

【００２８】（光ラジカル発生剤及び酸化剤）本発明に
おいて用いる光ラジカル発生剤は、光によってハロゲン
ラジカルを発生する化合物であれば特に限定されない
が、２，４，６−トリス(トリハロメチル)−１，３，５
−トリアジン及びその２位またはその２位と４位が置換
された化合物、フタルイミドトリハロメタンスルフォネ
ート及びそのベンゼン環に置換基を有する化合物、ナフ
タルイミドトリハロメタンスルフォネート及びそのベン
ゼン環に置換基を有する化合物などを例として挙げるこ
とができる。これらの化合物が有する置換基は、置換基
を有していてもよい脂肪族及び芳香族炭化水素基であ
る。

【００２９】本発明において用いる酸化剤は、酸素供給
源となる化合物であれば特に限定されないが、例えば、
過酸化物、アミンオキシド及びホスフィンオキシドなど
を例として挙げることができる。

【００３０】光ラジカル発生剤と酸化剤の組み合わせと
しては、光ラジカル発生剤としてのトリクロロトリアジ
ン系のものと、酸化剤としての過酸化物の組み合わせが
特に好ましい。

【００３１】光ラジカル発生剤は、上記ポリシランが光
照射により分解する際、Ｓｉ−Ｓｉ結合がハロゲンラジ
カルにより効率よく切断されることを目的として添加さ
れるものである。また、酸化剤は、切断された後のＳｉ
の結合に酸素が容易に挿入されるように添加されるもの
である。

【００３２】色素の光励起によるハロゲンラジカルの発
生を高めるため、クマリン系、シアニン系、メロシアニ
ン系等の可溶性色素を加えてもよい。また、可溶性色素
を加えることにより、ポリシランの光に対する感度を向
上させることができる。

【００３３】（シリコーン化合物）本発明において使用
するシリコーン化合物は、以下の一般式で示される構造
のシリコーン化合物が好ましく用いられる。

【００３４】

【化２】

【００３５】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶
は、炭素数１〜１０のハロゲンまたはグリシジル基で置
換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２
のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、
炭素数１〜８のアルコキシ基からなる群から選択される
基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。ｍ及び
ｎは整数であり、ｍ＋ｎ≧１を満たすものである。）上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の置換基となる脂肪族炭化水素基の具体例
としては、メチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、トリフルオロプロピル基、
グリシジルオキシプロピル基などの鎖状のもの、及びシ
クロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基のような脂環
式のものなどが挙げられる。また、芳香族炭化水素基の
具体例としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ビフェニ
ル基などが挙げられる。アルコキシ基の具体例として
は、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、オクチル
オキシ基、ｔｅｒ−ブトキシ基などが挙げられる。

【００３６】上記のＲ¹〜Ｒ⁶の種類及びｍとｎの値は特
に重要ではなく、ポリシラン及び有機溶媒と相溶するよ
うなものであれば特に限定されない。相溶性を考慮した
場合には、使用するポリシランが有する炭化水素基と同
じ基を有していることが好ましい。例えば、ポリシラン
として、フェニルメチル系のものを使用する場合には、
同じフェニルメチル系またはジフェニル系のシリコーン
化合物を使用することが好ましい。

【００３７】また、本発明において用いるシリコーン化
合物では、一分子中のＲ¹〜Ｒ⁶のうち、少なくとも２つ
が炭素数１〜８のアルコキシ基であることが好ましい。
従って、一分子中にアルコキシ基を２つ以上有している
ことが好ましい。一分子中にアルコキシ基を２つ以上有
することにより、ポリシランの架橋剤として働かせるこ
とができる。ポリシランを架橋することにより耐薬品性
などの膜特性を向上させることができる。そのようなも
のとしては、アルコキシ基を１５〜３５重量％含んだメ
チルフェニルメトキシシリコーンやフェニルメトキシシ
リコーンなどを挙げることができる。

【００３８】本発明において用いるシリコーン化合物の
重量平均分子量としては、１００００以下であることが
好ましく、さらに好ましくは３０００以下である。重量
平均分子量が高くなり過ぎると、ポリシランとの相溶性
が低下し不均一な膜になったり、感度が低下する場合が
ある。

【００３９】（有機溶剤）本発明における感光性樹脂組
成物に含まれる有機溶剤としては、ポリシランを溶解さ
せることができるものであれば特に限定されるものでは
なく、具体的にはポリシランの説明において例示した有
機溶剤が挙げられる。

【００４０】（感光性樹脂組成物における配合割合）本
発明において用いる感光性樹脂組成物における配合割合
は、ポリシラン１００重量部に対して、光ラジカル発生
剤１〜３０重量部、酸化剤１〜３０重量部、シリコーン
化合物５〜１００重量部であることが好ましい。さら
に、上述の可溶性色素を添加する場合には、ポリシラン
１００重量部に対して１〜２０重量部であることが好ま
しい。有機溶剤は、全体に対する濃度が２０〜６０重量
％となるように用いることが好ましい。なお、光ラジカ
ル発生剤、酸化剤、及びシリコーン化合物については、
これら全てが含まれている必要はなく、これらのうちの
少なくとも１種が含まれていればよい。

【００４１】シリコーン化合物は、ポリシランの有機溶
剤への溶解性を高めるとともに、ポリシランと光ラジカ
ル発生剤と酸化剤との相溶化剤としても機能するもので
ある。従って、シリコーン化合物を用いることにより、
光ラジカル発生剤及び酸化剤を多く含むことが可能にな
る。

【００４２】（感光性樹脂組成物の塗布方法）基材上へ
の塗布方法は、均一な厚みの感光層を形成することがで
きれば、特に限定されるものではなく、当業者に知られ
た方法によって行うことができる。一般に、スピンコー
ターを用いることが好ましい。基材上に形成する感光層
は、マイクロレンズとしての機能を要求される場合、乾
燥膜厚が５〜１００μｍの範囲内となるように塗布され
ることが好ましい。

【００４３】＜基材＞本発明における基材は、その用途
により異なるものであり、特に限定されるものではない
が、ＣＣＤ素子用のマイクロレンズとして感光層を形成
する場合には、ＣＣＤ素子が形成された基板を基材とし
て用いる。その他、基材としては、ガラス基板、半導体
基板、石英基板、プラスチック基板等を用いることがで
きる。

【００４４】＜感光層の露光方法＞感光層の露光は、上
述のように、孔が形成されたマスクや、階調性のパター
ンが形成されたマスクなどを用いて所定の領域を所定の
露光量とするように露光することができる。階調性パタ
ーンのマスクとしては、例えば、クロムマスクを階調的
に濃度変化させたマスクや、銀塩製のマスク、並びに３
Ｄホトマスク（ＣａｎｙｏｎＭａｔｅｒｉａｌｓ社
製）などが用いられる。

【００４５】また、本発明における露光は、上記のよう
なマスクを用いた露光に限定されるものではなく、例え
ば、レーザー等を用い、レーザー光をスキャニングする
ことにより露光してもよい。

【００４６】照射する光としては、一般に紫外線が好ま
しい。紫外線としては、ポリシランのσ−σ*吸収域で
ある２５０〜４００ｎｍの波長を有する紫外線が好まし
い。露光量としては、１μｍの膜厚に対して１０〜１０
０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であることが好ましく、さら
に好ましくは５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²である。

【００４７】光源としては、高圧及び超高圧水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ等が用いられ、レ
ーザー光を用いる場合には、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、Ａｒ
レーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー等を用い
ることができる。

【００４８】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
く、本発明の範囲内で適宜変更して実施することが可能
なものである。

【００４９】＜調製例１＞（ポリシランの調製）攪拌機を備えた１０００ｍｌフラ
スコに、トルエン４００ｍｌ及びナトリウム１３．３ｇ
を充填した。紫外線を遮断したイエロールーム中でフラ
スコの内容物を１１１℃に昇温し、高速攪拌することに
よりナトリウムをトルエン中に微細に分散した。ここに
フェニルメチルジクロロシラン４２．１ｇ、テトラクロ
ロシラン４．１ｇを添加し、３時間攪拌することにより
重合を行った。その後、得られる反応混合物にエタノー
ルを添加することにより、過剰のナトリウムを失活させ
た。水洗後、分離した有機層をエタノール中に投入する
ことにより、ポリシランを沈澱させた。得られた粗製の
ポリシランをエタノールから３回再沈殿させることによ
り、重量平均分子量１１６００のネットワーク状ポリメ
チルフェニルシランを得た。

【００５０】＜実施例１＞調製例１で得られたネットワ
ーク状ポリシラン１００重量部、シリコーン化合物とし
てのＴＳＲ−１６５ (分子量９３０のメチルフェニルメ
トキシシリコーンレジン、メトキシ基含有量：１５重量
％、東芝シリコーン社製)１０重量部、光ラジカル発生
剤としてのＴＡＺ−１１０(２，４−ビス(トリクロロメ
チル)−６−(ｐ−メトキシフェニルビニル)−１，３，
５−トリアジン、みどり化学社製)１０重量部、及び酸
化剤としてのＢＴＴＢ(３，３′，４，４′−テトラ−
(ｔ−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、日
本油脂社製)１５重量部をトルエン１２１５重量部に溶
解して、感光性樹脂組成物（レジスト材）を得た。

【００５１】この感光性樹脂組成物を、石英基板の上に
スピンコーターを用いて、厚さ２０μｍとなるように塗
布した後、１２０℃で１０分間オーブンで乾燥させ、感
光層を形成した。

【００５２】次に、感光層の上に、直径１０μｍのマイ
クロレンズアレー用の３Ｄホトマスクを密着させて配置
し、マスクの上方から２０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量
で、感光層を露光した。露光後、感光層を基板とともに
１５０℃で３０分間加熱した。

【００５３】以上のようにして形成した感光層からなる
マイクロレンズは、焦点距離１０μｍであった。また、
触針式表面形状測定器を用いて測定したところ、感光層
の表面においては、０．１ミクロンの段差しかなく、平
坦な表面であった。

【００５４】

【発明の効果】本発明によれば、表面が平坦なマイクロ
レンズ等の微細な光学部品を簡易な製造工程で製造する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従う製造方法の一例を示す模式的断面
図。

【図２】本発明に従う製造方法の他の例を示す模式的断
面図。

【図３】図２に示す実施例において用いるマスクのパタ
ーンを示す平面図。

【符号の説明】

１…基材２…感光層３…マスク３ａ…マスクの孔４…紫外線５…階調性のパターンマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｇ０３Ｆ 7/004 ５２１Ｇ０３Ｆ 7/004 ５２１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）有機溶剤に可溶な重量平均分子量
１００００以上のポリシランと、（Ｂ）光ラジカル発生
剤、酸化剤、及びシリコーン化合物のうちの少なくとも
一種と、（Ｃ）有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物を、
基材上に塗布して感光層を形成する工程と、前記感光層の所定の領域を所定の露光量となるように選
択的に露光して屈折率を変化させ、前記感光層を光学部
品とする工程とを備えることを特徴とする光学部品の製
造方法。
【請求項２】前記シリコーン化合物が、以下の一般式
で示される構造を有するシリコーン化合物であることを
特徴とする請求項１に記載の光学部品の製造方法。【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、炭素数１
〜１０のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていて
もよい脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のハロゲンで
置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数１〜８
のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互
いに同一でも異なっていてもよい。ｍ及びｎは整数であ
り、ｍ＋ｎ≧１を満たすものである。）
【請求項３】前記露光工程が、前記感光層の上に階調
性のパターンマスクを配置して露光する工程を含むこと
を特徴とする請求項１または２に記載の光学部品の製造
方法。
【請求項４】前記光学部品がマイクロレンズであるこ
とを特徴とする請求項１〜３のいすれか１項に記載の光
学部品の製造方法。
【請求項５】前記マイクロレンズがＣＣＤ用マイクロ
レンズであることを特徴とする請求項４に記載の光学部
品の製造方法。
【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の方
法で製造されたことを特徴とする光学部品。
【請求項７】（Ａ）有機溶剤に可溶な重量平均分子量
１００００以上のポリシランと、（Ｂ）光ラジカル発生
剤、酸化剤、及びシリコーン化合物のうちの少なくとも
一種と、（Ｃ）有機溶剤とを含むことを特徴とする光学
部品形成用材料。