JP5374021B2 - 屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 - Google Patents
屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5374021B2 JP5374021B2 JP2006553932A JP2006553932A JP5374021B2 JP 5374021 B2 JP5374021 B2 JP 5374021B2 JP 2006553932 A JP2006553932 A JP 2006553932A JP 2006553932 A JP2006553932 A JP 2006553932A JP 5374021 B2 JP5374021 B2 JP 5374021B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distribution
- refractive index
- lens
- polysilane
- gradient index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0888—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds
- B29C35/0894—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds provided with masks or diaphragms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/001—Combinations of extrusion moulding with other shaping operations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
- B29C48/07—Flat, e.g. panels
- B29C48/08—Flat, e.g. panels flexible, e.g. films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
- B29D11/00028—Bifocal lenses; Multifocal lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0087—Simple or compound lenses with index gradient
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2083/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as moulding material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
Description
前記屈折率分布型レンズは、ポリシランを含む、膜厚が100μmより大きい板状部材であり、
前記領域の前記屈折率分布は、酸化物が所定の分布で添加された前記ポリシランを含む板状部材を露光し、酸化反応に沿って形成した分布であり、
前記板状部材の面に平行な方向における屈折率の変化を含む分布であり、
且つ前記面に垂直な方向における屈折率の実質的な変化を含まない分布である、
屈折率分布型レンズである。
酸化物が所定の分布で添加されたシート状のポリシラン材を準備するポリシラン材準備工程と、
前記ポリシラン材の内に前記屈折率分布を形成させるために、強度分布を有する紫外線を前記ポリシラン材に照射する紫外線照射工程とを備え、
前記酸化物の前記分布は、前記紫外線が照射される前記ポリシラン材の照射面に近い方が遠い方に比べて前記酸化物の濃度が低い分布である、屈折率分布型レンズの製造方法である。
ここでは、本発明に係る屈折率分布型レンズ、及びそれを用いた立体画像撮像装置、及び立体画像再生装置の一実施の形態についてそれぞれ説明する。
1.制御回路は、図1のカメラ905により撮影した複数の正立像の画像データを、図3の画像表示部908の所定位置に再生し表示する。
2. 各正立像の表示位置は、各WG型GIレンズ901に対応する位置であるので、これら再生画像からの光が各WG型GIレンズ901の入射端面943に入射し、各出射端面945から出射して、それぞれの光が視聴者909の眼に入る。この様にして、視聴者909の脳の中で立体画像が認識される。
ここでは、他の本発明に係る屈折率分布型レンズ、及びそれを用いた立体画像撮像装置、及び立体画像再生装置の一例についてそれぞれ説明する。
次に、本発明の屈折率分布型レンズ製造方法の一実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図14に、本発明の実施の形態4の屈折率分布型レンズアレーの概要図を示す。
図23に、本発明の実施の形態5の屈折率分布型バーレンズアレーの概要図を示す。なお、図14と同じ構成部分には、同じ符号を用いている。
Lとなるように平行に配置する。
図28は、本発明の実施の形態6の屈折率分布型レンズをIPに使用した立体画像撮像装置の概要図を示している。
前記屈折率分布型レンズは、ポリシランを含む板状部材であり、
前記領域の前記屈折率分布は、前記板状部材の面に平行な方向における屈折率の変化を含む分布であり、且つ前記面に垂直な方向における屈折率の実質的な変化を含まない分布である、屈折率分布型レンズである。
前記領域の前記屈折率分布は、前記複数の各領域の軸を中心とした分布であり、且つ前記軸と実質上直交する方向に関して、前記軸から遠ざかるに従って前記屈折率が実質上減少する分布であり、
前記複数の領域毎の前記軸の方向は、前記積層用部材の積層面に実質上平行であり、且つ前記軸同士の方向も互いに実質上平行であり、
前記軸と交差する、前記積層された積層用部材の両側面の一方の面が光の入射面であり、他方の面が前記光の出射面である、上記第2の本発明の屈折率分布型レンズである。
前記入射面側から各領域毎に入射した被写体からの光が、前記出射面側に露出した各端部の表面上に前記被写体の像として結像する様に、前記屈折率分布、及び前記領域の前記両端部の間の距離が決定されている上記第9の屈折率分布型レンズである。
前記領域の前記屈折率分布は、前記積層用部材の前記厚み方向における中央部から前記積層用部材の積層面に向かうに従って、前記屈折率が実質上減少する分布であり、
前記積層の方向に実質上平行な前記積層用部材の両側面の一方の面が光の入射面であり、他方の面が前記光の出射面である、上記第2の本発明の屈折率分布型レンズである。
酸化物が所定の分布で添加されたシート状のポリシラン材を準備するポリシラン材準備工程と、
前記ポリシラン材の内に前記屈折率分布を形成させるために、強度分布を有する紫外線を前記ポリシラン材に照射する紫外線照射工程とを備え、
前記酸化物の前記分布は、前記紫外線が照射される前記ポリシラン材の照射面に近い方が遠い方に比べて前記酸化物の濃度が低い分布である、屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記紫外線照射工程では、前記ポリシラン材の上面からと、前記透明基板を介して下面からの両面から紫外線を照射する、上記第14の本発明の屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記紫外線照射工程では、前記2枚の透明基板のそれぞれを介して前記ポリシラン材の両面に照射されるように、前記ポリシラン材の両面から紫外線を照射する、上記第14の本発明の屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記ポリシラン材の一方の面側に、前記ポリシラン材に平行に、紫外線透過率分布を有するマスク板を配置し、
実質上均一の強度の紫外線を前記マスク板を介して照射することにより、前記ポリシラン材に対して前記強度分布を有する紫外線が照射されるようにする、上記第14の本発明の屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記マスク板と同じ紫外線透過率分布を有する別のマスク板を、前記ポリシラン材のもう一方の面側に、平行に配置し、
前記マスク板および前記別のマスク板のそれぞれを介して前記ポリシラン材の両面に前記強度分布を有する紫外線が照射されるように、前記マスク板および前記別のマスク板の外側の2方向から実質上均一の強度の紫外線を照射する、上記第17の本発明の屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記紫外線照射工程では、前記ポリシラン材の両面から前記紫外線を照射する、上記第20の本発明の屈折率分布型レンズの製造方法である。
前記屈折率分布型レンズの一方の端面に配置された被写体の、前記屈折率分布型レンズのもう一方の端面に結像された画像を撮影するカメラとを備えた、立体画像撮像装置である。
前記屈折率分布型レンズの一方の端面側に配置され、前記屈折率分布型レンズが有する複数の屈折率分布の極大部分のそれぞれに対向する複数の表示素子を有する表示素子アレーとを備えた、立体画像再生装置である。
前記屈折率分布型レンズの前記出射面側の前記領域の各端部に結像される像を撮像するためのカメラ手段と、
を備えた立体画像撮像装置である。
前記入射面側から各領域毎に入射した被写体からの光が、前記出射面側に露出した各端部の表面上に前記被写体の正立像として結像する様に、前記屈折率分布、及び前記領域の前記両端部の間の距離が決定されている上記第24の本発明の立体画像撮像装置である。
前記屈折率分布型レンズの前記入射面側の前記領域の各端部の位置に対応した位置毎に、立体表示用に形成された映像を表示するための表示手段と、
を備えた立体画像再生装置である。
ポリシランを主成分とした基材を供給する第1工程と、
前記供給された基材に対し、前記ポリシランの酸化反応を起こさせるとともに、前記基材の内部の位置に応じて前記酸化反応の進行の程度を制御することにより、前記軸から遠ざかるに従って屈折率が実質上減少する前記屈折率分布を有する領域を所定の間隔をあけて形成する第2工程と、
前記第2工程で形成された基材を、複数供給して、前記基材の厚み方向に積層する第3工程と、を備えた屈折率分布型レンズ製造方法である。
前記基材の内部の位置に応じて前記酸化反応の進行の程度を制御するとは、前記基材の厚み方向を基準とした前記位置については、前記基材の表面からの距離に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することであり、前記基材の幅方向を基準とした前記位置については、前記紫外線の照射強度に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することである上記第27の本発明の屈折率分布型レンズ製造方法である。
前記屈折率分布型レンズの前記出射面側の、前記各積層用部材の端面に結像される像を撮像するためのカメラ手段と、
を備えた立体画像撮像装置である。
前記屈折率分布型レンズの前記入射面側の、前記各積層用部材の端面毎に、立体表示用に形成された映像を表示するための表示手段と、
を備えた立体画像再生装置である。
前記センサの検知結果に基づいて、前記屈折率分布型レンズを回動させるための駆動手段と
を備えた上記第31の本発明の立体画像再生装置である。
ポリシランを主成分とした基材を供給する第1工程と、
前記供給された基材に対し、前記ポリシランの酸化反応を起こさせるとともに、前記基材の厚み方向を基準として前記酸化反応の進行の程度を制御することにより、前記基材の厚みを基準として中央部から前記基材の両面に向かうに従って、前記屈折率が実質上減少する前記屈折率分布を形成する第2工程と、
前記第2工程で形成された基材を複数供給して、前記基材の厚み方向に積層する第3工程と、
を備えた屈折率分布型レンズ製造方法である。
前記基材の厚み方向を基準として前記酸化反応の進行の程度を制御するとは、前記基材の厚み方向を基準とした前記基材の内部の位置について、前記基材の表面からの距離に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することである上記第33の本発明の屈折率分布型レンズ製造方法である。
2 第2透明基板
3 同心円状屈折率分布型レンズ部分
4 クラッド部分
5 シート状ポリシラン
6 屈折率分布型レンズアレー
7 レンズ長
8 屈折率分布型レンズ
9 ポリシラン構造
10 シロキサン構造
11 紫外線透過率分布第1マスク
12 紫外線透過率分布第2マスク
14 酸化物
15 紫外線(照射)
16 同心円状レンズアレー用紫外線透過率分布マスク
17 回折格子
18 定在波
19 屈折率分布型バーレンズ部分
20 屈折率分布型バーレンズアレー(レンティキュラ板)
21 屈折率分布型バーレンズ
22 バーレンズアレー用紫外線透過率分布マスク
23 回折光
201 入射面
202 出射面
308 画像表示部
901 導波路型屈折率分布レンズ(WG型GIレンズ)
902 クラッド
903 導波路型屈折率分布レンズアレー(WG型GIレンズアレー)
904 導波路型屈折率分布レンズマトリクス(WG型GIレンズマトリクス)
905 カメラ
906 膜厚
908 画像表示部
909 視聴者
910 硬化前のシート状ポリシラン
910’硬化後のシート状ポリシラン
911 ポリシラン構造
912 シロキサン構造
913 マスクの紫外線透過率分布
914 UV透過率分布第1マスク
915 UV透過率分布第2マスク
916 スラブ型屈折率分布レンズ(スラブ型GIレンズ)
917 スラブ積層型屈折率分布レンズアレー(スラブ積層型GIレンズアレー)
918 センサー
919 パネル駆動部
920 射出開口部
921 射出容器
922 紫外線(一定量)
923 紫外線(変調量)
960 透明基板
Claims (34)
- 屈折率分布を有する領域を複数含む屈折率分布型レンズであって、
前記屈折率分布型レンズは、ポリシランを含む、膜厚が100μmより大きい板状部材であり、
前記領域の前記屈折率分布は、酸化物が所定の分布で添加された前記ポリシランを含む板状部材を露光し、酸化反応に沿って形成した分布であり、
前記板状部材の面に平行な方向における屈折率の変化を含む分布であり、
且つ前記面に垂直な方向における屈折率の実質的な変化を含まない分布である、
屈折率分布型レンズ。 - 前記複数の領域のそれぞれの前記屈折率分布は、前記屈折率の極大部分を有し、前記極大部分を含む前記領域の内部では前記極大部分から離れるに従って前記屈折率が減少する変化を含む分布である、請求項1記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記領域の、前記面に平行な方向の前記屈折率分布は、前記極大部分が点状であり、前記極大部分を中心とする同心円状の分布である、請求項2記載の屈折率分布型レンズ。
- 複数の前記極大部分は、前記面に平行な方向に周期的に配置されている、請求項3記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記複数の極大部分は、回転対称軸を有するように配置されている、請求項4記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記複数の領域のそれぞれの前記屈折率分布は、前記極大部分が直線状であり、前記極大部分に対して平行線状の分布である、請求項2記載の屈折率分布型レンズ。
- 複数の前記極大部分は、等間隔に平行に配置されている、請求項6記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記板状部材は、前記屈折率分布を有する前記領域を複数含む積層用部材が厚み方向に複数積層された部材であり、
前記領域の前記屈折率分布は、前記複数の各領域の軸を中心とした分布であり、且つ前記軸と実質上直交する方向に関して、前記軸から遠ざかるに従って前記屈折率が実質上減少する分布であり、
前記複数の領域毎の前記軸の方向は、前記積層用部材の積層面に実質上平行であり、且つ前記軸同士の方向も互いに実質上平行であり、
前記軸と交差する、前記積層された積層用部材の両側面の一方の面が光の入射面であり、他方の面が前記光の出射面である、請求項2記載の屈折率分布型レンズ。 - 前記各領域の前記屈折率分布は、前記軸と実質上直交する任意の平面内を前記軸から全方向に向けて前記遠ざかるに従って前記屈折率が実質上減少する分布である請求項8記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記複数の領域は、前記板状部材においてマトリクス状に配置されており、前記領域の両端部が前記両側面にそれぞれ露出しており、
前記入射面側から各領域毎に入射した被写体からの光が、前記出射面側に露出した各端部の表面上に前記被写体の像として結像する様に、前記屈折率分布、及び前記領域の前記両端部の間の距離が決定されている請求項9記載の屈折率分布型レンズ。 - 前記板状部材は、前記屈折率分布を有する前記領域を含む積層用部材が厚み方向に複数積層された部材であり、
前記領域の前記屈折率分布は、前記積層用部材の前記厚み方向における中央部から前記積層用部材の積層面に向かうに従って、前記屈折率が実質上減少する分布であり、
前記積層の方向に実質上平行な前記積層用部材の両側面の一方の面が光の入射面であり、他方の面が前記光の出射面である、請求項2記載の屈折率分布型レンズ。 - 被写体からの光が前記入射面に入射した場合、前記出射面側に露出した前記各領域の端面に、前記被写体の像がそれぞれ結像する様に、前記屈折率分布、及び前記両側面の間の距離が決定されている請求項11記載の屈折率分布型レンズ。
- 前記板状部材は、ポリシランを主成分とする基材にシロキサン構造が前記屈折率分布と所定の対応関係を有して分布している部材である請求項2記載の屈折率分布型レンズ。
- 屈折率分布を有する領域を複数含む屈折率分布型レンズの製造方法であって、
酸化物が所定の分布で添加されたシート状のポリシラン材を準備するポリシラン材準備工程と、
前記ポリシラン材の内に前記屈折率分布を形成させるために、強度分布を有する紫外線を前記ポリシラン材に照射する紫外線照射工程とを備え、
前記酸化物の前記分布は、前記紫外線が照射される前記ポリシラン材の照射面に近い方が遠い方に比べて前記酸化物の濃度が低い分布である、屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記ポリシラン材準備工程は、透明基板の上に前記ポリシラン材を塗布するポリシラン材塗布工程を有し、
前記紫外線照射工程では、前記ポリシラン材の上面からと、前記透明基板を介して下面からの両面から紫外線を照射する、請求項14記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記ポリシラン材準備工程は、所定間隔で平行に配置された2枚の透明基板の間隙に前記ポリシラン材を充填するポリシラン材充填工程を有し、
前記紫外線照射工程では、前記2枚の透明基板のそれぞれを介して前記ポリシラン材の両面に照射されるように、前記ポリシラン材の両面から紫外線を照射する、請求項14記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記紫外線照射工程では、
前記ポリシラン材の一方の面側に、前記ポリシラン材に平行に、紫外線透過率分布を有するマスク板を配置し、
実質上均一の強度の紫外線を前記マスク板を介して照射することにより、前記ポリシラン材に対して前記強度分布を有する紫外線が照射されるようにする、請求項14項記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記紫外線照射工程では、
前記マスク板と同じ紫外線透過率分布を有する別のマスク板を、前記ポリシラン材のもう一方の面側に、平行に配置し、
前記マスク板および前記別のマスク板のそれぞれを介して前記ポリシラン材の両面に前記強度分布を有する紫外線が照射されるように、前記マスク板および前記別のマスク板の外側の2方向から実質上均一の強度の紫外線を照射する、請求項17記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記紫外線照射工程では、回折格子を介して前記ポリシラン材に紫外線を照射することにより、前記強度分布を有する紫外線が前記ポリシラン材に照射されるようにする、請求項14記載の屈折率分布型レンズの製造方法。
- 前記紫外線の前記強度分布は、前記屈折率分布を実現するために、屈折率を低くする部分に照射する紫外線強度を、屈折率を低くしない部分に照射する紫外線強度に比べて強くする分布である、請求項14記載の屈折率分布型レンズの製造方法。
- 前記酸化物の前記分布は、前記ポリシラン材の膜厚の中心部分で極大で、前記中心部分から離れるに従って前記酸化物の濃度が減少する分布であり、
前記紫外線照射工程では、前記ポリシラン材の両面から前記紫外線を照射する、請求項20記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 請求項2記載の屈折率分布型レンズを有する表示パネルと、
前記屈折率分布型レンズの一方の端面に配置された被写体の、前記屈折率分布型レンズのもう一方の端面に結像された画像を撮影するカメラとを備えた、立体画像撮像装置。 - 請求項2記載の屈折率分布型レンズを有する表示パネルと、
前記屈折率分布型レンズの一方の端面側に配置され、前記屈折率分布型レンズが有する複数の屈折率分布の極大部分のそれぞれに対向する複数の表示素子を有する表示素子アレーとを備えた、立体画像再生装置。 - 請求項8記載の前記屈折率分布型レンズと、
前記屈折率分布型レンズの前記出射面側の前記領域の各端部に結像される像を撮像するためのカメラ手段と、
を備えた立体画像撮像装置。 - 前記屈折率分布型レンズにおける前記複数の領域はマトリクス状に配置されており、前記領域の両端部が前記両側面にそれぞれ露出しており、
前記入射面側から各領域毎に入射した被写体からの光が、前記出射面側に露出した各端部の表面上に前記被写体の正立像として結像する様に、前記屈折率分布、及び前記領域の前記両端部の間の距離が決定されている請求項24記載の立体画像撮像装置。 - 請求項8記載の前記屈折率分布型レンズと、
前記屈折率分布型レンズの前記入射面側の前記領域の各端部の位置に対応した位置毎に、立体表示用に形成された映像を表示するための表示手段と、
を備えた立体画像再生装置。 - 積層用部材が厚み方向に複数積層された屈折率分布型レンズであって、前記部材は、前記部材の積層面に実質上平行な所定の軸と実質上直交する方向に関して、所定の屈折率分布を有する領域を複数含み、前記複数の領域毎の前記軸の方向は、互いに実質上平行である、前記屈折率分布型レンズの製造方法であって、
ポリシランを主成分とした基材を供給する第1工程と、
前記供給された基材に対し、前記軸方向に対して垂直な方向から紫外線を照射して前記ポリシランの酸化反応を起こさせるとともに、前記基材の内部の位置に応じて前記酸化反応の進行の程度を制御することにより、前記軸から遠ざかるに従って屈折率が実質上減少する前記屈折率分布を有する領域を所定の間隔をあけて形成する第2工程と、
前記第2工程で形成された基材を、複数供給して、前記基材の厚み方向に積層する第3工程と、を備えた屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記第2工程では前記基材の両面側から前記紫外線を照射し、
前記基材の内部の位置に応じて前記酸化反応の進行の程度を制御するとは、前記基材の厚み方向を基準とした前記位置については、前記基材の表面からの距離に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することであり、前記基材の幅方向を基準とした前記位置については、前記紫外線の照射強度に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することである請求項27記載の屈折率分布型レンズの製造方法。 - 請求項11記載の前記屈折率分布型レンズと、
前記屈折率分布型レンズの前記出射面側の、前記各積層用部材の端面に結像される像を撮像するためのカメラ手段と、
を備えた立体画像撮像装置。 - 前記屈折率分布型レンズは、被写体からの光が前記入射面に入射した場合、前記出射面側に露出した前記各積層用部材の端面に、前記被写体の正立像がそれぞれ結像する様に、前記屈折率分布、及び前記両端部の間の距離が決定されている請求項29記載の立体画像撮像装置。
- 請求項11記載の前記屈折率分布型レンズと、
前記屈折率分布型レンズの前記入射面側の、前記各積層用部材の端面毎に、立体表示用に形成された映像を表示するための表示手段と、
を備えた立体画像再生装置。 - 前記立体画像再生装置を利用する利用者の体勢を検知するセンサと、
前記センサの検知結果に基づいて、前記屈折率分布型レンズを回動させるための駆動手段と
を備えた請求項31記載の立体画像再生装置。 - 所定の屈折率分布を有する積層用の基材が、前記基材の厚み方向に複数積層された屈折率分布型レンズの製造方法であって、
ポリシランを主成分とした基材を供給する第1工程と、
前記供給された基材に対し、前記基材の厚み方向から紫外線を照射して前記ポリシランの酸化反応を起こさせるとともに、前記基材の厚み方向を基準として前記酸化反応の進行の程度を制御することにより、前記基材の厚みを基準として中央部から前記基材の両面に向かうに従って、前記屈折率が実質上減少する前記屈折率分布を形成する第2工程と、
前記第2工程で形成された基材を複数供給して、前記基材の厚み方向に積層する第3工程と、
を備えた屈折率分布型レンズの製造方法。 - 前記第2工程では前記基材の両面側から前記紫外線を照射し、
前記基材の厚み方向を基準として前記酸化反応の進行の程度を制御するとは、前記基材の厚み方向を基準とした前記基材の内部の位置について、前記基材の表面からの距離に依存して前記酸化反応の進行の程度を制御することであり、
前記中央部は、前記屈折率の極大部分が実質上平面的に分布する領域である請求項33記載の屈折率分布型レンズの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006553932A JP5374021B2 (ja) | 2005-01-19 | 2006-01-18 | 屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005011936 | 2005-01-19 | ||
JP2005011936 | 2005-01-19 | ||
JP2005029852 | 2005-02-04 | ||
JP2005029852 | 2005-02-04 | ||
PCT/JP2006/300655 WO2006077889A1 (ja) | 2005-01-19 | 2006-01-18 | 屈折率分布型レンズ、および屈折率分布型レンズの製造方法 |
JP2006553932A JP5374021B2 (ja) | 2005-01-19 | 2006-01-18 | 屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006077889A1 JPWO2006077889A1 (ja) | 2008-06-19 |
JP5374021B2 true JP5374021B2 (ja) | 2013-12-25 |
Family
ID=36692278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006553932A Expired - Fee Related JP5374021B2 (ja) | 2005-01-19 | 2006-01-18 | 屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7710657B2 (ja) |
JP (1) | JP5374021B2 (ja) |
CN (1) | CN101107545B (ja) |
WO (1) | WO2006077889A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10978625B2 (en) | 2018-05-25 | 2021-04-13 | Nichia Corporation | Method for forming light-transmissive member, method for producing light emitting device, and light emitting device |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010028755B4 (de) * | 2009-05-09 | 2023-02-23 | Citizen Electronics Co., Ltd. | Linsenelement und optische Einheit, die das Linsenelement verwendet |
KR101340951B1 (ko) * | 2012-01-20 | 2013-12-13 | 한국과학기술원 | 미세구조물의 유효굴절률을 이용한 굴절률 분포형 렌즈 및 그 제조방법 |
US9240428B1 (en) * | 2014-07-09 | 2016-01-19 | Visera Technologies Company Limited | Image sensor and manufacturing method thereof |
KR102448890B1 (ko) | 2015-06-09 | 2022-10-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR102338107B1 (ko) * | 2018-09-14 | 2021-12-09 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그램 매체 |
CN109491092A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-03-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置、制作方法和可穿戴设备 |
CN110927976B (zh) * | 2019-12-25 | 2022-02-01 | 合肥视涯技术有限公司 | 一种头戴显示光学模组及设备 |
JP2021104490A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 東京応化工業株式会社 | 脱酸素剤、脱酸素剤溶液、脱酸素剤フィルム、及び脱酸素剤フィルムの製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06222234A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-08-12 | Osaka Gas Co Ltd | 光導波路とその製造方法 |
JPH0943539A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Konica Corp | 3次元画像表示方法及び3次元画像表示装置 |
JPH11305164A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 立体画像装置 |
JP2000122191A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 立体画像装置 |
JP2002286912A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Nippon Paint Co Ltd | 光学部品の製造方法 |
JP2002323604A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Japan Science & Technology Corp | 光学材料の屈折率制御法 |
JP2005141083A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光部品用材料およびその製造方法、並びに光部品 |
JP2005326641A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Hitachi Maxell Ltd | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6064310A (ja) | 1983-09-20 | 1985-04-12 | Omron Tateisi Electronics Co | 屈折率分布形光導波路の製造方法 |
JPS60175010A (ja) | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Omron Tateisi Electronics Co | 光導波路の作製方法 |
JPH01134310A (ja) | 1987-11-19 | 1989-05-26 | Fujitsu Ltd | 光導波路の製造方法 |
JPH0792313A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-04-07 | Toshiba Corp | 光ファイバー型回折格子 |
JP3283407B2 (ja) | 1995-09-13 | 2002-05-20 | ジーイー東芝シリコーン株式会社 | ポリシラン光学デバイス |
JP3836550B2 (ja) | 1996-11-19 | 2006-10-25 | 日本放送協会 | 立体撮像装置および立体表示装置 |
JP4185409B2 (ja) | 2002-06-27 | 2008-11-26 | 松下電器産業株式会社 | 光導波路の製造方法 |
JP2005331739A (ja) | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Grinレンズおよびその製造方法 |
JP2005331814A (ja) | 2004-05-21 | 2005-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光導波路 |
-
2006
- 2006-01-18 CN CN2006800025144A patent/CN101107545B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-18 WO PCT/JP2006/300655 patent/WO2006077889A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2006-01-18 US US11/813,942 patent/US7710657B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-18 JP JP2006553932A patent/JP5374021B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06222234A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-08-12 | Osaka Gas Co Ltd | 光導波路とその製造方法 |
JPH0943539A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Konica Corp | 3次元画像表示方法及び3次元画像表示装置 |
JPH11305164A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 立体画像装置 |
JP2000122191A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 立体画像装置 |
JP2002286912A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Nippon Paint Co Ltd | 光学部品の製造方法 |
JP2002323604A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Japan Science & Technology Corp | 光学材料の屈折率制御法 |
JP2005141083A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光部品用材料およびその製造方法、並びに光部品 |
JP2005326641A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Hitachi Maxell Ltd | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10978625B2 (en) | 2018-05-25 | 2021-04-13 | Nichia Corporation | Method for forming light-transmissive member, method for producing light emitting device, and light emitting device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101107545B (zh) | 2012-04-04 |
WO2006077889A1 (ja) | 2006-07-27 |
US7710657B2 (en) | 2010-05-04 |
CN101107545A (zh) | 2008-01-16 |
JPWO2006077889A1 (ja) | 2008-06-19 |
US20090052048A1 (en) | 2009-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5374021B2 (ja) | 屈折率分布型レンズ、屈折率分布型レンズの製造方法、立体画像撮像装置、および立体画像再生装置 | |
US11740402B2 (en) | Energy relays with traverse energy localization | |
CN112105976B (zh) | 能量场三维打印系统 | |
AU629170B2 (en) | Display system utilising light transmitting screen and method of manufacturing same | |
US20140111856A1 (en) | Glasses-free 3d display for multiple viewers using imprinted sub-wavelength gratings | |
US20090195873A1 (en) | Three-dimensional image reproducing apparatus | |
JPH02115889A (ja) | 投影型画像表示装置 | |
CN108803053B (zh) | 三维光场显示系统 | |
WO2009020921A1 (en) | Dynamic autostereoscopic displays | |
KR101803401B1 (ko) | 다중 물체상 생성 방법 및 상기 방법을 수행하기 위한 광학 필름 | |
CN108761818B (zh) | 一种自由立体显示系统 | |
Sawada et al. | Integral volumetric imaging using decentered elemental lenses | |
JP2019101115A (ja) | 立体像表示装置 | |
JP2016071300A (ja) | 透過型スクリーン及びそれを用いたヘッドアップディスプレイ装置 | |
JP5631383B2 (ja) | 光反応性媒体 | |
US20060126186A1 (en) | Lenticular lens sheet, rear projection type screen, and rear projection type projector, and lenticular lens sheet producing method | |
JP4029111B2 (ja) | マザーグレイスケールマスクの製造方法、及びレンズ付きマザーグレイスケールマスクの製造方法 | |
CN113219562B (zh) | 光学模组及其制作方法、显示装置 | |
US6226131B1 (en) | Apparatus and method for fabricating a lenticular plate | |
JP3959392B2 (ja) | レンチキュラーレンズシート、背面投射型スクリーン及び背面投射型プロジェクション装置並びにレンチキュラーレンズシートの製造方法 | |
JP6837668B2 (ja) | 光学素子及びそれを用いた映像表示装置 | |
JP4492208B2 (ja) | 三次元画像再生装置 | |
JP4810839B2 (ja) | 透過型スクリーン | |
CN104402207B (zh) | 光热敏微晶玻璃、其制备方法及相关装置 | |
KR20150126033A (ko) | 투명한 무안경 입체영상 디스플레이 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081107 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081107 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121011 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130521 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130807 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130814 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130920 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5374021 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |