JP2005347674A5

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Publication number: JP2005347674A5
Application number: JP2004168219A
Authority: JP
Filing date: 2004-06-07
Publication date: 2007-07-05
Anticipated expiration: 2024-06-07

Claims

ガラス粉末とセラミック粉末を混合したガラスセラミックスに少なくとも有機バインダと溶剤を加えてスラリーとなし、このスラリーを用いて基体用グリーンシートを作製する工程と、
前記基体用グリーンシートに適宜内部電極、ビア電極、外部電極を形成し、これを積層して未焼成多層セラミック基板を作製する工程と、
前記ガラスセラミックの焼結温度では焼結しない無機材料と、これに少なくとも有機バインダと溶剤とを加えた組成物の拘束材料を作製する工程と、
前記未焼成多層セラミック基板の上面および／または下面に前記拘束材料からなる拘束層を形成する工程と、それを圧着する工程と、
焼成過程中に前記未焼成多層セラミック基板から拘束層へ浸透する、多層セラミック基板中のガラス成分の修飾酸化物元素の１種以上の、拘束層への浸透長さが５０μｍ超となるように、前記未焼成多層セラミック基板を焼結する工程と、
前記拘束層を多層セラミック基板の表面から除去する工程と、
を有することを特徴とする多層セラミック基板の製造方法。
前記多層セラミック基板中のガラス成分の修飾酸化物元素がＰｂ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ca、Mg、Ｂｉのうち少なくとも１種以上であることを特徴とする請求項１記載の多層セラミック基板の製造方法。
前記ガラス粉末の組成がＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−R₂Ｏ（R：Li、Na、Ｋから選ばれた少なくとも一種）系で、ガラスを構成する主成分酸化物が質量％でＳｉＯ₂：５０〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜３０％、R₂Ｏ：1〜１５％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の多層セラミック基板の製造方法。
前記ガラス粉末の組成がPbO−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−R₂Ｏ（R：Li、Na、Ｋから選ばれた少なくとも一種）系で、ガラスを構成する主成分酸化物が質量％でPbO：５〜２０％、ＳｉＯ₂：５０〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜２０％、R₂Ｏ：1〜１０％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の多層セラミック基板の製造方法。
前記ガラス粉末の組成がＢ₂Ｏ₃−R₂Ｏ（R：Li、Na、Ｋから選ばれた少なくとも一種）−R’₂Ｏ₃（R’=Bi、La、Ce、Dy、Sm、Ybから選ばれた少なくとも一種）−XＯ（X：Ca、Sr、Mg、Ba、Znから選ばれた少なくとも一種）系で、ガラスを構成する主成分酸化物が質量％でＢ₂Ｏ₃：４０〜６０％、R₂Ｏ：1〜１０％、R’₂Ｏ₃：５〜２０％、XＯ：１０〜３０％含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の多層セラミック基板の製造方法。
請求項１〜５の何れかに記載の製造方法によって得られた多層セラミック基板であって、基板平面内の収縮率が0.8%未満、そのばらつき３σが0.0７％未満、反りが15ｍｍあたり24μm未満であることを特徴とする多層セラミック基板。