JP2005347591A5 - - Google Patents

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Claims (16)

  1. 所定階層の配線層を、スタンダードセル内の配線およびスタンダードセル間を結ぶ配線のいずれとしても用いることができるスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線層を用いて前記スタンダードセル内の配線を行うことにより形成された所定ノードと、
    前記所定階層の配線層からなる前記スタンダードセル間を結ぶ配線が、前記所定ノードの近傍に配置されるのを禁止するための禁止手段とを有し
    前記所定ノードと前記禁止手段はともに前記所定階層に配置されることを特徴とするスタンダードセル。
  2. 所定階層の配線層を、スタンダードセル内の配線およびスタンダードセル間を結ぶ配線のいずれとしても用いることができるスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線層を用いて前記スタンダードセル内の配線を行うことにより形成された所定ノードと、
    前記所定階層の配線層からなる前記スタンダードセル間を結ぶ配線が、前記所定ノードの近傍に配置されるのを禁止するために、前記所定階層の配線層により形成された、前記所定ノードと同時には電位が変化しないシールド配線、前記所定ノードと同時に電位が変化しないシールド領域または前記スタンダードセル間を結ぶ配線の配置が禁止される配線禁止領域
    を有することを特徴とするスタンダードセル。
  3. 請求項2記載のスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線により形成された、前記所定ノードと同時に電位が変化しないシールド配線は、電源電位または接地電位に接続されていることを特徴とするスタンダードセル。
  4. 請求項2記載のスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線からなる電位が変化しないシールド領域は、スタンダードセルのほぼ全面に形成されることを特徴とするスタンダードセル。
  5. 請求項2記載のスタンダードセルであって、
    前記スタンダードセル間を結ぶ配線の配置が禁止される配線禁止領域は、前記所定ノードの位置を中心としてその周囲に、所定の面積をもって設置されることを特徴とするスタンダードセル。
  6. 請求項1から請求項5のいずれかに記載のスタンダードセルであって、
    前記所定ノードは、動作中において一時的に、電位がフローティング状態になる、ダイナミック回路のダイナミックノードであることを特徴とするスタンダードセル。
  7. 請求項1から請求項6のいずれかに記載のスタンダードセルを用い、自動配置配線方式によりレイアウト設計された、スタンダードセル方式の半導体集積回路装置。
  8. 自動配置配線方式により、請求項1から請求項6のいずれかに記載のスタンダードセルを半導体チップ上に自動的に配置し、かつ、スタンダードセル間を結ぶ配線を、前記特定ノードまたは前記ダイナミックノードの近傍を避けて自動的に配設することを特徴とする、半導体集積回路装置のレイアウト設計方法。
  9. 所定階層の配線層を、スタンダードセル内の配線およびスタンダードセル間を結ぶ配線のいずれとしても用いることができるスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線層に形成された所定ノードと、
    前記所定階層の配線層において、前記所定ノードに沿って形成された禁止手段とを有し、
    前記所定階層の配線層において、前記所定ノードと前記禁止手段との間には、前記スタンダードセル間を結ぶ配線が敷設されていないこと
    を特徴とするスタンダードセル。
  10. 請求項9記載のスタンダードセルであって、
    前記禁止手段は、前記所定ノードと同時に電位が変化しないシールド配線であることを特徴とするスタンダードセル。
  11. 請求項10記載のスタンダードセルであって、
    前記シールド配線は、電源電位または接地電位に接続されていることを特徴とするスタンダードセル。
  12. 所定階層の配線層を、スタンダードセル内の配線およびスタンダードセル間を結ぶ配線のいずれとしても用いることができるスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線層に形成された所定ノードと、
    前記所定階層の配線層において、前記所定ノードを取り囲むように設けられた禁止手段とを有し、
    前記所定階層の配線層において、前記スタンダードセル間を結ぶ配線は前記所定のノードに隣接していないこと
    を特徴とするスタンダードセル。
  13. 請求項12記載のスタンダードセルであって、
    前記禁止手段は、前記所定ノードと同時に電位が変化しないシールド領域であることを特徴とするスタンダードセル。
  14. 請求項13記載のスタンダードセルであって、
    前記シールド領域は、スタンダードセルのほぼ全面に形成されることを特徴とするスタンダードセル。
  15. 所定階層の配線層を、スタンダードセル内の配線およびスタンダードセル間を結ぶ配線のいずれとしても用いることができるスタンダードセルであって、
    前記所定階層の配線層に形成された所定ノードと、
    前記所定階層の配線層において、配線禁止領域とを有し、
    前記配線禁止領域には、前記スタンダードセル間を結ぶ配線が敷設されていないこと
    を特徴とするスタンダードセル。
  16. 請求項15記載のスタンダードセルであって、
    前記配線禁止領域は、前記所定ノードの位置を中心としてその周囲に、所定の面積をもって設置されることを特徴とするスタンダードセル。
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