JP2005340747A - Iii−v族窒化物系半導体基板及びその製造方法、iii−v族窒化物系半導体デバイス、iii−v族窒化物系半導体基板のロット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】III-V族窒化物系単結晶からなり、平坦な表面を有するIII-V族窒化物系半導体基板であって、基板面内の任意の点における基板表面に最も近い低指数面の法線ベクトルを、基板表面に投影したベクトルが、基板面内外の特定の点又は領域を向いている。例えば、GaN基板1の基板表面に最も近い低指数面の法線ベクトルを、基板表面に投影したときにできるベクトルは、矢印3で表わされているように、GaN基板1の内部(又は外部)の特定領域に向かって収束するような分布となっている。
【選択図】 図2
Description
2、5、22 線
3、6、23 矢印
8 Siドープn型GaNバッファ層
9 Siドープn型Al0.15GaNクラッド層
10 InGaN-MQW層
11 Mgドープp型Al0.15GaNクラッド層
12 Mgドープp型Al0.10GaNクラッド層
13 Mgドープp型GaNコンタクト層
24 収束中心領域
Claims (24)
- 平坦な表面を有するIII-V族窒化物系単結晶の半導体基板であって、基板面内の任意の点における基板表面に最も近い低指数面の法線ベクトルを、基板表面に投影したベクトルが、基板面内の特定の点又は領域を向いていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板。
- III-V族窒化物系単結晶だけからなる自立した基板であることを特徴とする請求項1に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であることを特徴とする請求項1又は2に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がC面であることを特徴とする請求項1又は2に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がC面のIII族面であることを特徴とする請求項1又は2に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がA面又はM面又はR面のいずれかであることを特徴とする請求項1又は2に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記基板表面は、鏡面研磨加工が施されていることを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 請求項1〜7いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板を製造する方法であって、異種基板上に前記III-V族窒化物系単結晶をヘテロエピタキシャル成長させた後、当該異種基板を除去することにより前記III-V族窒化物系半導体基板を得ることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板の製造方法。
- 請求項1〜7いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板を製造する方法であって、表面側が凹面に反ったIII-V族窒化物系単結晶の表面を有する基板の当該表面側を平坦に研磨して前記III-V族窒化物系半導体基板を得ることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板の製造方法。
- 請求項1〜7いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板上に、少なくともAlxGa(1-x)N(1≧x>0)で表される層を含む結晶層が形成されていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板。
- 請求項1〜7いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板上に、少なくともAlxGa(1-x)N(1≧x>0)で表される層を含む複数の結晶層が形成されていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体デバイス。
- 複数のIII-V族窒化物系半導体基板から構成されるIII-V族窒化物系半導体基板のロットであって、前記ロットを構成する個々の基板が、請求項1から7いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板であることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板のロット。
- 平坦な表面を有するIII-V族窒化物系単結晶の半導体基板であって、基板面内の任意の点における基板表面に最も近い低指数面の法線ベクトルを、基板表面に投影したベクトルが、基板面外の特定の点又は領域を向いていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板。
- III-V族窒化物系単結晶だけからなる自立した基板であることを特徴とする請求項13に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であることを特徴とする請求項13又は14に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がC面であることを特徴とする請求項13又は14に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がC面のIII族面であることを特徴とする請求項13又は14に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記III-V族窒化物系単結晶は、六方晶系であり、且つ基板表面に最も近い低指数面がA面又はM面又はR面のいずれかであることを特徴とする請求項13又は14に記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 前記基板表面は、鏡面研磨加工が施されていることを特徴とする請求項13〜18いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板。
- 請求項13〜19いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板を製造する方法であって、異種基板上に前記III-V族窒化物系単結晶をヘテロエピタキシャル成長させた後、当該異種基板を除去することにより前記III-V族窒化物系半導体基板を得ることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板の製造方法。
- 請求項13〜19いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板を製造する方法であって、表面側が凹面に反ったIII-V族窒化物系単結晶の表面を有する基板の当該表面側を平坦に研磨して前記III-V族窒化物系半導体基板を得ることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板の製造方法。
- 請求項13〜19いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板上に、少なくともAlxGa(1-x)N(1≧x>0)で表される層を含む結晶層が形成されていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板。
- 請求項13〜19いずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板上に、少なくともAlxGa(1-x)N(1≧x>0)で表される層を含む複数の結晶層が形成されていることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体デバイス。
- 複数のIII-V族窒化物系半導体基板から構成されるIII-V族窒化物系半導体基板のロットであって、前記ロットを構成する個々の基板が、請求項1から7又は13から19のいずれかに記載のIII-V族窒化物系半導体基板であることを特徴とするIII-V族窒化物系半導体基板のロット。
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