JP2005340335A - 積層成形装置、半導体装置用基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被積層体1の巻出しに対して、複数段のロールを有し、第1段のロールR11は第2段以降のロールより柔らかい材料のロールであること。第1段のロールはゴムロールであること。第2段のロールR12は金属ロールであること。ゴムロールの硬度は60〜80°であること。装置が、真空中に設けられていること。
【選択図】図1
Description
本発明は、ロール状の被積層体の加工を連続して加工することを可能とし、また、平盤プレスにおける面内の温度ムラに起因する積層体の厚みバラツキを低減させる積層成形装置を提供することを課題とする。また、上記積層成形装置を用いて製造した半導体装置用基板、及び上記積層成形装置を用いる半導体装置用基板の製造方法を提供することを課題とする。
図1は、本発明による積層成形装置の一例の概念を示す断面図である。図1に示すリールtoリールの積層成形装置は、被積層体1の巻出しに対して、前置きされた、上下一対のロールからなる第1段のロールR11、上下一対のロールからなる第2段のロールR12、被積層体の巻出しロールR1、積層体の巻出しロールR2、及び巻き取りロールR3で構成されたものである。
(真空積層成形装置の説明)
積層成形装置はラミネートロールR11と平坦化ロールR12とが隣接して配置され連続したフィルム状の積層体2および被積層体1がそれぞれ供給ロールR2、R1からラミネートロールの間を通って巻き取りロールR3に向かって延びるように配置されている。この装置は減圧下で設置されている。また、ラミネートロールR11で表面に凹凸がある状態で積層された製品は平坦化ロールR12によって所定に加圧されて平面に形成される。ラミネートロールR11の温度は室温〜200℃まで変更可能なものである。また、両面同時加工することが可能となっている。
両面銅箔付きポリイミドフィルム(エスパネックス(商品名)、新日鐵化学(株)製)を用いレーザアライメント用スルーホールをパンチングで穿孔した。パンチングで穿孔した両面銅箔付きポリイミドフィルムにレーザでビアを所定の位置にあけ、過マンガン酸等の処理液でレーザ加工残さを除去し、無電解めっきでレーザー加工した面から電解めっきを行なって表裏を導通させた。
次に、表裏両面を洗浄した後にレジストを銅箔面に塗布し、導体パターンに対応するパターンを露光した。現像後、塩化第2鉄溶液でエッチングし、銅箔面には表裏に対応するパターンを形成した。
剥離後、ソルダーレジスト(PSR4000(商品名)、太陽インキ(株)製)を表裏銅箔面に塗布し、乾燥後、表裏に対応したパターンを露光・現像してソルダーレジストパターンを形成した。露出した銅箔には電解金めっきを約1.0μm行い、目的の半導体装置用基板を得た。
2・・・・積層体
R1・・・被積層体の巻出しロール
R2・・・積層体の巻出しロール
R3・・・巻き取りロール
R11・・第1段のロール(ラミネートロール)
R12・・第2段のロール(平坦化ロール)
Claims (7)
- 多層プリント配線板のリールtoリールの積層成形装置において、被積層体の巻出しに対して、複数段のロールを有し、第1段のロールは第2段以降のロールより柔らかい材料のロールであることを特徴とする積層成形装置。
- 前記第1段のロールはゴムロールであることを特徴とする請求項1記載の積層成形装置。
- 前記第2段のロールは金属ロールであることを特徴とする請求項1記載の積層成形装置。
- 前記ゴムロールの硬度は60〜80°であり、第2段のロールは金属ロールであることを特徴とする請求項2又は3記載の積層成形装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層成形装置が、真空中に設けられていることを特徴とする積層成形装置。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の積層成形装置により加工されたことを特徴とする半導体装置用基板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の積層成形装置により加工することを特徴とする半導体装置用基板の製造方法。
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