JP2005321699A - 位相シフトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 遮光膜4、ハーフトーン膜3、およびエッチングストッパ膜2を貫通し、透明基板1の主表面から所定の深さにまで至るホール5bをドライエッチングにより形成する。エッチングストッパ膜2は、透明基板1のエッチング条件において、透明基板1に対して非常に選択性が高い材料で形成されている。そのため、エッチングストッパ膜2および透明基板1は、透明基板1のエッチング工程において、その主表面に平行な方向に沿ってパターンの形状が広がるようにエッチングされてしまうことが抑制されている。
【選択図】 図9
Description
図1〜図20を用いて実施の形態1の位相シフトマスクの製造方法およびその製法により形成された位相シフトマスクの構造を説明する。
次に、図21〜図30を用いて実施の形態2の位相シフトマスクの製造方法を説明する。本実施の形態においては、まず、透明基板11、エッチングストッパ膜12、ハーフトーン膜13、遮光膜14、およびレジスト膜15がこの順番で積層された構造が形成される。この図21に示す構造を形成するまでの工程は、実施の形態1の図1〜図5に示す工程と全く同様であるのでその説明は繰返さない。
Claims (6)
- 透明基板の上に該透明基板に対し所定の選択性を有し、前記透明基板をドライエッチングするときにエッチングマスクとして機能するエッチングストッパ膜を形成する第1ステップと、
前記エッチングストッパ膜の上にハーフトーン膜を形成する第2ステップと、
前記ハーフトーン膜の上に遮光膜を形成する第3ステップと、
前記遮光膜の上に第1所定パターンを有する第1レジスト膜を形成する第4ステップと、
前記第1レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜、前記ハーフトーン膜、前記エッチングストッパ膜、および前記透明基板の主表面から所定の深さまでの部分をそれぞれ別個の工程で順次ドライエッチングする第5ステップと、
前記第1レジスト膜を除去する第6ステップと、
前記遮光膜の上に前記第1所定パターンとは異なる第2所定パターンを有する第2レジスト膜を形成する第7ステップと、
前記第2レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜、前記ハーフトーン膜、および前記エッチングストッパ膜のそれぞれを別個の工程において順次ドライエッチングする第8ステップと、
前記第2レジスト膜を除去する第9ステップと、
前記遮光膜の上に前記第1所定パターンおよび前記第2所定パターンとは異なるパターンを有する第3レジスト膜を形成する第10ステップと、
前記第3レジスト膜をエッチングマスクとしてエッチングを行うことにより、前記遮光膜を除去する第11ステップとを備えた、位相シフトマスクの製造方法。 - 透明基板の上に該透明基板に対し所定の選択性を有し、前記透明基板をドライエッチングするときにエッチングマスクとして機能するエッチングストッパ膜を形成する第1ステップと、
前記エッチングストッパ膜の上にハーフトーン膜を形成する第2ステップと、
前記ハーフトーン膜の上に遮光膜を形成する第3ステップと、
前記遮光膜の上に第1所定パターンを有する第1レジスト膜を形成する第4ステップと、
前記第1レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜、前記ハーフトーン膜、前記エッチングストッパ膜、および前記透明基板の主表面から所定の深さまでの部分をそれぞれ別個の工程で順次ドライエッチングする第5ステップと、
前記第1レジスト膜を除去する第6ステップと、
前記遮光膜の上に前記第1所定パターンとは異なる第2所定パターンを有する第2レジスト膜を形成する第7ステップと、
前記第2レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜および前記ハーフトーン膜のそれぞれを別個の工程において順次ドライエッチングする第8ステップと、
前記第2レジスト膜を除去する第9ステップと、
前記遮光膜の上に前記第1所定パターンおよび前記第2所定パターンとは異なるパターンを有する第3レジスト膜を形成する第10ステップと、
前記第3レジスト膜をエッチングマスクとしてエッチングを行うことにより、前記遮光膜およびエッチングストッパ膜を除去する第11ステップとを備え、
前記エッチングストッパ膜および前記遮光膜は、同一のエッチングガスで除去可能な材料により構成されており、
前記第11ステップにおいて、前記遮光膜と前記エッチングストッパ膜とを、前記同一のエッチングガスを用いて、同時に除去する、位相シフトマスクの製造方法。 - 透明基板の上に該透明基板に対し所定の選択比を有し、前記透明基板をドライエッチングするときにエッチングマスクとして機能するエッチングストッパ膜を形成する第1ステップと、
前記エッチングストッパ膜の上にハーフトーン膜を形成する第2ステップと、
前記ハーフトーン膜の上に遮光膜を形成する第3ステップと、
前記遮光膜の上に第1所定パターンを有する第1レジスト膜を形成する第4ステップと、
前記第1レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜および前記ハーフトーン膜をエッチングし、前記エッチングストッパ膜の表面を露出させる第5ステップと、
前記エッチングストッパ膜の露出する上面の一部、前記ハーフトーン膜の側面、ならびに、前記遮光膜の側面および上面を覆うように第2所定パターンを有する第2レジスト膜を形成する第6ステップと、
前記第2レジスト膜をエッチングマスクとして、前記エッチングストッパ膜および前記透明基板を前記透明基板の主表面から所定の深さまでの部分をそれぞれ別個の工程で順次ドライエッチングする第7ステップと、
前記第2レジスト膜を除去する第8ステップと、
前記遮光膜の上に前記第1所定パターンおよび前記第2所定パターンとは異なる第3所定パターンを有する第3レジスト膜を形成する第9ステップと、
前記第3レジスト膜をエッチングマスクとして、前記遮光膜および前記エッチングストッパ膜をドライエッチングにより除去する第10ステップとを備えた、位相シフトマスクの製造方法。 - 前記エッチングストッパ膜および前記遮光膜は、同一のエッチングガスでエッチングされる材質により構成されており、
前記第10ステップにおいて、前記遮光膜と前記エッチングストッパ膜とを、前記同一のエッチングガスを用いて、同時に除去する、請求項3に記載の位相シフトマスクの製造方法。 - 前記エッチングストッパ膜の前記透明基板に対する選択比は、2以上である、請求項1〜4のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法。
- 前記透明基板は、水晶を主成分とする基板であり、
前記エッチングストッパ膜は、酸化ハフニウムを主成分とする膜、Al2O3とSnO2とを有する膜、クロム酸化膜、およびクロム窒化膜からなる群より選択された1または2以上の物質を有する、請求項1〜5のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法。
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