JP2005317657A - 電子線露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子線を放出する電子源10を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレート1と、マスクプレート1と電子線レジスト層4が塗布された被転写基板3との間に配置され電子源10から放出された電子を集束する電子レンズ2とを備える。電子源10の強電界ドリフト層16は、少なくとも、下部電極12の表面側に列設された柱状の多結晶シリコンのグレイン51と、グレイン51の表面に形成された薄いシリコン酸化膜52と、グレイン51間に介在する多数のナノメータオーダのシリコン微結晶63と、各シリコン微結晶63の表面に形成され当該シリコン微結晶63の結晶粒径よりも小さな膜厚の酸化膜である多数のシリコン酸化膜64とから構成される。
【選択図】 図1
Description
本実施形態の電子線露光装置は、図1(a)に示すように、電子線を放出する電子源10を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレート1と、マスクプレート1と電子線レジスト層4が塗布された被転写基板(例えば、ウェハ)3との間に配置され電子源10から放出された電子を集束する電子レンズ2とを備えている。要するに、本実施形態の電子線露光装置は、電子線レジスト層4を塗布した被転写基板3が真空中において電子源10に対向して配置され、電子源10から放出させた電子を電子レンズ2により集束して被転写基板3の電子線レジスト層4へ照射する。なお、電子線レジスト層4には電子源10から放出されて後述の加速電圧により加速された電子線が照射される。電子レンズ2としては、電子線を電界によって集束させる静電型の電子レンズ(電界レンズ)を用いてもよいし、電子線を磁界によって集束させる電磁型の電子レンズ(磁界レンズ)を用いてもよい。
本実施形態の電子線露光装置の基本構成は実施形態1と略同じであって、図4に示すように、マスクプレート1の構造が相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
2 電子レンズ
3 被転写基板
4 電子線レジスト層
10 電子源
12 下部電極
16 強電界ドリフト層
17 表面電極
Claims (4)
- 電子線を放出する電子源を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレートと、マスクプレートと電子線レジスト層が塗布された被転写基板との間に配置される電子レンズとを備えた電子線露光装置であって、電子源が、多数のナノメータオーダの半導体微結晶および各半導体微結晶それぞれの表面に形成され半導体微結晶の結晶粒径よりも小さな膜厚の多数の絶縁膜を有する電子通過層が下部電極と表面電極との間に設けられ、表面電極と下部電極との間に表面電極を高電位側とする駆動電圧が印加された時に表面電極を通して電子を放出する弾道電子面放出型の電子源からなり、被転写基板と表面電極との間に被転写基板を高電位側として電圧を印加する第1の電圧印加手段と、電子源の表面電極と下部電極との間に駆動電圧を印加する第2の電圧印加手段とが設けられてなることを特徴とする電子線露光装置。
- 前記マスクプレートは、前記電子源において前記表面電極と前記電子通過層と前記下部電極とが重なる領域が前記転写パターンを規定する形状に形成されてなることを特徴とする請求項1記載の電子線露光装置。
- 前記マスクプレートは、前記電子源における前記表面電極が前記転写パターンを規定する形状に形成されてなることを特徴とする請求項1記載の電子線露光装置。
- 前記マスクプレートは、前記電子源における前記表面電極の表面に前記転写パターンを規定する電子吸収層が形成されてなることを特徴とする請求項1記載の電子線露光装置。
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Cited By (2)
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JP2013165174A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Tohoku Univ | 電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および電子ビーム照射方法 |
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2004
- 2004-04-27 JP JP2004131696A patent/JP2005317657A/ja active Pending
Cited By (3)
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US8232711B2 (en) | 2007-04-25 | 2012-07-31 | Crestec Corporation | Surface emission type electron source and drawing device |
JP2013165174A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Tohoku Univ | 電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および電子ビーム照射方法 |
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