JP2005290330A - 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (A)式(1)〜(4)のオルガノポリシロキサンの少なくとも1種、
【化1】
〔RはMe又はEt、R1は一価炭化水素基、Yはアルキレン基、Zはアルケニル基、Nは0又は1、aは10以上の整数、bは1以上の整数、R2は下記式
【化2】
の加水分解性基を含む分岐鎖〕
(B)表面無処理煙霧状シリカ、
(C)Siに結合した加水分解性基を分子中に平均2個以上有し、かつ常圧での沸点が150℃以上のオルガノキシシラン化合物及び/又はこの部分加水分解物、
(D)チタンキレート触媒及び/又は式(5)
【化3】
(R3は3級炭化水素基、R4はR3を除く一価炭化水素基、cは2〜4の整数)
のオルガノキシチタン
を含有し、(A),(B)成分が予め加熱混合されてなる室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【選択図】 なし
Description
(A)下記一般式(1)〜(4)で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる1種又は2種以上 100質量部、
(B)表面が無処理の煙霧状シリカ 5〜50質量部、
(C)ケイ素原子に結合した加水分解性基を1分子中に平均2個以上有し、かつ常圧での沸点が150℃以上であるオルガノキシシラン化合物、オルガノキシシラン化合物の部分加水分解物又はこれらの混合物 3〜30質量部、
(D)チタンキレート触媒及び/又は下記一般式(5)
で示されるオルガノキシチタン 0.1〜15質量部
を必須成分としてなり、(A)成分と(B)成分が予め加熱混合されてなることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
(B)成分は表面が無処理であることが必須であり、処理剤(シラン、シラザン等)で処理された煙霧状シリカを使用した組成物では、流動性の安定した組成物が得られない上、接着性も低下してしまう。
上記式(5)で示されるオルガノキシチタンの具体例としては、テトラ−tert−ブトキシチタン、イソプロポキシ−トリ−tert−ブトキシチタン、ブトキシ−トリ−tert−ブトキシチタン、ジイソプロポキシ−トリ−tert−ブトキシチタンなどが例示される。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。
温度計、撹拌機、冷却器を備えた内容積15リットルの三つ口フラスコに、粘度が600mPa・sのα,ω−ジメチルビニル−ジメチルポリシロキサン10,000g、トリメトキシシラン136g及び触媒として塩化白金酸の50%トルエン溶液4.0gを添加し、N2気流下で室温で9時間混合した。その後、10mmHgの減圧下で100℃に加熱して、余剰のトリメトキシシランを留去し、粘度が720mPa・s、不揮発分99.9%の無色透明液体を9,860g得た。得られた液体にテトラプロピルチタネートを100:1の比率(質量比)で混合したところ、直ちには増粘せず、1日後には硬化した。このことからポリマー末端のビニル基にメチルトリメトキシシランが付加したことが確認できた。また、29Si−NMRによりトリメトキシシランの導入率を測定したところ、約75%であった。このポリマーをポリマーAとする。
温度計、撹拌機、冷却器を備えた内容積15リットルの三つ口フラスコに、粘度が600mPa・sの側鎖にビニル基を2個有するα,ω−ジメチルビニル−ジメチルポリシロキサン10,000g、トリメトキシシラン400g及び触媒として塩化白金酸の50%トルエン溶液4.0gを添加し、N2気流下で室温で9時間混合した。その後、10mmHgの減圧下で100℃に加熱して、希釈剤のトルエンと余剰のトリメトキシシランを留去し、粘度が750mPa・s、不揮発分99.9%の無色透明液体を9,960g得た。得られた液体にテトラブチルチタネートを100:1の比率(質量比)で混合したところ、直ちには増粘せず、1日後には硬化した。このことからポリマー中に含まれるビニル基にメチルトリメトキシシランが付加したことが確認できた。また、29Si−NMRによりトリメトキシシランの導入率を測定したところ、ほぼ100%であった。このポリマーをポリマーBとする。
ポリマーA100部とBET法での比表面積が約130m2/gである無処理の煙霧状シリカ(エロジル130、日本アエロジル(株)製)25部を均一に混合し、150℃で120分熱により処理した後、室温まで冷却し、これに粘度が100mPa・sの両末端メチル基封鎖ポリジメチルシロキサン25部、オクチルトリメトキシシラン(b.p.100℃/2mmHg)9部及びジイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトン)チタン1.5部を湿気遮断下で均一になるまで混合して組成物を調製した。
ポリマーB100部とBET法での比表面積が約130m2/gである無処理の煙霧状シリカ(エロジル130、日本アエロジル(株)製)25部を均一に混合し、150℃で120分熱により処理した後、室温まで冷却し、これに粘度が100mPa・sの両末端メチル基封鎖ポリジメチルシロキサン25部、オクチルトリメトキシシラン(b.p.100℃/2mmHg)9部及びジイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトン)チタン1.5部を湿気遮断下で均一になるまで混合して組成物を調製した。
ポリマーA100部とBET法での比表面積が約130m2/gである無処理の煙霧状シリカ(エロジル130、日本アエロジル(株)製)25部を均一に混合し、150℃で120分熱により処理した後、室温まで冷却し、これに粘度が100mPa・sの両末端メチル基封鎖ポリジメチルシロキサン25部、オクチルトリメトキシシラン(b.p.100℃/2mmHg)9部及びテトラ−tert−ブトキシチタン1.5部を湿気遮断下で均一になるまで混合して組成物を調製した。
ポリマーA100部とBET法での比表面積が約200m2/gである無処理の煙霧状シリカ(エロジル200、日本アエロジル(株)製)25部を均一に混合し、150℃で120分熱により処理した後、室温まで冷却し、これに粘度が100mPa・sの両末端メチル基封鎖ポリジメチルシロキサン25部、オクチルトリメトキシシラン(b.p.100℃/2mmHg)9部及びジイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトン)チタン1.5部を湿気遮断下で均一になるまで混合して組成物を調製した。
実施例1において、150℃で120分の熱による処理を省いた以外は、実施例1と同様の手法で組成物を調製した。
実施例1において、無処理の煙霧状シリカの代わりに、表面をジメチルシリル基で処理した煙霧状処理シリカ(R972、日本アエロジル(株)製、BET法による比表面積:約110m2/g)を用いた以外は、実施例1と同様の手法で組成物を調製した。
実施例1において、無処理の煙霧状シリカの代わりに、表面をトリメチルシリル基で処理した煙霧状処理シリカ(R812、日本アエロジル(株)製、BET法による比表面積:約260m2/g)を用いた以外は、実施例1と同様の手法で組成物を調製した。
実施例1において、オクチルトリメトキシシランの代わりに、メチルトリメトキシシラン(b.p.102℃)を用いた以外は、実施例1と同様の手法で組成物を調製した。
実施例1において、ジイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトン)チタンの代わりに、テトライソプロポキシチタンを用いた以外は、実施例1と同様の手法で組成物を調製した。
Claims (4)
- (A)下記一般式(1)〜(4)で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる1種又は2種以上 100質量部、
(式中、Rはメチル基又はエチル基であり、R1は炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、aは10以上の整数である。Yは炭素原子数1〜5のアルキレン基であり、Nは独立に0又は1の整数である。)
(式中、R、R1、a、Nは上記の通りである。Zは炭素原子数2〜5のアルケニル基である。)
〔式中、R、R1、a、Y、Nは上記の通りである。また、R2は下記一般式
(ここで、R、R1、Y、Nは上記の通りである。)で示される加水分解性基を含む分岐鎖であり、bは1以上の整数である。〕
(式中、R、R1、R2、Y、Z、N、a、bは上記の通りである。)
(B)表面が無処理の煙霧状シリカ 5〜50質量部、
(C)ケイ素原子に結合した加水分解性基を1分子中に平均2個以上有し、かつ常圧での沸点が150℃以上であるオルガノキシシラン化合物、オルガノキシシラン化合物の部分加水分解物又はこれらの混合物 3〜30質量部、
(D)チタンキレート触媒及び/又は下記一般式(5)
(式中、R3は酸素原子に結合する炭素原子が3級である炭素原子数4〜10の3級炭化水素基であり、R4はR3を除く炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換一価炭化水素基であり、cは2〜4の整数である。)
で示されるオルガノキシチタン 0.1〜15質量部
を必須成分としてなり、(A)成分と(B)成分が予め加熱混合されてなることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 - (B)無処理煙霧状シリカのBET法による比表面積が30〜300m2/gの範囲であることを特徴とする請求項1記載の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
- 更に、(E)非反応性シリコーンオイルを含有することを特徴とする請求項1又は2記載の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
- (A)成分と(B)成分が予め100〜250℃の温度で加熱混合されてなることを特徴とする請求項1,2又は3記載の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
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