JP2005286222A - インプリント用スタンパ、インプリント用スタンパの製造方法、インプリント方法及びインプリント用スタンパの分解方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 保持基板10と、保持基板10上の輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜20と、剥離膜20上にロックウェル硬度のスケールがM80以上であり、表面に凹凸パターンを有する転写部30とを備える。
【選択図】 図1
Description
エス.ワイ.チョウ(S.Y.Chou),「ナノインプリントリソグラフィー技術(Nano Imprint Lithography technology)」,アプライド・フィジックス・レターズ(Applied Physics Letters)第76巻 ,1995年,p.3114
本発明の第1の実施形態に係るインプリント用スタンパは、図1に示すように、保持基板(第1基板)10と、保持基板10上の輻射エネルギーにより保持基板より剥離性を示す剥離膜20と、剥離膜20上にロックウェル硬度のスケールがM80以上であり、表面に凹凸パターンを有する転写部30とを備える。
(イ)まず、図3に示すように、例えば厚さ6mmの透光性を有する表面平坦化加工された石英ガラスの保持基板10を用意する。
(イ)まず、図12に示すように、インプリント装置100の第1プレス板40には、インプリントの対象の対象物5を載置する。対象物5は、例えば直径2.5インチのガラスディスク基板(第2基板)50の上に、厚さ約30nmのパラジウム(Pd)下地層と厚さ約50nmの垂直磁気記録材料コバルト・クロム白金(CoCrPt)を堆積して磁性層(図示せず)を形成し、さらに磁性層上に厚さ約50nmのSiO2膜(図示せず)を堆積し、その上にパターン転写用レジスト膜54を設けたものである。そして、第1プレス板40との間に対象物5を挟んで第1プレス板40と対向する第2プレス板42には、インプリント用スタンパを設置する。
剥離膜20の作成に、分子量100,000のPMMAと分子量5,700、融点59℃のポリカプロラクトンを7:3の重量比でPGMEAに溶解し作成した溶液を用いる以外は、実施例1に示す工程と同様の工程でインプリント用のスタンパを作成する。この剥離膜20は、加熱により剥離性を示す。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。第2の実施形態に係るインプリント用スタンパは、第1の実施形態に示すインプリント用スタンパと同様に作成されたものが使用できるが、インプリント方法として、基板上に設けたパターン転写用レジスト膜54へのパターン転写後の処理方法が異なる。
(イ)まず、図12に示すように、インプリント装置100の第2プレス板42に、実施例1と同様のプロセスで作成できるインプリント用スタンパ(保持基板10、剥離膜20、及び転写部30)を設置する。そして、第1プレス板40には、インプリントの対象の対象物5を載置する。パターン転写用レジスト膜(SOG膜)54はSOGをスピンコートにより厚さ100nmに形成し、80℃のオーブンで1分加熱することにより形成する。
上記のように、本発明は第1及び第2の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす記述及び図面はこの発明を限定するものであると理解するべきではない。この開示から当業者には様々な代替第1及び第2の実施の形態、実施例及び運用技術が明らかになるはずである。
10…保持基板(第1基板)
20…剥離膜
24…混合防止膜
30…転写部
32…転写膜
40…第1プレス板
42…第2プレス板
50…第2基板
54…パターン転写用レジスト膜
60…オリジナルスタンパ
70…剥離処理装置
72…加熱装置
100…インプリント装置
Claims (6)
- 保持基板と、
前記保持基板上に設けられ輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜と、
前記剥離膜上に設けられロックウェル硬度のスケールがM80以上であり、表面に凹凸パターンを有する転写部
とを備えることを特徴とするインプリント用スタンパ。 - 前記剥離膜と前記転写部の間に設けられ、前記剥離膜と前記転写部の混合を防ぐ混合防止膜を更に備えることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用スタンパ。
- 保持基板上に輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜を形成するステップと、
前記剥離膜上に転写膜を形成するステップと、
オリジナルスタンパを前記転写膜にプレスし、前記オリジナルスタンパのパターンを反転した凹凸パターンを前記転写膜に転写し、転写部を形成するステップと、
前記転写部を硬化するステップ
とを含むことを特徴とするインプリント用スタンパの製造方法。 - 前記剥離膜を形成するステップと、前記転写膜を形成するステップとの間に、前記剥離膜と前記転写部の混合を防ぐ混合防止膜を形成するステップを有することを特徴とする請求項3に記載のインプリント用スタンパの製造方法。
- 第1基板と、前記第1基板上に設けられ輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜と、前記剥離膜上に設けられロックウェル硬度のスケールがM80以上であり表面に凹凸パターンを有する転写部とを備えるインプリント用スタンパを、インプリント装置の第2プレス板に設置するステップと、
パターン転写用レジスト膜を有する第2基板を、前記インプリント装置の第1プレス板に設置するステップと、
前記転写部と前記パターン転写用レジスト膜が対向するように前記第1プレス板と前記第2プレス板とを押圧して、前記パターン転写用レジスト膜に前記インプリント用スタンパの前記凹凸パターンを転写するステップと、
前記第1プレス板と前記第2プレス板との押圧を解除し、結合された前記インプリント用スタンパと前記第2基板に輻射エネルギーを供給して、前記転写部を前記第2基板側に残存させたまま前記第1基板と前記剥離膜を剥離するステップ
とを含むことを特徴とするインプリント方法。 - 保持基板と、前記保持基板上に設けられ輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜と、前記剥離膜上に設けられロックウェル硬度のスケールがM80以上であり表面に凹凸パターンを有する転写部とを備えるインプリント用スタンパに輻射エネルギーを供給するステップと、
前記保持基板と前記剥離膜を剥離するステップ
とを含むことを特徴とするインプリント用スタンパの分解方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004100553A JP3819397B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | インプリント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004100553A JP3819397B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | インプリント方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005286222A true JP2005286222A (ja) | 2005-10-13 |
JP3819397B2 JP3819397B2 (ja) | 2006-09-06 |
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ID=35184231
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3819397B2 (ja) |
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