JP2005268560A - 樹脂封止装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】金型構造や金型メンテナンスを簡素化し、基板上に形成される集積度の高いパッケージ部を効率良く樹脂封止できる樹脂封止装置を提供する。
【解決手段】モールド金型に設けられたポット34より金型面36とキャビティプレート1のプレート面44との間に形成された樹脂供給路38を経て封止樹脂がキャビティ孔17へ充填される。
【選択図】図1

Description

本発明は、ワークがモールド金型に搬入されクランプされて樹脂封止が行なわれる樹脂封止装置に関する。
半導体装置製造用の樹脂封止装置の一例として、トランスファー成形によりパッケージ部が形成される樹脂封止装置が用いられている。この樹脂封止装置は、半導体チップが樹脂基板、リードフレームなどの基板上に搭載されたワーク或いは半導体用基板などのワークが、キャビティ凹部が形成されたモールド金型に搬入されてクランプされ、ポットに装填された樹脂材をプランジャによりランナゲートを通じてキャビティ凹部へ移送して樹脂封止されるようになっている。
また、近年CSP(Chip・Size・Package又はChip・Scale・Package)タイプの半導体装置に代表されるように、半導体チップが基板の一方の面にマトリクス状に搭載されたワークが一括して樹脂封止され、樹脂封止後、ダイシング装置により、半導体チップ毎に個片になるようにダイシングされて半導体装置が製造されている。
モールド金型は、上型及び下型を有し、半導体チップが収容されたキャビティ凹部へ封止樹脂を充填するためには基板上を封止樹脂が通過するランナゲートを設ける必要があり、基板面に特殊処理(例えばディゲート用金めっきの形成)が必要になり、製造工程が増えて生産効率が上がらず、製造コストも増大する。
また、ワークに片面モールドを行う場合、基板側面の樹脂バリが発生するおそれがあり、金型メンテナンスも必要になる。
これに対して回路基板の樹脂封止範囲以外には封止樹脂を接触させないようにするため、キャビティが形成されたキャビティプレートをプリント基板に重ね合わせて樹脂封止する方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。
特公昭61−46049号公報
しかしながら、特許文献1の樹脂封止方法は、プリント基板と略同じ大きさのキャビティプレートとプリント基板とを別々にモールド金型のゲージピンに通して重ねているだけである。どのようにキャビティプレートとプリント基板とをモールド金型に搬入し、成形後にモールド金型からプリント基板を取り出すのか、更には成形品から不要樹脂のゲートブレイクやキャビティプレートとプリント基板との分離などをどのように具現化するかは明らかにされていない。また、金型クランプ面にランナゲートが形成されているため、金型のクリーニングやメンテナンスを随時行う必要があり、装置の稼動効率が低下し生産効率が低下する。また、基板上に形成されるパッケージ部(樹脂封止される部分)の面積占有率が高いワークに対して、樹脂供給路を確保しつつ封止樹脂の無駄なく封止することが困難である。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、金型構造や金型メンテナンスを簡素化し、基板上に形成されるパッケージ部を広範囲に効率良く樹脂封止できる樹脂封止装置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するため、次の構成を備える。
即ち、ワークと、該ワークのパッケージ部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔が穿孔されたキャビティプレートとがプレス部に搬入され、ワークをモールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止する樹脂封止装置において、モールド金型に設けられたポットより金型面とキャビティプレートのプレート面との間に形成された樹脂供給路を経て封止樹脂がキャビティ孔へ充填されることを特徴とする。
また、前記キャビティプレートはプレート面がポットに対向するようモールド金型にクランプされ、ポットの内壁とキャビティ孔を仕切る仕切り部の外壁との間に形成される隙間を通じて封止樹脂がキャビティ孔へ充填されることを特徴とする。
また、前記プレス部は、樹脂供給路を含む金型面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備えていることを特徴とする。
また、前記キャビティプレートは、プレス部に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面上を周回移動する金属製のプレートであることを特徴とする。
本発明に係る樹脂封止装置を用いれば、モールド金型に設けられたポットより金型面とキャビティプレートのプレート面との間に形成された樹脂供給路を経て封止樹脂がキャビティ孔へ充填されるため、キャビティプレートにポットに対応した樹脂供給路となる貫通孔は省略でき、基板上に形成されるパッケージ部の面積占有率の高いワークを樹脂封止することができ、より多数個取りが可能となるため生産効率が向上する。また、ポットからキャビティ孔への樹脂供給路も短くなるので無駄な封止樹脂を減らしてワークを効率良く樹脂封止できる。
特に、キャビティプレートはプレート面がポットに対向するようモールド金型にクランプされ、ポットの内壁とキャビティ孔を仕切る仕切り部の外壁との間に形成される隙間を通じて封止樹脂がキャビティ孔へ充填されることにより、不要樹脂の発生量が極めて少なく歩留まりが向上し生産コストやスクラップ量を削減できる。
また、キャビティプレートに樹脂供給路となる貫通孔が存在しないので、キャビティプレートから不要樹脂の分離除去が極めて容易であり、キャビティプレートのクリーニング作業が簡易に行える。
また、キャビティプレートに樹脂供給路となる貫通孔が存在しないので、熱容量を向上させてキャビティプレートからの熱放散性を抑えて封止樹脂の流動性を向上でき、またキャビティプレートの剛性低下による歪みが発生し難く、平坦度を向上させることができる。
更には、リリースフィルムを使用することで、封止樹脂が金型クランプ面に接触することがないので、金型クリーニングが簡略になり、エジェクタピンを省略できるので、金型構造も簡略化できる。
以下、本発明に係る樹脂封止装置の好適な実施の形態について添付図面と共に詳述する。
本願発明は、ワークと、該ワークのパッケージ部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔が穿孔されたキャビティプレートとがプレス部に搬入され、ワークをモールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止する樹脂封止装置について広く適用可能である。
先ず、樹脂封止装置の概略構成について図9及び図10を参照して説明する。本実施例はトランスファー成形方式を採用した樹脂封止装置について例示する。図10において、キャビティプレート1は、モールド金型のクランプ面と略平行なトラック面2上を周回移動するようになっている。このトラック面2に沿ってプレヒート部3、プレス部4、ディゲート部5及びクリーナー部6が設けられている。
半導体チップが基板上に搭載されたワークW或いは半導体用基板などのワークWは、ワーク供給部7より基板プレヒート部8へ送り出される。ワークWは供給マガジン9に収容されており、該供給マガジン9からプッシャー10によってワークWが基板プレヒート部8へ送り出されて、キャビティプレート1へ位置合わせして重ね合わせるように供給される。基板プレヒート部8は、基板温度と金型温度との温度差を縮小して成形時間を短縮するために設けられる。
プレヒート部3は、プレス部4の搬送方向上流側に設けられ、ワークWが載置されたキャビティプレート1をプレヒートする。キャビティプレート1は、板厚が薄く熱容量が少ないことから、成形サイクルを短縮し、成形品質を維持するためにはプレス部4へ搬入される前に予め120°〜130°程度に余熱しておくことが望ましい。
プレヒート部3の下方には、図示ない樹脂供給部が設けられている。樹脂供給部は、例えばパーツフィーダーから整列して送り出された樹脂材(樹脂タブレットなど)をカセットなどに収容し、該カセットがタブレット補給位置とローダーへの受渡し位置との間を上下に往復移動するようになっている。図示しないローダーは基板プレヒート部8とプレス部4との間を往復移動する。ローダーは、樹脂供給部へ移動して樹脂材を保持し、これらをプレス部4の下型へ搬入する。また、ローダーによる樹脂材搬入動作は、キャビティプレート1のプレス部4への搬入前に行われる。
キャビティプレート1は、図9に示す支持枠体11に位置決めされて支持される。キャビティプレート1及び支持枠体11は、搬送アーム13に設けられたピン、突起などに嵌合させ、位置決めして重ね合わせたまま搬送される。支持枠体11及び搬送アーム13には、キャビティプレート1の金型クランプ面に相当するステージエリアを包含するように中空孔14が形成されている。中空孔14は、キャビティプレート1に対して各工程で作業を行う際に、支持枠体11及び搬送アーム13と干渉しないように設けられている。
図10において、複数若しくは1基の搬送アーム13は、プレヒート部3、プレス部4、ディゲート部5及びクリーナー部6にそれぞれ一時停止しながら周回移動し、トラック面2の内外へ退避することなく、中空孔14内に形成される各ステージエリアでキャビティプレート1やワークWに対して作業が行われるようになっている。尚、搬送アーム13に重ね合わされた支持枠体11及びキャビティプレート1は、プレヒート部3やプレス部4に設けられたリフター装置15によりリフトアップ可能に載置されている。
図8(a)において、キャビティプレート1は一例として矩形状の金属プレートが用いられる。キャビティプレート1には複数箇所にキャビティ孔(貫通孔)17が所定ピッチで穿孔されている。破線部は基板外形を示す。キャビティプレート1には、金型と同様の鋼材、例えばステンレススチール、チタン、ニッケル合金などが用いられ、パッケージ部の厚さに応じて、板厚0.3〜1.0mm程度のものが用いられる。尚、キャビティプレート1は金属製に限らず、耐熱性、耐摩耗性、搬送に耐え得る剛性があれば他の部材でも良く、ポリイミド樹脂のような樹脂製板材であっても良い。また、キャビティプレート1のプレート面(両面又は片面)やキャビティ孔17の孔壁面には、成形品との離型性を考慮して必要に応じてテフロン(登録商標)樹脂やフッソ樹脂等がコーティングされていても良い。
搬送アーム13の周回機構について説明する。図10において、トラック面2の中心部には、プーリ(スプロケットホイール)18、19間に無端状のベルト(チェーン)20が巻き回されている。ベルト20は、周回用モータ21によりモータ側プーリ18を介して回転駆動される。ベルト20には、図示しないガイドブロックを介して搬送アーム13が片持ち状に連繋している。ガイドブロックは、ベルト20に沿って配設された図示しないガイドレールに連繋して周回移動するようになっている。
図9において、プレス部4は、モールド金型を構成する固定型である上型30と可動型である下型31とを備えている。下型は例えば電動モータ等を用いた型締め機構により上下動するようになっている。図10において、下型31側には、下型クランプ面に長尺状のリリースフィルム22を供給するフィルム搬送機構23が設けられている。フィルム搬送機構23は供給リールから巻取りリールへ同期をとってリリースフィルム22を所定ピッチで送るようになっている。
型閉じする場合は、下型31が上動し、搬送アーム13及び支持枠体11の中空孔14(図9参照)へ進入して上型クランプ面へリフトアップされたキャビティプレート1をクランプする。このとき、ワークWは半導体チップがキャビティ孔17に進入したままキャビティプレート1に載置されており、基板が上型面とキャビティプレート面とでクランプされる。下型31にはポット32内に装填される樹脂材を押動するプランジャを備えた公知のトランスファ機構が設けられている。ワークWをクランプした状態でトランスファ機構を作動させると、プランジャが溶融した封止樹脂をキャビティプレート1とリリースフィルム22との間に形成された樹脂路を通じてキャビティ孔17内へ圧送りして樹脂封止される。
リリースフィルム22は、封止樹脂に接触する部位を覆うものであり、本実施例では型の樹脂路を覆ってクランプ面に吸引されて張設される(図1参照)。リリースフィルム22は、モールド金型の加熱温度に耐えられる耐熱性を有するもので、上型面より容易に剥離するものであって、柔軟性、伸展性を有するフィルム材、例えば、PTFE、ETFE、PET、FEP、フッ素含浸ガラスクロス、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリジン等が好適に用いられる。上記リリースフィルム22を用いることでモールド金型にエジェクタピン及び樹脂封止後に金型面をクリーニングするクリーナー部を設ける必要がない。
樹脂封止が終了すると、下型31(図9参照)が下動してキャビティプレート1より下方へ離間させるとワークW(パッケージ部)とリリースフィルム22とが分離し、次いでリフター装置15(図10参照)を作動させてリフトアームをリフトダウンさせると、キャビティプレート1が支持枠体11と共に搬送アーム13上に載置される。成形後のキャビティプレート1は、周回用モータ21を起動してディゲート部5へ搬送される。また、リリースフィルム22は、次の成形動作に備えて所定ピッチだけ先に送られる。
図10において、キャビティプレート1がディゲート部5へ搬送されると、キャビティプレート1が上下でクランプされ、ワークW及びスクラップ部(成形品カル及び成形品ランナゲート)25が吸着保持されたまま、キャビティ孔17に露出するパッケージ部24を押動してキャビティプレート1から成形品(パッケージ部24とスクラップ部25)のゲートブレークが行われる。スクラップ部25は排出シュート28を通じて回収され、ワークWは、ディゲートパレット26に載置されたまま、一旦搬送アーム13より下方へ移動して、ワーク収納部(収納マガジン)27へ移送される。
図10において、ディゲート後のキャビティプレート1は、搬送アーム13に載置されたままクリーナー部6へ搬送される。クリーナー部6には、キャビティプレート1の上下面に接離動可能なクリーニングブラシ29a、29bが設けられている。クリーニングブラシ29a、29bはフードカバー29dに覆われており、フードカバー29dには図示しない吸引装置に接続する吸引ダクト29cが各々接続されている。このクリーナー部6を、クリーニングブラシ29a、29bにより上下プレート面をブラッシングしながら図10の矢印方向へ往復動させることで、キャビティプレート1のクリーニングが行われる。このクリーニング工程は、キャビティプレート1の樹脂封止動作を通じて繰り返し行えるので、十分なクリーニングが行える。
次に、各種ワークWに対応した樹脂封止装置における樹脂封止動作について、図1乃至図8を参照して具体的に説明する。図1(a)(b)は、基板32の片面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。基板32は樹脂封止後に図示しないダイシング装置により半導体チップ毎に個片になるように切断される。
図1(a)において、ワークWとして1の基板32上に複数の半導体チップが個別に形成されるワークWが図示されているが、複数の半導体チップが一括封止されるマトリクス基板であっても良い。ワークWはキャビティプレート1上に載置されてプレス部4へ搬入有されると、リフター装置15により上型30のクランプ面に引寄せられる。上型30のクランプ面には、基板32を受ける基板用凹部33が形成されている。
また、下型31には、ポット34及びプランジャ35がポット34内を上下動可能に設けられている。ポット34内には例えば樹脂タブレットTが装填される。また、ポット34の周囲には樹脂供給路(下型ランナ・ゲート)を形成する下型凹部36が形成されている。下型31のポット(ポット孔)34及び下型凹部36を含むクランプ面には、リリースフィルム22が張設されている。リリースフィルム22は、下型31に形成されたクランプ面に連通するエア吸引孔37よりエア吸引されて下型パーティング面を覆って吸着される。
ワークWがキャビティプレート1に載置されたまま上型面に引き寄せられ、リリースフィルム22が下型面に張設されたポット34に樹脂タブレットTが装填されると、下型31は上動して上型30との間でワークW及びキャビティプレート1をクランプする。このとき、キャビティプレート1は、キャビティ孔17どうしを仕切る仕切り部44がポット34に対向した位置でクランプされる。次いで、図示しないトランスファ機構を作動させてプランジャ35を上昇させて溶融した封止樹脂がポット35より仕切り部44と下型凹部36との間に形成される樹脂供給路(金型ランナ・ゲート)38を通じてキャビティ孔17へ充填される(図1(a)参照)。このように、キャビティプレート1にポット34に対応する貫通孔を設ける必要がないため、基板32上に形成されるパッケージ部24の面積占有率の高いワークWを樹脂封止することができ、より多数個取りが可能となるため生産効率が向上する。
また、ポット34からキャビティ孔17への樹脂供給路も短くなるので無駄なスクラップ部25(不要樹脂)の発生量を減らしてワークWを効率良く樹脂封止できる(図1(b)参照)。
図2(a)(b)は、基板32の上下面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。即ち、上型30の基板用凹部33にはキャビティ凹部42が形成されており、該キャビティ凹部42を含む上型クランプ面を覆ってリリースフィルム22が張設される。リリースフィルム22はクランプ面に連通するエア吸引孔39よりエア吸引されて吸着されている。それ以外の装置構成及び樹脂封止動作は図1(a)(b)と同様である。
図3(a)(b)は、ワークWが基板32の片面にパッケージ部24が形成される製品を樹脂封止する装置である。本実施例は、キャビティプレート1に基板32を受ける基板凹部33が形成されており、上型30のクランプ面は平坦面に形成されている。また、キャビティプレート1のキャビティ孔17どうしを仕切る仕切り部44(ポット34に対向する部位)に、キャビティ孔17に連通するサイドランナ・ゲート(金型凹溝)40が設けられており、下型31のクランプ面は平坦面に形成されている。その他の装置構成及び樹脂封止動作は図1(a)(b)と同様である。即ち、モールド金型(上型30及び下型31)の構造が簡素化され、ワークWの基板支持や樹脂供給路は全てキャビティプレート1への加工で形成される。よって、成形品の品種が変わると、キャビティプレート1のみを交換すればたり、上型30及び下型31は共用することができる。
図4(a)(b)は、基板32の片面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。本実施例は、パッケージ部24がキャビティ孔17の空間部全てに封止樹脂が充填されるものではなく、キャビティ孔17の孔壁面に沿ってリング状に形成される。このため、下型31側に金型クランプ状態でキャビティ孔17に進入して上型30と共に基板32をクランプする下型凸部41が形成されている。樹脂封止後の成形品は、基板32上にパッケージ部24がリング状に囲まれて形成される。このパッケージ部24に囲まれた基板露出部には、例えばCCD(電荷結合素子)などの光電変換素子が搭載される。その他の装置構成及び樹脂封止動作は図1(a)(b)と同様である。
図5(a)(b)は、基板32の片面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。本実施例は、キャビティプレート1にキャビティ凹部42と該キャビティ凹部42に反対面から連通するバーチカルゲート43が形成されている。バーチカルゲート43は、図5(a)(b)左半図のように、下型31からキャビティ凹部42に向かってゲート径が小さくなる形状と、図5(a)(b)右半図のように、下型31からキャビティ凹部42に向かってゲート径が大きくなる形状とがある。図5(a)(b)左半図の場合には、パッケージ部24の直近でゲートブレイクが行われる。図5(a)(b)右半図の場合には、ランナ側の直近でゲートブレイクが行われ、パッケージ部24に突設されたゲート樹脂24aは、ゲートブレイク後にパッケージ部24を研磨などして除去される。
また、図5(a)(b)において、キャビティプレート1のポット34に対向する部位には、バーチカルゲート43の長さとほぼ同様な深さで内底面が粗面化されたプレート凹部48が形成されている。このプレート凹部48により、キャビティプレート1の熱伝導性を高めると共に厚さの薄いランナー樹脂とプレート面との密着性を高めてキャビティプレート1の搬送時の脱落を防ぐことができる。尚、ゲート部分の脆さを考慮すると、金型ランナ・ゲート38を形成するプレート面を粗面化してもよく、ポット近傍のみのプレート面を粗面化するようにしても良い。その他の装置構成及び樹脂封止動作は図1(a)(b)と同様である。
図6(a)(b)は、基板32の片面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。本実施例は、キャビティプレート1のキャビティ孔17を仕切る仕切り部44の外径がポット34の内径より小さく形成されており、ポット34の内壁と仕切り部44の外壁との間に隙間(金型ゲート)45が形成されている。下型31には樹脂供給路となる下型凹部は形成されておらず平坦面に形成されている。その他の装置構成及び樹脂封止動作は図1(a)(b)と同様である。
キャビティプレート1は、キャビティ孔17どうしを仕切る仕切り部44がポット34に対向した位置でクランプされる(図6(a)参照)。次いで、図示しないトランスファ機構を作動させてプランジャ35を上昇させて溶融した封止樹脂がポット35より隙間45を通じてキャビティ孔17へ充填される(図6(b)参照)。このようにポット34からキャビティ孔17への樹脂供給路が極めて短いので、基板32上に形成されるパッケージ部24の面積占有率が高いワークWを樹脂封止することができるうえに、スクラップ部25の発生量が極めて少なく歩留まりが向上し生産コストやスクラップ量を削減できる。
図7(a)乃至(d)は、基板32の片面にパッケージ部24が形成されるワークWを樹脂封止する装置である。本実施例は、図1(a)(b)と同様の装置構成を用いて、半導体チップ46が基板32にワイヤボンディング実装されたワークWを封止する場合(図7(a)参照)、半導体チップ46が複数個基板32にワイヤボンディング実装されたワーク(マルチチップモジュールなど)Wを封止する場合(図7(b)参照)を示す。また、図3(a)(b)と同様の装置構成を用いて、半導体チップ46が基板32にフリップチップ実装されたワークWを封止する場合(図7(c)参照)、半導体チップ46が複数個基板32にフリップチップ実装されたワーク(積層型マルチチップモジュールなど)Wを封止する場合(図7(d)参照)を示す。アンダーフィルモールド及びオーバーモールドを行う場合、サイドランナ・ゲート40を用いることで、パッケージ部24にボイドを発生させずに封止樹脂を効率良く充填できる。
図8(b)乃至図8(f)に樹脂封止されたワークWの平面図を示す。パッケージ部24及びスクラップ部25を黒色部で示す。図1、図2、図3、図5及び図7の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図8(b)および図8(c)に示す。図8(b)はポット34からシングルランナゲートを通じて各キャビティ孔17へ封止樹脂が充填されてパッケージ部24が形成される場合を示し、図8(c)はポット34の周囲の共通ランナから枝分かれするマルチランナゲートを通じて各キャビティ孔17へ封止樹脂が充填されてパッケージ部24が形成される場合を示す。
また、図4の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図8(d)および図8(e)に示す。図8(d)はポット34からシングルランナゲートを通じて各キャビティ孔17へ封止樹脂が充填されてパッケージ部24が形成される場合を示し、図8(e)はポット34の周囲の共通ランナから枝分かれするマルチランナゲートを通じて各キャビティ孔17へ封止樹脂が充填されてパッケージ部24が形成される場合を示す。
また、図6の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図8(f)に示す。図8(f)はポット34の両側で隣接する各キャビティ孔17へ隙間45(図6(a)(b)参照)を通じて封止樹脂が充填されてパッケージ部24が形成される場合を示す。これにより、基板32上に形成されるパッケージ部24の面積占有率の高いワークWを樹脂封止することができ、ポット34からキャビティ孔17への樹脂供給路も極めて短いのでスクラップ部25の発生量を減らすことができる。
上述した各実施例は、図11(a)(b)に示すようにキャビティプレート1に載置されるワークWが1枚基板32の例であり、該基板32上に搭載された半導体チップ46を複数箇所で封止してパッケージ部24が形成される場合について説明したが、他例について図11(c)(d)に示す。即ち、ワークWは予め個片化された基板32が用いられ、1枚ごとに単数若しくは複数の同じ品種若しくは異なる品種の半導体チップ46を各々搭載して個別に樹脂封止され、樹脂封止後に1つの独立した半導体装置として完成される製品であっても良い(この場合には、樹脂封止後のワークWのダイシング(切断)工程が不要となる)。更には、各基板毎に樹脂封止した後で当該基板をダイシング(切断)工程で半導体チップごとに更に細分化するワークWであっても良い。
図12(b)乃至図12(h)において、図1乃至図7に示す樹脂封止装置を用いて樹脂封止されたワークWの平面図を示す。パッケージ部24及びスクラップ部25を黒色部で示し、基板形状を破線で示す。図1、図2、図3、図5及び図7の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図12(b)および図12(c)に示す。また、図4の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図12(d)および図12(e)に示す。尚、キャビティプレート1は、個々の基板32に対応したキャビティ孔17が穿孔されたものが用いられ(図12(a)参照)、各キャビティ孔17に基板32が位置合わせして載置される(図11(c)参照)。
また、図13(a)(b)の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図12(f)(g)に、図14(a)(b)の樹脂封止装置で樹脂封止されたワークWを図12(h)に示す。図13(a)(b)及び図14(a)(b)に示す樹脂封止装置は、下型凸部41及びサイドランナ・ゲート40の有無を除いては図6(a)(b)と装置構成は同様である。但し、ワークWが個片化された基板32が用いられるため、基板32と基板32との間に隙間47が形成される。この隙間47は、キャビティ孔17を仕切る仕切り部44と上型30とでクランプされるため、封止樹脂が入り込むことはない。これにより、個片化されたワークWの基板32上に形成されるパッケージ部24の面積占有率を高めた配置構成を採用することができ、ポットからキャビティ孔17への樹脂供給路も極めて短いのでスクラップ部25の発生量を減らすことができる。図12(f)は例えばラッピング樹脂(ラッピングフィルムに包装された樹脂;特開平8−142105号公報参照)に対応する矩形状ポット34を用いて封止されたワークW、図12(g)(h)は図8(f)と同様の円形状ポット34を用いて封止されたワークWを示す。
以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、樹脂封止装置は上述したトランスファー成形方式について例示したが、圧縮成形方式の樹脂封止装置にも適用可能である。また、キャビティプレート1は、金属プレートが好適であるがこれに限定されるものではなく、耐熱性、耐摩耗性、柔軟性を有し封止樹脂が付着し難いものであれば、材質は任意である。また、樹脂封止装置は、下型31にポット34が設けられるについて説明したが、上型30にポット34が設けられる装置構成であっても良い等、発明の本旨を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 ワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 キャビティプレートの平面図及び樹脂封止後のキャビティプレートに載置されたワークの平面図である。 樹脂封止装置をキャビティプレートの移動方向から見た説明図である。 樹脂封止装置全体のレイアウトを示す平面図である。 ワーク及びキャビティプレートの平面図である。 他例に係るキャビティプレートの平面図及び樹脂封止後のキャビティプレートに載置されたワークの平面図である。 他例に係る樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。 他例に係る樹脂封止前後のワークをクランプしたモールド金型の断面図である。
符号の説明
W ワーク
1 キャビティプレート
2 トラック面
3 プレヒート部
4 プレス部
5 ディゲート部
6 クリーナー部
7 ワーク供給部
8 基板プレヒート部
9 供給マガジン
10 プッシャー
11 支持枠体
13 搬送アーム
14 中空孔
15 リフター装置
17 キャビティ孔
18、19 プーリ
20 ベルト
21 周回用モータ
22 リリースフィルム
23 フィルム搬送機構
24 パッケージ部
25 スクラップ部
26 ディゲートパレット
27 ワーク収納部
28 排出シュート
29a、29b クリーニングブラシ
29c 吸引ダクト
29d フードカバー
30 上型
31 下型
32 基板
33 基板用凹部
34 ポット
35 プランジャ
36 下型凹部
37、39 エア吸引孔
38 金型ランナ・ゲート
40 サイドランナ・ゲート
41 下型凸部
42 キャビティ凹部
43 ゲート樹脂
44 仕切り部
45、47 隙間
46 半導体チップ
48 プレート凹部

Claims (4)

  1. ワークと、該ワークの樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔が穿孔されたキャビティプレートとがプレス部に搬入され、モールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止される樹脂封止装置において、
    モールド金型に設けられたポットより封止樹脂が金型面とキャビティプレートのプレート面との間に形成された樹脂供給路を経てキャビティ孔へ充填されることを特徴とする樹脂封止装置。
  2. 前記キャビティプレートはプレート面がポットに対向するようモールド金型にクランプされ、ポットの内壁とキャビティ孔を仕切る仕切り部の外壁との間に形成される隙間を通じて封止樹脂がキャビティ孔へ充填されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。
  3. 前記プレス部は、樹脂供給路を含む金型面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備えていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。
  4. 前記キャビティプレートは、プレス部に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面上を周回移動する金属製のプレートであることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。
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