JP2005243193A - 光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 記録層のアニール処理工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、記録特性が面内で均一となる光情報記録媒体の製造方法、及び該製造方法によって製造される光情報記録媒体を提供すること。
【解決手段】 中心孔を備えた基板上に記録層を塗設する工程と、
該記録層が塗設された前記基板を、支持台上に垂設したポールに前記中心孔を外嵌して複数枚積層し、加熱保存するアニール処理工程と、
を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記アニール処理工程における前記ポールが、筒状態であり、かつ、該筒の側面に内部と外部とを連通する開口部を有する形状であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法、及び該製造方法により製造される光情報記録媒体。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、ヒートモードによる追記型光情報録媒体に関する。

従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる反射層、更に樹脂製の保護層（カバー層）がこの順に積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的或いは化学的変化（例えば、ピットの生成）によりその部分の光学的特性が変化することにより情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。

近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッキングのための案内溝（プリグルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有する記録層、反射層、及び保護層をこの順に積層したディスク２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、或いはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録及び再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。

最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映開始も開始された。このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。

例えば、有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録及び再生を行う記録再生方法が提案されている（例えば、特許文献１〜１５参照。）。これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録及び再生を行っている。

これらの追記型の光情報記録媒体の記録層を形成する際には、基板上に、有機色素を含有する塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程と、該塗膜中の残留溶剤や水分を除去するために、加温雰囲気下で保存するアニール処理工程と、を有する。このアニール処理工程では、記録層が設けられた基板を複数枚積層するためのスタックポールと呼ばれる保持部材が用いられる。このスタックポールは、例えば、基板と同じ、若しくは、基板より一回り小さい円柱状の支持部と、かかる支持部に垂設されたポールと、からなる。このポールに、基板の中心孔を嵌め込むことで、基板を積層させる。その後、この積層体を、スタックポールごと、所定の雰囲気の恒温装置などの中に、所定の時間、放置することで、アニール処理工程が行なわれたことになる。
しかしながら、このような保持部材を用いてアニール処理を行った場合、ポールに接触している中心孔付近の記録層の温度と、外周部の記録層の温度との間に１０℃以上の差ができてしまい、結果として、製造された光情報記録媒体における記録層の内周部と外周部とで、反射率が異なってしまったり、変調度が異なってしまったりと、面内で均一な記録特性が得られないという問題を有していた。
特開平４−７４６９０号公報 特開平７−３０４２５６号公報 特開平７−３０４２５７号公報 特開平８−１２７１７４号公報 特開平１１−５３７５８号公報 特開平１１−３３４２０４号公報 特開平１１−３３４２０５号公報 特開平１１−３３４２０６号公報 特開平１１−３３４２０７号公報 特開２０００−４３４２３号公報 特開２０００−１０８５１３号公報 特開２０００−１１３５０４号公報 特開２０００−１４９３２０号公報 特開２０００−１５８８１８号公報 特開２０００−２２８０２８号公報

本発明は、前記従来における問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、記録層のアニール処理工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、記録特性が面内で均一となる光情報記録媒体の製造方法、及び該製造方法によって製造される光情報記録媒体を提供することにある。

本発明者は、アニール処理工程における保持部材の構造に着目し、記録層の内周部と外周部との温度差を低減することで、上記従来技術の問題点を解決することを見出し、本発明を完成するに到った。

即ち、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、中心孔を備えた基板上に記録層を塗設する工程と、
該記録層が塗設された前記基板を、支持台上に垂設したポールに前記中心孔を外嵌して複数枚積層し、加熱保存するアニール処理工程と、
を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記アニール処理工程における前記ポールが、筒状態であり、かつ、該筒の側面に内部と外部とを連通する開口部を有する形状であることを特徴とする。
また、本発明の光情報記録媒体は、前記光情報記録媒体の製造方法により製造されることを特徴とする。

本発明によれば、記録層のアニール処理工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、記録特性が面内で均一となる光情報記録媒体の製造方法、及び該製造方法によって製造される光情報記録媒体を提供することができる。

以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法及び該製造方法により製造された光情報記録媒体について詳細に説明する。
まず、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、（Ａ）中心孔を備えた基板上に記録層を塗設する工程（以下、適宜、記録層塗設工程と称する。）と、（Ｂ）該記録層が塗設された前記基板を、支持台上に垂設したポールに前記中心孔を外嵌して複数枚積層し、加熱保存するアニール処理工程と、を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記アニール処理工程における前記ポールが、筒状態であり、かつ、該筒の側面に内部と外部とを連通する開口部を有する形状であることを特徴とする。

ここで、本発明の光情報記録媒体の製造方法で製造される、追記型の光情報記録媒体（本発明の光情報記録媒体）は、種々の構成のものが含まれている。具体的には、（１）一定のトラックピッチのプリグルーブが形成された基板上に、記録層、光反射層及び保護層をこの順に備える構成、（２）一定のトラックピッチのプリグルーブが形成された基板上に、光反射層、記録層及び保護層をこの順に備える構成、（３）（１）のような構成の積層体２枚を、基板に対し記録層を内側にして貼り合わせた構成；のいずれの構成であってもよい。
このため、本発明の光情報記録媒体の基板に形成されるプリグルーブは、作製する光情報記録媒体に対応して、適宜、設定され、例えば、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのような一般的な光情報記録媒体において形成されるものと同様とすることもできる。また、より高い記録密度を達成するために、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプリグルーブが形成された基板を用いることもできる。

具体的には、ＣＤ−Ｒの場合、基板に形成されるプリグルーブは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることが更に好ましい。また、プリグルーブの溝深さは、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることが更に好ましい。更に、プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることが更に好ましい。加えて、基板の厚さは、１．０〜１．４ｍｍとすることが好ましく、１．１〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。

また、ＤＶＤ−Ｒの場合、基板に形成されるプリグルーブは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。また、プリグルーブの溝深さは、３０〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることが更に好ましい。更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。加えて、基板の厚さは、０．５〜０．７ｍｍとすることが好ましく、０．５５〜０．６５ｍｍとすることがより好ましい。

更に、より高い記録密度を達成するために、波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青紫色半導体レーザに対応し得る基板に形成されるプリグルーブは、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５０〜３５０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。また、プリグルーブの溝深さは１０〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲とすることがより好ましく、３０〜８０ｎｍの範囲とすることが更に好ましい。また、プリグルーブの半値幅は、５０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。加えて、基板の厚さは、１．０±０．３ｍｍとすることが好ましく、１．０±０．２ｍｍとすることがより好ましい。

以下、前記（１）の構成の光情報記録媒体の製造方法について説明するが、本発明は特のこの構成の限定されない。
以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法について各工程毎に説明する。

＜（Ａ）中心孔を備えた基板上に記録層を塗設する工程＞
本工程は、中心孔を備えたディスク型基板上に記録層用塗布液を塗布し、記録層塗膜を形成する工程である。
（Ａ）工程で用いられる基板の材料としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
また、基板上に形成されるプリグルーブの、トラックピッチ、溝幅、溝深さなどは、所望の光情報記録媒体に合わせて、適宜、決定される。

なお、作製する光情報記録媒体の種類によっては、記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止の目的で、下塗層を形成してもよい。

かかる基板上には、以下のような記録層が設けられる。
本発明における記録層は、記録・再生に用いられるレーザ光の波長領域に吸収を有する、記録物質としての色素を含有していることが好ましい。記録層に含有される色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。

具体的には、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、特開平１１−５３７５８号公報、特開平１１−３３４２０４号公報、特開平１１−３３４２０５号公報、特開平１１−３３４２０６号公報、特開平１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、特開２０００−１０８５１３号公報、特開２０００−１５８８１８号公報の各公報に記載されている色素、或いは、トリアゾール、トリアジン、シアニン、メロシアニン、アミノブタジエン、フタロシアニン、桂皮酸、ビオロゲン、アゾ、オキソノールベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール等の色素が挙げられ、中でも、シアニン、アミノブタジエン、ベンゾトリアゾール、フタロシアニン等の色素が好ましい。

（Ａ）記録層塗設工程においては、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板上に、塗布して塗膜を形成する。
塗布液中の記録物質（色素）の濃度は、一般に、０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。

塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。また、色素や後述する結合剤を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー処理、ディスパー処理、サンドミル処理、スターラー攪拌処理等の方法を適用することができる。
このようにして形成される記録層は、単層であっても重層構造であってもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。更に、塗布液温度は、２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましい。

塗布液を構成する成分として、結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。

更に、塗布液中には酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
具体的には、記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、添加剤として、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。

前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

＜（Ｂ）記録層が塗設された基板を、支持台上に垂設したポールに中心孔を外嵌して複数枚積層し、加熱保存するアニール処理工程＞
本発明におけるアニール処理工程は、前記（Ａ）工程において塗設された記録層塗膜中の残留溶剤や水分を除去するために行う工程である。アニール処理工程とは、具体的には、記録層塗膜が形成された基板、複数枚（例えば、１５０〜２００枚）を、支持台とポールとからなる保持部材に積層し、その保持部材ごと、加熱装置内に載置して、所定時間保存するというものである。なお、記録層塗膜が形成された基板を複数枚積層する場合、各基板の間にスペーサを挿入し、記録層塗膜と、該塗膜に隣接する基板の裏面と、を離間させることができる。このスペーサとしては、基板の中心孔と同じ内径と、記録層塗膜と接触しない程度の外径と、を有するリング状の部材が用いられる。また、スペーサは、安価な高分子化合物やプラスチックから構成されるものであることが好ましい。

本発明におけるアニール処理工程で用いられる保持部材について、図面を参照して、説明する。
図１は、本発明の光情報記録媒体の製造方法におけるアニール処理工程にて用いられる保持部材の例示的一態様を示す概略図であって、（ａ）は保持部材の斜視図であり、（ｂ）はポールの拡大断面図である。
本発明における保持部材は、支持台１０と、支持台１０に垂設するポール２０とからなる。支持台１０及びポール２０は、熱伝導性の高い金属材料からなることが好ましく、具体的には、アルミニウム、鉄、鋼、ステンレス、などが挙げられる。中でも、成形のしやすさから、アルミニウムや鉄が好ましく用いられる。また、支持台１０とポール２０とは、同じ材質で形成されていてもよいし、それぞれ異なった材質で形成されていてもよい。

支持台１０は、その大きさや形状は特に制限されないが、保持部材としての安定性やアニール処理を行う恒温装置の大きさなどの観点から、基板の大きさ、形状と、ほぼ同様であることが好ましい。具体的には、例えば、直径１０ｃｍ、高さ２〜３ｃｍの円柱形状であってもよい。

ポール２０は、筒状態であり、かつ、該筒の側面に内部と外部とを連通する開口部を有する形状であることを必須とする。また、ポール２０は、その外周に基板の中心孔が嵌め込まれることから、該基板を固定する機能をも有する。
ポール２０の形状は、筒状態であればよく、ここで、「筒状態」とは、例えば、パイプのように円筒形状であったり、四角柱の内部に軸方向に貫通孔が存在するような形状を指す。このように、内部の軸方向に、連通孔があることから、ポール２０の内部を気体が通過することが可能となる。なお、本発明における筒状体とは、片面が封止されている状態を含むものである。

また、このポール２０の側面には、筒の内部と外部とを連通する開口部を設けられているため、ポール２０の内部及び外部への気体の対流が可能となり、ポール２０自体の温度がより外部雰囲気と同じように上昇することが可能となる。更に、ポール２０の内部と外部とを対流する気体が、ポール２０に外嵌する基板の中心孔に直接当たることから、基板の温度をより効率よく上昇させることが可能となる。従って、基板上に設けられた記録層塗膜の温度上昇をも効率良くなり、記録層の内周部と外周部との間の温度差が低減されることになる。

ここで、ポール２０の側面に設けられる開口部とは、図１（ｂ）に示すように、ポール２０の側面に軸方向全体に一定の間隔で設けられた複数のスリット３０や、ポール２０の側面にらせん状に設けられたスリットからなってもよい。また、ポール２０の側面に所定の分布で複数の貫通孔を設け、それを開口部としてもよい。この貫通孔の形状としては、例えば、円状、楕円状、角状などがあり、気体の対流を妨げることがなければ、特に限定されない。
かかる開口部は、ポール２０の側面の全面積に対して、１０〜９０％の範囲を占めていることが好ましく、２０〜８０％の範囲を占めていることがより好ましく、３０〜７０％の範囲を占めていることが更に好ましい。
この開口率が１０％以下の場合、気体が効率良く対流しない場合がある。また、この開口率が９０％以上の場合、基板を固定する機能が損なわれる場合がある。

本発明の光情報記録媒体の製造方法において、このような保持部材を用いてアニール処理工程を行うことにより、基板上に形成された記録層の内周部と外周部との温度上昇の差が少なくなり、記録層の内周部と外周部とで同等のアニール処理が施されることになるため、記録領域の位置により反射率、変調度などの記録特性が変化してしまうことを防止できる。

また、このアニール処理工程は、以下に示す諸条件の範囲の雰囲気下で行なわれることが好ましい。
アニール処理工程の好ましい条件は、３０〜１００℃で５分〜２時間であり、より好ましい条件としては、４０〜８０℃で１０分〜２時間であり、更に好ましい条件としては、６０〜８０℃で３０分〜１時間である。
アニール処理の条件において、温度が３０℃より低いと、アニール不足となり、ジッターが悪化する場合があり、温度が１００℃より高いと、基板が変形する場合がある。
また、時間（保持時間）が５分より短いと、アニール不足となり、ジッターが悪化する場合があり、時間（保持時間）が２時間より長いと、生産性が低くなる場合がある。

ここで、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、前記（Ａ）及び（Ｂ）工程の他にも、後述する、記録層に隣接して、情報の再生時における反射率の向上の目的で設けられる光反射層を形成する工程（光反射層形成工程）や、記録層や光反射層を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる保護層を形成する工程（保護層形成工程）を始めとした種々の公知の工程を有することが好ましい。

＜光反射層形成工程＞
光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。

反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。

＜保護層形成工程＞
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＺｎＳ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、熟可塑性樹脂、熟硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができ、所望の光情報記録媒体に合わせて、適宜、決定される。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパックリング、塗布等の方法により設けられてもよい。

また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。
ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。
これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
なお、前記（３）の構成、即ち、同じ層構成を有する積層体を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合にように、必ずしも保護層の付設は必要ではないことがある。

以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層、或いは基板上に、光反射層、記録層そして保護層が設けられた、本発明の光情報記録媒体を製造することができる。

本発明の光情報記録媒体の記録は、例えば、次のように行われる。まず光情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１．４ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、基板側或いは保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的或いは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。

ＣＤ−Ｒの場合は、７５０〜８００ｎｍの範囲の発振波長、ＤＶＤ−Ｒの場合は、６３０〜６８０ｎｍの発振波長を有するレーザー光が用いられる。
また、更に短波長のレーザー光を用いる場合の記録光としては、３９０〜４４０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。このときの好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍ又は８２０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長がそれぞれ４２５ｎｍ又は４１０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のようにして記録された情報の再生は、本発明の光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながらレーザー光を基板側或いは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。

以下、本発明を実施例によって更に詳述するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。

［実施例１］
＜光情報記録媒体の作製＞
［（Ａ）記録層塗設工程］
射出成形機（住友重機械工業（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（溝幅３１０ｎｍ、溝深さ１３０ｎｍ、トラックピッチ７４０ｎｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、中心孔の直径１５ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形した。

該基板のグルーブが形成されている面上に、下記化学式で表されるＯＭ９７とＯＭ９８（共にオキソノール系色素）とを７０：３０（質量比）で、フッ素アルコールに溶解して調製した塗布液（色素濃度：１．１５質量％、光学濃度：０．７７）を、３０℃７０％ＲＨの雰囲気下にて、スピンコート法により塗布し、厚さ１５０ｎｍの記録層塗膜を形成した。

［（Ｂ）アニール処理工程］
次に、記録層塗膜が形成された基板、約５０〜６０枚を、スペーサを介して、図１に示す支持部材のポール２０に外嵌、積層し、８０℃の恒温装置内に載置し、２時間、保存した。なお、保持部材のポール２０としては、φ１４．５ｍｍ、長さ３５ｃｍ、縦に、幅約２ｍｍのスリット３０が空いたものを用いた。
この時、基板の内周部（半径２０ｍｍの位置）と、外周部（半径５８ｍｍの位置）と、のそれぞれに、２箇所ずつ、温度測定用の熱伝対を取りつけ、恒温装置内での温度上昇速度と最高到達温度を測定した。
その結果、温度上昇速度は、基板の内周部で、平均２．５℃／ｍｉｎであり、基板の外周部で、平均３℃／ｍｉｎであった。また、最高到達温度は、内周部で、平均７５℃であり、外周部で、平均７８℃であった。

その後、スパッタリングにより、厚さ１５０ｎｍの銀からなる反射層を形成した。その後、貼り合せ装置を使用して、反射層上に、ＵＶ接着剤を約３０μｍの厚みに塗布し、その上にダミー基板（ポリカーボネート樹脂製、厚さ０．６ｍｍ）を載せ、回転させて、ＵＶ接着剤を伸展させた。その後、ＵＶを照射し、ＵＶ接着剤を硬化させた。これにより、厚さ１．２ｍｍの光情報記録媒体が得られた。

＜評価＞
（１）反射率の測定
作製された光情報記録媒体を、パルステック製ＤＤＵ−１０００を用い、その未記録反射率の測定を、半径２５ｍｍ（内周部）、半径４０ｍｍ（中周部）、半径５７ｍｍ（外周部）の位置で行った。その結果、半径２５ｍｍでの内周部反射率と、半径４０ｍｍ、半径５７ｍｍでの中・外周部反射率と、の差は、１．５％以内であった。

（２）変調度の測定
作製された光情報記録媒体を、パルステック製ＤＤＵ−１０００を用い、その１４Ｔ変調度の測定を、半径２５ｍｍ（内周部）、半径４０ｍｍ（中周部）、半径５７ｍｍ（外周部）の位置で行った。その結果、各半径の位置における、内・中・外周部変調度の差は、０．０２以下であった。

［比較例１］
実施例１におけるアニール処理工程において、保持部材として、ポール２０が空洞及びスリット３０を有しない円柱状であるものを用いた他は、実施例１と同様にして、比較例１の光情報記録媒体を作製した。
比較例１のアニール処理工程における温度上昇速度は、基板の内周部（半径２０ｍｍの位置）で、平均２℃／ｍｉｎであり、基板の外周部（半径５８ｍｍの位置）で、平均３℃／ｍｉｎであった。また、最高到達温度は、内周部で、平均６５℃であり、外周部で、平均７８℃であった。

更に、作製された光情報記録媒体を、実施例１と同様の評価を行った。その結果、未記録反射率は、内・中・外周部反射率において３％以上の差が生じ、１４Ｔ変調度は、内・中・外周部変調度において０．０４以上の差が生じた。

以上の結果から、本発明の製造方法を用いて作製された実施例１の光情報記録媒体は、反射率や変調度の面上の差が小さく抑えられており、面上の記録特性が均一であることが判明した。対して、比較例１の光情報記録媒体は、実施例１と比較して、反射率や変調度の面上の差が大きく、記録領域によって記録特性にバラツキがあることが明らかとなった。

本発明の光情報記録媒体の製造方法のアニール処理工程において用いられる保持部材の例示的一態様を示す概略図であって、（ａ）は保持部材の斜視図であり、（ｂ）はポールの拡大断面図である。

符号の説明

１０ 支持台
２０ ポール
３０ スリット

Claims (2)

1. 中心孔を備えた基板上に記録層を塗設する工程と、
   該記録層が塗設された前記基板を、支持台上に垂設したポールに前記中心孔を外嵌して複数枚積層し、加熱保存するアニール処理工程と、
   を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
   前記アニール処理工程における前記ポールが、筒状態であり、かつ、該筒の側面に内部と外部とを連通する開口部を有する形状であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. 前記請求項１の光情報記録媒体の製造方法により製造されることを特徴とする光情報記録媒体。

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