JP2005228983A - アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 - Google Patents
アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005228983A JP2005228983A JP2004037288A JP2004037288A JP2005228983A JP 2005228983 A JP2005228983 A JP 2005228983A JP 2004037288 A JP2004037288 A JP 2004037288A JP 2004037288 A JP2004037288 A JP 2004037288A JP 2005228983 A JP2005228983 A JP 2005228983A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide film
- film
- layer
- ratio
- actuator device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000002347 injection Methods 0.000 title abstract 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 title abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 51
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 22
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 157
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 53
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 31
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 208000016169 Fish-eye disease Diseases 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000008300 Mutant Proteins Human genes 0.000 description 1
- 108010021466 Mutant Proteins Proteins 0.000 description 1
- 229910020215 Pb(Mg1/3Nb2/3)O3PbTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1646—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
- H10N30/2047—Membrane type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/14241—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm having a cover around the piezoelectric thin film element
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14419—Manifold
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】 振動板は、流路形成基板10の一方面側に形成される第1の酸化膜(弾性膜50)と、第1の酸化膜50上にスパッタ法により形成される第2の酸化膜(絶縁体膜55)とを有し、第1の酸化膜50と第2の酸化膜55との界面の一部のみに、第1の酸化膜50に含まれる酸素以外の構成元素である第1の元素と第2の酸化膜55に含まれる酸素以外の構成元素である第2の元素とを有すると共に、第1の元素50の占める割合が第1の酸化膜50よりも低く且つ第2の元素の占める割合が第2の酸化膜55よりも低い層である変質層が形成され、この変質層の第1の酸化膜50と第2の酸化膜55との界面全体に対して占める割合が10%以下となっている。
【選択図】 図2
Description
かかる第1の態様では、第1の酸化膜と第2の酸化膜との界面に形成される変質層の占める割合が10%以下となっているため、第1の酸化膜と第2の酸化膜との密着力を高めることができる。これにより、第1の酸化膜と第2の酸化膜とが剥がれてしまうのを防止することができ、信頼性を向上することができる。
かかる第2の態様では、変質層の最大厚さが15nm以下となっているため、この変質層の影響を受けて第2の酸化膜の表面に形成される凸部の高さを低くすることができる。これにより、凸部が、第2の酸化膜上に形成される圧電素子の各層に与える影響を小さくすることができる。
かかる第3の態様では、Siの占める割合とZrの占める割合との比Si/Zrが所定の範囲内である変質層の占める割合が10%以下となっているため、酸化シリコン膜と酸化ジルコニウム膜との密着力を高めることができ、両者が剥がれてしまうのを防止することができる。
かかる第4の態様では、高い信頼性を有する液体噴射ヘッドを比較的容易に且つ確実に実現することができる。
かかる第5の態様では、高い信頼性を有する液体噴射装置を比較的容易に且つ確実に実現することができる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。図示するように、流路形成基板10は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には予め熱酸化によって酸化シリコン膜である厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成されている。流路形成基板10には、複数の圧力発生室12がその幅方向に並設されている。また、流路形成基板10の圧力発生室12の長手方向外側の領域には連通部13が形成され、連通部13と各圧力発生室12とが、各圧力発生室12毎に設けられたインク供給路14を介して連通されている。なお、連通部13は、後述する保護基板30のリザーバ部32と連通して各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバ100の一部を構成する。インク供給路14は、圧力発生室12よりも狭い幅で形成されており、連通部13から圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。
ここで、変質層の酸化シリコン膜と酸化ジルコニウム膜との界面全体に対して占める割合が10%以下のもの(サンプルA)と、10%より大きいもの(サンプルB)とで、酸化シリコン膜と酸化ジルコニウム膜との密着力を比較する試験を行った。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上述した実施形態1に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態1では、弾性膜50が酸化シリコン膜であり、絶縁体膜55が酸化ジルコニウム膜であるインクジェット式記録ヘッドを例示して説明したが、勿論これに限定されず、弾性膜が酸化シリコン膜以外の酸化膜であり、絶縁体膜が酸化ジルコニウム膜以外の酸化膜であるインクジェット式記録ヘッドであってもよい。
Claims (5)
- 圧力発生室が形成される基板の一方面側に設けられる振動板と、該振動板を介して設けられる下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを具備するアクチュエータ装置であって、
前記振動板は、前記流路形成基板の一方面側に形成される第1の酸化膜と、該第1の酸化膜上にスパッタ法により形成される第2の酸化膜とを有し、前記第1の酸化膜と前記第2の酸化膜との界面の一部のみに、前記第1の酸化膜に含まれる酸素以外の構成元素である第1の元素と前記第2の酸化膜に含まれる酸素以外の構成元素である第2の元素とを有すると共に、前記第1の元素の占める割合が前記第1の酸化膜よりも低く且つ前記第2の元素の占める割合が前記第2の酸化膜よりも低い層である変質層が形成され、該変質層の前記第1の酸化膜と前記第2の酸化膜との界面全体に対して占める割合が10%以下となっていることを特徴とするアクチュエータ装置。 - 請求項1において、前記変質層の最大厚さが15nm以下となっていることを特徴とするアクチュエータ装置。
- 請求項1又は2において、前記第1の酸化膜が酸化シリコン膜であると共に前記第2の酸化膜が酸化ジルコニウム膜であり、且つ前記変質層は、前記第1の元素であるSiの占める割合と前記第2の元素であるZrの占める割合との比Si/Zrが1.5/1.0〜2.0/1.0の範囲内となっていることを特徴とするアクチュエータ装置。
- 請求項1〜3の何れかのアクチュエータ装置の前記基板の他方面側に、前記圧力発生室に連通するノズル開口を有するノズルプレートが接合されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。
- 請求項4の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004037288A JP4734831B2 (ja) | 2004-02-13 | 2004-02-13 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
US11/056,207 US7357490B2 (en) | 2004-02-13 | 2005-02-14 | Actuator device, liquid jet head and liquid jet apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004037288A JP4734831B2 (ja) | 2004-02-13 | 2004-02-13 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005228983A true JP2005228983A (ja) | 2005-08-25 |
JP4734831B2 JP4734831B2 (ja) | 2011-07-27 |
Family
ID=34879230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004037288A Expired - Lifetime JP4734831B2 (ja) | 2004-02-13 | 2004-02-13 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7357490B2 (ja) |
JP (1) | JP4734831B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7740345B2 (en) | 2006-04-03 | 2010-06-22 | Seiko Epson Corporation | Actuator device, liquid-jet head and liquid-jet apparatus |
US7882607B2 (en) | 2006-10-11 | 2011-02-08 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an actuator device |
CN101524919B (zh) * | 2008-01-11 | 2012-09-05 | 精工电子打印科技有限公司 | 喷墨头芯片及其制造方法、喷墨头和喷墨记录装置 |
JP2012204549A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法、圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
US9085146B2 (en) | 2012-10-24 | 2015-07-21 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus and piezoelectric element |
CN109228662A (zh) * | 2017-07-10 | 2019-01-18 | 精工电子打印科技有限公司 | 液体喷射头以及液体喷射装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9254651B2 (en) * | 2012-03-27 | 2016-02-09 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, piezoelectric element, and methods of manufacturing liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001088294A (ja) * | 1998-10-14 | 2001-04-03 | Seiko Epson Corp | 強誘電体薄膜素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2001298219A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、プリンタ、及び圧電体素子の製造方法 |
JP2001332547A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-11-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2003133604A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | Seiko Epson Corp | 圧電体薄膜素子およびその製造方法、ならびにこれを用いたインクジェット記録ヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2003158262A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-02-13 JP JP2004037288A patent/JP4734831B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-02-14 US US11/056,207 patent/US7357490B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001088294A (ja) * | 1998-10-14 | 2001-04-03 | Seiko Epson Corp | 強誘電体薄膜素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2001332547A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-11-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2001298219A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、プリンタ、及び圧電体素子の製造方法 |
JP2003133604A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | Seiko Epson Corp | 圧電体薄膜素子およびその製造方法、ならびにこれを用いたインクジェット記録ヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2003158262A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7740345B2 (en) | 2006-04-03 | 2010-06-22 | Seiko Epson Corporation | Actuator device, liquid-jet head and liquid-jet apparatus |
US7882607B2 (en) | 2006-10-11 | 2011-02-08 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an actuator device |
CN101524919B (zh) * | 2008-01-11 | 2012-09-05 | 精工电子打印科技有限公司 | 喷墨头芯片及其制造方法、喷墨头和喷墨记录装置 |
JP2012204549A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法、圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
US9085146B2 (en) | 2012-10-24 | 2015-07-21 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus and piezoelectric element |
CN109228662A (zh) * | 2017-07-10 | 2019-01-18 | 精工电子打印科技有限公司 | 液体喷射头以及液体喷射装置 |
CN109228662B (zh) * | 2017-07-10 | 2021-11-09 | 精工电子打印科技有限公司 | 液体喷射头以及液体喷射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7357490B2 (en) | 2008-04-15 |
US20050190239A1 (en) | 2005-09-01 |
JP4734831B2 (ja) | 2011-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4450238B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US20090289999A1 (en) | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus including the same | |
JP2006245247A (ja) | 圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP2007045129A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007281032A (ja) | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
JP2006231909A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007049025A (ja) | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
JP5110052B2 (ja) | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
JP2008042031A (ja) | 圧電素子、アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US7357490B2 (en) | Actuator device, liquid jet head and liquid jet apparatus | |
JP4614068B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
US9138996B2 (en) | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, piezoelectric element and ultrasonic sensor | |
JP4380310B2 (ja) | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
JP2010143084A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ装置 | |
JP2009051104A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007245589A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2009255528A (ja) | 液体噴射ヘッド、圧電素子及び液体噴射装置 | |
JP4623287B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP2005153155A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007296659A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007035883A (ja) | アクチュエータ装置及びその製造方法並びに液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2007050673A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP4433787B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP4553130B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2006205427A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060501 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090618 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4734831 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |