JP2006245247A - 圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上にイリジウムを主成分とする厚さが20nmを限度とする金属層65を少なくとも最上層に含む複数層で構成された下電極60を形成する工程と、前記下電極60上に圧電体前駆体膜を塗布する塗布工程と前記塗布工程により塗布された前記圧電体前駆体膜を乾燥する乾燥工程と前記乾燥工程により乾燥した前記圧電体前駆体膜を脱脂する脱脂工程と前記脱脂工程により脱脂された前記圧電体前駆体膜を焼成して結晶化して圧電体膜とする焼成工程とを有する圧電体膜形成工程を複数回行って複数層の圧電体層を形成する工程と、前記圧電体層上に上電極を形成する工程とにより圧電素子を形成する。
【選択図】 図7
Description
かかる第1の態様では、下電極の最上層に所定厚さの金属層を設けることにより、圧電体層を焼成により形成する際に下電極が同時に加熱処理されても、下電極内の層間剥離を防止することができる。
かかる第2の態様では、特にイリジウム層、白金層、金属層とが積層形成された下電極内の層間剥離を防止することができる。
かかる第3の態様では、下電極の各層を真空から開放することなく連続成膜することで、下電極を構成する各層の剥離を確実に防止することができる。
かかる第4の態様では、圧電体前駆体膜を焼成して結晶化して圧電体膜とする際に、圧電体膜の結晶化を補助して、当該圧電体膜を良好な結晶状態にすることができる。
かかる第5の態様では、歩留まりを向上してコストを低減することができると共に信頼性を向上した液体噴射ヘッドを製造することができる。
かかる第6の態様では、下電極の最上層に所定厚さの金属層を設けることにより、圧電体層を焼成により形成する際に下電極が同時に加熱処理されても、下電極内の層間剥離を防止することができる。
かかる第7の態様では、歩留まりを向上してコストを低減することができると共に信頼性を向上した液体噴射ヘッドを提供できる。
かかる第8の態様では、歩留まりを向上してコストを低減することができると共に信頼性を向上した液体噴射装置を提供できる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及びそのA−A′断面図である。
上述した実施形態1と同様の製造方法によりシリコン単結晶基板からなる流路形成基板を熱酸化することにより二酸化シリコン(SiO2)からなる弾性膜を形成し、この弾性膜上に酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる絶縁体膜を形成する。そして、絶縁体膜上に厚さが20nmのチタン(Ti)からなる密着層を形成し、この密着層上に下電極膜として、厚さが20nmのイリジウム(Ir)からなるイリジウム層と、厚さが60nmの白金(Pt)からなる白金層と、厚さが20nmのイリジウム(Ir)からなる金属層を順次積層形成する。さらに、金属層上に厚さが4.5nmのチタン(Ti)からなるシード層を形成した。なお、このような密着層、下電極膜及びシード層の各層は、DCマグネトロンスパッタリング法によってスパッタリング装置内の真空状態から開放せずに連続して成膜した。
イリジウムからなる金属層の厚さを10nmとした以外、上述した実施例1と同様の構成及び製造方法によって形成したものを実施例2の下電極膜とした。
イリジウムからなる金属層の厚さを30nmとした以外、上述した実施例1と同様の構成及び製造方法によって形成したものを比較例1の下電極膜とした。
これら実施例1、2及び比較例1の下電極膜上に、上述した実施形態1と同様の製造方法により圧電体層及び上電極膜を形成した。すなわち、各下電極膜上に、MOD法により圧電体層となるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)を塗布し、180℃で10分間乾燥工程を行った後、400℃で10分間脱脂工程を行い、その後、700℃で30分間焼成工程を行うことで圧電体膜を形成する圧電体膜形成工程を繰り返し行い、10層の圧電体膜からなる総厚が1.1μmの圧電体層を形成した。このように圧電体層を形成する際に、圧電体膜を6層目に形成した後に、超薄膜スクラッチ試験機(CSR02;レスカ株式会社製)によって密着力を測定した。この結果を下記表1に示す。なお、このように6層目に評価を行ったのは、上述した実施形態の図8(a)に示す状態が現れるのが6層目焼成後であるからである。また、焼成温度や焼成時間によって、最も密着力が弱くなる層数が異なるものである。
以上、本発明の実施形態1を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構成は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述した実施形態1では、圧電体前駆体膜71を塗布、乾燥及び脱脂した後、焼成して圧電体膜72を形成するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、圧電体前駆体膜71を塗布、乾燥及び脱脂する工程を複数回、例えば、2回繰り返し行った後、焼成することで圧電体膜72を形成するようにしてもよい。
Claims (8)
- 基板上にイリジウムを主成分とする厚さが20nmを限度とする金属層を少なくとも最上層に含む複数層で構成された下電極を形成する工程と、前記下電極上に圧電体前駆体膜を塗布する塗布工程と、前記塗布工程により塗布された前記圧電体前駆体膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程により乾燥した前記圧電体前駆体膜を脱脂する脱脂工程と、前記脱脂工程により脱脂された前記圧電体前駆体膜を焼成して結晶化して圧電体膜とする焼成工程とを有する圧電体膜形成工程を複数回行って複数層の圧電体層を形成する工程と、前記圧電体層上に上電極を形成する工程とを具備することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 請求項1において、前記下電極を形成する工程では、前記基板上にイリジウムからなるイリジウム層と、白金からなる白金層と、前記金属層とを積層形成することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 請求項1又は2において、前記下電極を構成する各層をスパッタリング法により形成すると共に、当該下電極の各層を真空から開放せずに連続して積層形成することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 請求項1〜3の何れかにおいて、前記金属層上にチタンを含むシード層を形成することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 請求項1〜4の何れかの圧電素子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
- 下電極、圧電体層及び上電極からなると共に、前記下電極の少なくとも前記圧電体層側が、イリジウムを主成分とする厚さが20nmを限度とする金属層が加熱処理されることにより酸化イリジウムを主成分とする厚さが50nmを限度とする酸化イリジウム層となっていることを特徴とする圧電素子。
- 請求項6の圧電素子と、前記圧電素子が振動板を介して設けられると共にノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板とを具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
- 請求項7の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
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