JP5110052B2 - アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 49
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 36
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 35
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 30
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 208000016169 Fish-eye disease Diseases 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical class O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000013212 metal-organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Description
及び上電極からなる圧電素子とを具備するアクチュエータ装置であって、前記振動板が、
酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる絶縁体膜を少なくとも含み、該絶縁体膜の結晶は
(−111)面が厚さ方向に優先配向していることを特徴とするアクチュエータ装置にある。
かかる第1の態様では、絶縁体膜の品質が向上し、振動板の剥がれが防止される。また、絶縁体膜の品質が向上することで、この絶縁体膜上に形成される圧電体層等の各層の品
質が安定する。
かかる第2の態様では、絶縁体膜の結晶が下面から上面まで連続的な柱状となることで、下層及び上層との密着性が向上する。
かかる第3の態様では、絶縁体膜の結晶が(−111)面に良好に配向する。
かかる第4の態様では、絶縁体膜と、その上層及び下層との密着性がより確実に向上する。
かかる第5の態様では、絶縁体膜の剥がれを確実に防止できる。また、圧電素子の駆動による振動板の変位低下が防止される。
かかる第6の態様では、絶縁体膜の下層が、酸化シリコンからなる弾性膜であっても密着性が向上する。
かかる第7の態様では、耐久性及び信頼性を向上した液体噴射ヘッドを実現することができる。
かかる第8の態様では、耐久性及び信頼性を向上した液体噴射装置を実現することができる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るアクチュエータ装置を備えたインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。図示するように、流路形成基板10は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には予め熱酸化により形成し酸化シリコン(SiO2)からなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成されている。流路形成基板10には、複数の圧力発生室12がその幅方向に並設されている。また、流路形成基板10の圧力発生室12の長手方向外側の領域には連通部13が形成され、連通部13と各圧力発生室12とが、各圧力発生室12毎に設けられたインク供給路14を介して連通されている。なお、連通部13は、後述する保護基板のリザーバ部と連通して各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバの一部を構成する。インク供給路14は、圧力発生室12よりも狭い幅で形成されており、連通部13から圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。
そして、このような各圧電素子300の上電極膜80には、例えば、金(Au)等からなるリード電極90がそれぞれ接続され、このリード電極90を介して各圧電素子300に選択的に電圧が印加されるようになっている。
なお、保護基板30の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス材料、金属、樹脂等が挙げられるが、流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料で形成されていることがより好ましく、本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
これにより、(−111)面に優先配向した酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜55が形成される。また、このように形成した絶縁体膜55を構成する酸化ジルコニウムの結晶は、下面から上面まで連続的な柱状結晶となる。
これらの結果から明らかなように、(002)面配向度が比較的高いジルコニウム層を熱酸化することで、柱状結晶で(−111)面に優先配向した酸化ジルコニウム層(絶縁体膜55)を形成することができる。
以上、本発明の各実施形態を説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。また、上述した実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図11は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
Claims (6)
- 振動板と、該振動板上に下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを具備するアクチュエータ装置であって、
前記振動板が、酸化シリコン(SiO2)からなる弾性膜と、該弾性膜上に形成された酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる絶縁体膜を少なくとも含み、該絶縁体膜の結晶は(−111)面が厚さ方向に優先配向していることを特徴とするアクチュエータ装置。 - 請求項1において、前記絶縁体膜の結晶が柱状であることを特徴とするアクチュエータ装置。
- 請求項1又は2において、前記絶縁体膜の結晶が単斜晶であることを特徴とするアクチュエータ装置。
- 請求項1〜3の何れかにおいて、前記絶縁体膜の応力が、−150〜−300[MPa]の範囲内であることを特徴とするアクチュエータ装置。
- 請求項1〜4の何れかのアクチュエータ装置と、該アクチュエータ装置が一方面側に設けられると共に、液滴を吐出するノズル開口に連通する圧力発生室を備えた流路形成基板とを具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
- 請求項5の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009172878A JP5110052B2 (ja) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009172878A JP5110052B2 (ja) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003409629A Division JP4380310B2 (ja) | 2003-08-12 | 2003-12-08 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009272642A JP2009272642A (ja) | 2009-11-19 |
JP5110052B2 true JP5110052B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=41438867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009172878A Expired - Lifetime JP5110052B2 (ja) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5110052B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5540839B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2014-07-02 | Tdk株式会社 | 圧電アクチュエータ |
JP6205703B2 (ja) | 2012-10-24 | 2017-10-04 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター、液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置 |
JP6150038B2 (ja) | 2013-03-13 | 2017-06-21 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波トランスデューサー及び超音波デバイス |
JP6152761B2 (ja) * | 2013-09-18 | 2017-06-28 | 日本電気硝子株式会社 | 膜付部材及びその製造方法 |
US10596581B2 (en) | 2018-03-09 | 2020-03-24 | Ricoh Company, Ltd. | Actuator, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
JP7275743B2 (ja) | 2019-03-27 | 2023-05-18 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびプリンター |
JP7415489B2 (ja) | 2019-11-29 | 2024-01-17 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電アクチュエーターおよびその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03173654A (ja) * | 1989-12-01 | 1991-07-26 | Ricoh Co Ltd | 液体噴射記録装置 |
JPH11204849A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-07-30 | Ricoh Co Ltd | 圧電アクチュエータ |
JP2000328223A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-11-28 | Agency Of Ind Science & Technol | 積層構造体及びその原料粉、及び、圧電アクチュエータ |
JP2002046283A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-12 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッドの製造方法 |
JP4362859B2 (ja) * | 2001-01-26 | 2009-11-11 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッドおよびプリンタ |
JP2003179279A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Seiko Epson Corp | 圧電アクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド |
US7279823B2 (en) * | 2002-05-15 | 2007-10-09 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric actuator and liquid jet head |
-
2009
- 2009-07-24 JP JP2009172878A patent/JP5110052B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009272642A (ja) | 2009-11-19 |
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