JP2005225831A - 重合性化合物、及び重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一般式(1)で表される重合性化合物を提供する。
【化2】
一般式(1)
【0000】
(式中、X1は−O−CH2−、O−CH2−CH2−CO−O−CH2−、−O−CH2−CH2O−、又は−O−CH2−CH(CH3)O−を表し、R1は炭素数2〜30のアルキレン基、アルキルトリイル基、アルキルテトライル基等を表す。R2は、炭素数4〜30のアルキル基を表す。R3は水素又はメチル基を表す。R4は炭素原子数2〜5のアルキル基を表す。X2及びX3は各々独立して−O−、−OCO−、−CO−O−又は単結合を表す。mは2〜4の整数を表す。)
【選択図】 なし
Description
該デバイスには、使用する液晶化合物の種類には左右されず、幅広い温度範囲(例えば−20℃〜70℃位の温度範囲)において駆動電圧の変化が小さいこと、且つ、駆動電圧の絶対値は20V以下であることが求められている。特に液晶駆動方式がTFT駆動の場合は10V以下の低電圧化が不可欠である。
このため、これらの特性を満たすような、重合性化合物の開発が進められている。
また、側鎖として炭素原子数4〜25の直鎖アルキル基と炭素原子数4〜26の分岐アルキル基の両方を有する多官能(メタ)アクリレートの合成工程が多いために、製造コストが高いといった欠点があった。
また、前記R1の、mが3のときの具体例としては、
また、前記R1の、mが4のときの具体例としては、
一般式(1)においてmは2であるとなお好ましい。また、その場合におけるR1の好ましい例としては、ブチレン基、ヘキシレン基、オクタメチレン基、7,12−ジメチルオクタデシレン基、7−エチルヘキサデシレン基、2,2’−ジメチル−プロピレン基、繰り返し数が2〜10のポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、ポリオキシブチレン基、ポリオキシテトラメチレン基等の、炭素数2〜30のアルキレン基(但し、該基中に存在し、X3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)が挙げられる。中でも、炭素数2〜30のアルキレン基が最も好ましい。
R2が、例えば、ノルマルウンデシル基、ノルマルトリデシル基等の炭素数6〜20の直鎖アルキル基であると、より低電圧で駆動可能な液晶デバイスを得ることができる。また。R2が、例えば、2−ノルマルヘプチル−ノニル基等の分岐アルキル基であると、駆動電圧の温度による変化の少ない液晶デバイスを得ることができる。
R4の部位に炭素数2〜5のアルキル基を導入することにより、0℃以下の極低温でも前記一般式(1)における−CH2−X2−R2で表される基の運動性を保つことができる。更に、R4を有することにより、前記R2が分岐アルキル基でも低駆動電圧化が図れる。従って、より低駆動電圧で、且つ、低温域における駆動電圧の上昇の少ない光散乱型液晶デバイスを得ることができる。
R4の炭素数が5よりも大きくなるとアクリル基の重合性を阻害する恐れがある。
重合性化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリテトラエチレングリコールジマレイミド等が挙げられる。これらの重合性化合物の配合率としては、一般式(1)の重合性化合物の合計量に対して、1〜30%が好ましく、5〜20%が最も好ましい。
光散乱型液晶デバイスは、例えば、透明電極層を有し少なくとも片方が透明であり、該透明電極層を対向させた状態でスペーサー等を使用して一定間隔を保った2枚の基板間に、重合性化合物と液晶組成物との組成物を挟持させ、光照射又は加熱することで得ることができる。
液晶材料としては、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系、シアノ系、ナフタレン系等の、一般式(5)
(中間体1)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、1,6−ヘキサンジオール23.6g(0.2モル)、トリエチルアミン44.5g(0.44モル)、テトラメチルエチレンジアミン(0.04モル)4.6gおよびトルエン500mlを入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。p−トルエンスルホニウムクロリド80g(0.42モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後、室温で反応容器を3時間撹拌した後反応を終了した。生成する塩酸塩を濾過した後、反応液を1/10Nの塩酸溶液、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(6)で表される1,6−ヘキサンジオールジトシレートの白色固体を83.6g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:7.78(d,4H),7.72(d,4H),3.98(t、4H),2.44(s,6H),1.59(m,4H),1.26(m,4H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:145.1,133.5,130.2,129.4,128.6,128.2,70.6,29.0,25.1,22.0,
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、中間体1の1,6−ヘキサンジオールジトシレート50g(0.12モル)、トテラブチルアンモニウムブロミド4g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)41g(0.35モル)、およびジメチルスルオキシド150mlを加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 18.7g(0.47モル)を5回に分けて1時間かけて添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(7)で表される3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)を30g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,8H),3.56(s,4H),3.45(t、4H),1.70(m,4H),1.60(m,4H),1.38(m,4H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:73.4,71.5,44.3,43.4,32.7,29.5,26.8,26.2,26.0,25.5,8.2
撹拌装置、温度計、および滴下ロートを備えた反応容器に、パラホルムアルデヒド 54g(0.17モル)、ターシャリーブチルエーテル 100mlを加え、40℃で溶解させた後、n−ヘキサナール 45g(0.45モル)を1時間かけて、50%水酸化ナトリウム溶液 53.6gを1.5時間かけて同時に滴下した。発熱による温度上昇が見られるが55℃を越えないように反応容器を制御した。50%水酸化ナトリウムを滴下終了したら、反応容器を55℃に加熱して、更に30分かけて50%水酸化ナトリウム 24gを滴下する。滴下終了後、55℃で2時間撹拌し反応を終了させる。反応容器に酢酸エチルを300ml加え、水層を除去する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去した後、イソプロピルエーテルによる再結晶によりトリメチロールブタンを48g得た。
次いで反応容器を200℃まで加熱して4時間加熱して、脱炭酸反応を進行させた。反応終了後、反応物を減圧蒸留して目的物の3−ブチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンを34g得た。
更に、中間体1で合成した1,6−ヘキサンジオールジトシレート33.5g(0.08モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド2.6g、ジメチルスルオキシド 150ml、および上記反応より合成した3−ブチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン 34g(0.24モル)を加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 12.8g(0.32モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(8)で表される3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−ブチルオキセタン)を21g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,8H),3.56(s,4H),3.45(t、4H),1.70(m,4H),1.60(m,4H),1.38−1.17(m,12H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:73.7,71.5,43.0,33.9,29.5,26.8,26.3,25.9,23.1,14.0
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記の中間体1および2の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。ラウリル酸クロリド29.4(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後に酢酸エチルを加え、10%亜硫酸水素ナトリウムでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去し中間体M−1を51g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(m,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.9,29.7−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
実施例1と同様な反応容器に、上記中間体及び2の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。n−ウンデカン酸クロリド27.4g(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応終了後は、実施例1と同様の操作を行い中間体M−2を49g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,32H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.8,29.5−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
実施例1と同様な反応容器に、上記の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。n−ミリスチン酸クロリド27.4g(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応終了後は、実施例1と同様の操作を行い中間体M−3を49g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,46H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.7,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記中間体3の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−ブチルオキセタン)21g(0.057モル)、ヨウ化ナトリウム20.4g(0.136モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。ラウリル酸クロリド27.4(0.125モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に40で4時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後に酢酸エチルを加え、10%亜硫酸水素ナトリウムでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−4を30g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.28−1.25(m,44H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.7,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.1,7.5
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
実施例1で合成した重合性化合物「M−1」100質量部にチバスペシャリティーケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」2部からなる重合性組成物を、アプリケーターを用いてガラス基板上に5μmの膜厚に塗布し、窒素雰囲気下で、40mW/cm2の紫外線を20秒照射した。
得られた塗膜を剥離し、FT−IRで確認したところアクリル基の赤外吸収である809cm−1付近の吸収が完全に消失していた。
実施例1で合成した重合性化合物「M−2」100質量部にチバスペシャリティーケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」2部からなる重合性組成物を、アプリケーターを用いてガラス基板上に5μmの膜厚に塗布し、窒素雰囲気下で、40mW/cm2の紫外線を20秒照射した。
得られた塗膜を剥離し、FT−IRで確認したところアクリル基の赤外吸収である809cm−1付近の吸収が完全に消失していた。
実施例1で合成した重合性化合物「M−4」100質量部にチバスペシャリティーケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」2部からなる重合性組成物を、アプリケーターを用いてガラス基板上に5μmの膜厚に塗布し、窒素雰囲気下で、40mW/cm2の紫外線を20秒照射した。
得られた塗膜を剥離し、FT−IRで確認したところアクリル基の赤外吸収である809cm−1付近の吸収が完全に消失していた。
下記構造のフッ素系液晶化合物からなる液晶組成物A(誘電率異方性:7.7)を70%と、実施例1で合成した化合物「M−1」29.4%、チバスペシャリティーケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」0.6%を配合することにより調光層形成材料である重合性組成物(MLC−1)を得た。
重合性組成物(MLC−1)を、11.0μmのガラスファイバー製スペーサーが塗布された2枚のITO電極ガラス基板に挟み込み、均一な溶液状態に保つように基板全体を温度コントロールし、40mW/cm2の紫外線を60秒照射し厚さ約11μmの光散乱型液晶デバイスを得た。得られたデバイスの飽和電圧及び駆動電圧の変動値を評価し、結果を表2に示した。光散乱型液晶デバイスの電気光学特性を表1に示す。
Claims (3)
- 一般式(1)で表されることを特徴とする重合性化合物。
一般式(1)
(式中、X1は−O−CH2−、−O−CH2−CH2−CO−O−CH2−、−O−CH2−CH2O−、又は−O−CH2−CH(CH3)O−を表す。R1は、mが2のときは、炭素数2〜30のアルキレン基(但し、該基中に存在し、X3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数3〜10のシクロアルキレン基、又は、−Y−R5−Y− (但し、Yはアリーレン基又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基を表し、R5は単結合又は炭素数1〜15のアルキレン基(但し、アルキレン基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)を表す。)を表す。mが3のときは、炭素数2〜30のアルキルトリイル基(但し、該基中に存在し、X3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表す。mが4のときは、炭素数2〜30のアルキルテトライル基(但し、該基中に存在し、X3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表す。R1はハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、及びアルカノイル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基を有していてもよい。R2は、炭素数4〜30のアルキル基を表す(但し、アルキル基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−又はアリーレン基で置き換えられていても良い)。R3は水素又はメチル基を表す。R4は炭素原子数2〜5のアルキル基を表す。X2は−O−、−OCO−、−CO−O−又は単結合を表す。X3は−O−、−OCO−、−CO−O−又は単結合を表す。mは2〜4の整数を表す。) - 一般式(1)において、R1が炭素数2〜30のアルキレン基であり、R2は、炭素数4〜30のアルキル基であり(但し、アルキル基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、それぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)、mが2である請求項1に記載の重合性化合物。
- 請求項1に記載の重合性化合物を含有することを特徴とする重合性組成物。
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