JP2002293827A - 側鎖型ラジカル重合性化合物、及びそれを用いた液晶デバイス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規な側鎖型ラジカル重合性化合物と、該化
合物を含むラジカル重合性組成物、及び該化合物又は組
成物を用いた、低温でも高いコントラスト、低電圧駆動
が可能である液晶デバイスを提供すること。 【解決手段】 一般式（I） 【化１】 （式中、Ｒ₁Ｒ₂は−Ｏ−、−ＯＣＨ₂−等を、Ｒ₃は脂肪
族基，脂肪族エーテル基等を、Ｒ₄Ｒ₅は互いに異なって
脂肪族基、脂肪族エーテル基等を、Ｒ₆Ｒ₇は各々水素原
子又は−ＣＨ₃を、Ｘは−ＣＨ₂−等を、Ｙ及びＺは各々
にエーテル結合等を、ｍは１〜３、ｐ、ｑ、ｎは０又は
１を表す）で表される側鎖型ラジカル重合性化合物、該
化合物を含むラジカル重合性組成物、及び該化合物又は
組成物を用いた液晶デバイス。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、側鎖型ラジカル重
合性化合物とそれを用いた液晶デバイスに関し、更に詳
しくは、新規な側鎖型ラジカル重合性化合物とそれを用
いた、低電圧駆動性を有し、高コントラストで、且つ低
温での作動性が改善された液晶デバイスに関する。

【０００２】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を用
いた液晶デバイスは、視野の遮断、開放、及び明かり、
もしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的、又は
熱的に操作でき、建築物の窓やショーウィンドウ等の視
野遮断の為のスクリーンや、採光コントロールの為のカ
ーテンや、文字や図形を表示し高速応答性で電気的に表
示を切り換える広告板や装飾表示板、時計やコンピュー
ター末端等の表示素子や、デジタルペーパー、プロジェ
クション等の表示装置として有用である。

【０００３】

【従来の技術】偏光板、及び配向処理を必要とせず、明
るくコントラストの良い大型で廉価な液晶デバイスとし
て、特表昭５８−５０１６３１号公報には、液晶のカプ
セル化によりポリマー中に液晶を分散させて、フィルム
化したものを調光層に用いた液晶デバイスが開示され、
また、特開平１−１９８７２５号公報には、液晶材料の
連続層中に三次元網目状の透明性高分子物質を介在させ
たものを調光層に用いた液晶デバイスが開示されてい
る。

【０００４】これらの中でも、後者の液晶デバイスは、
しきい値電圧を示し、偏光板が不要で駆動電圧を低電圧
化できることから、廉価な表示材料として注目されてい
る。しかし、後者の液晶デバイスも、その駆動電圧が低
電圧であるとはいえ、その駆動電圧の範囲は１５〜３０
Ｖであり、汎用の液晶表示装置駆動用のＩＣドライバー
を使用するには困難であった。

【０００５】駆動電圧を低電圧化する問題を解決するた
めに、特開平６−３２７６１号公報には、三次元網目状
の透明性高分子として、一般式(II)

【０００６】

【化２】

【０００７】（式中、Ｒ₈及びＲ₉はそれぞれ独立に脂肪
族基，脂環族基，芳香族基，複素環基又はそれらの置換
体を表し、Ｒ₁₀は水素原子又は−ＣＨ₃を表し、Ｘは−
Ｏ−、又は−ＣＯＯ−を表し、Ｙは−Ｏ−、−ＣＯＯ−
又は環を形成していてもよい−Ｎ−を表し、ｎは２〜４
の整数を表す）

【０００８】で表される側鎖型重合性化合物を含有する
ラジカル重合性組成物の重合物を用いた液晶デバイスが
提案されている。しかしながら、特開平６−３２７６１
号公報に開示された液晶デバイスは、低電圧駆動が可能
ではあるが、未だに不十分で、また低温での電気光学特
性が良くない問題点があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、新規な側鎖型ラジカル重合性化合物と、該
化合物を含むラジカル重合性組成物、及び該化合物又は
該組成物を用いた、低温でも高いコントラスト、低電圧
駆動が可能である液晶デバイスを提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために、液晶デバイスの調光層に使用する重合
性組成物について鋭意検討した結果、調光層の三次元構
造を形成する透明性高分子物質として、特定の構造を有
する側鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重
合性組成物を重合してなる高分子物質を用いた液晶デバ
イスが、０℃の低温においても低電圧駆動、高急峻性、
高コントラストを示し、温度特性に優れる電気光学特性
を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。

【００１１】即ち、本発明は、一般式（I）

【００１２】

【化３】

【００１３】（式中、Ｒ₁とＲ₂はそれぞれ独立に−Ｏ
−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ
ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂
ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−を表し、Ｒ₃は
脂肪族基，脂肪族エーテル基、環状脂肪族基，又は芳香
族基を表し、Ｒ₄とＲ₅はそれぞれ独立に脂肪族基，脂肪
族エーテル基、環状脂肪族基、又は芳香族基を表し、Ｒ
₆とＲ₇は各々水素原子又は−ＣＨ₃を表し、Ｘは−ＣＨ₂
−、エーテル結合又はエステル結合、Ｙ及びＺは各々独
立にエーテル結合、又はエステル結合を表し、ｍは１〜
３までの整数であり、ｐ、ｑ及びｎは０又は１を表す）
で表される側鎖型ラジカル重合性化合物である。

【００１４】本発明は、特にＲ₃、Ｒ₄、Ｒ₅がそれぞれ
独立に脂肪族基及び又は脂肪族エーテル基である一般式
（I）の側鎖型ラジカル重合性化合物や、一般式（I）の
ｐとｑが０である側鎖型ラジカル重合性化合物や、ｐが
１で、ｑが０である側鎖型ラジカル重合性化合物や、一
般式（I）のＲ₄とＲ₅がそれぞれ異なる炭素数４〜２５
の飽和アルキル基であることを特徴とする側鎖型ラジカ
ル重合性化合物であり、また、とりわけ一般式（I）の
Ｒ₄が炭素数４〜２５の直鎖アルキル基であり、Ｒ₅が炭
素数４〜２６の分岐アルキル基であることを特徴とする
側鎖型ラジカル重合性化合物である。

【００１５】更に本発明は、本発明の側鎖型ラジカル重
合性化合物を含有するラジカル重合性組成物及び、これ
ら側鎖型ラジカル重合性化合物の重合物を用いた液晶デ
バイス、並びに、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物
を含有するラジカル重合性組成物（Ａ）を重合して形成
される透明性高分子物質と、液晶材料（Ｂ）とからなる
液晶デバイス、及び該液晶デバイスが、特に透明性高分
子物質からなる三次元網目構造中に液晶材料が連続層で
形成された調光層を有する液晶デバイスを含むものであ
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】一般式（I）

【００１７】

【化４】

【００１８】本発明で使用する一般式（I）で表される
側鎖型ラジカル重合性化合物のＲ₃は脂肪族基、脂肪族
エーテル基、環状脂肪族基、又は芳香族基を表すが、よ
り具体的には、鎖式アルキレン基、ポリエーテル基、脂
環炭化水素基、アリーレン基、又はアラルキレン基であ
り、炭素−炭素結合、エーテル結合、エステル結合から
選ばれる１種以上の結合を任意に含んでも良い。またＲ
₃は、上述の基に更に置換基を有していても良く、置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アル
コキシカルボニル基、アシリオキシ基、アルカノイル基
等が挙げられる。

【００１９】より具体的には、Ｒ₃としては、分子量６
０〜１０００、好ましくは６０〜６００のポリオキシメ
チレン基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレ
ン基、ポリオキシブチレン基、ポリオキシテトラメチレ
ン基、トリメチロールプロパンポリオキシエチレン基、
トリメチロールプロパンポリオキシプロピレン基、ペン
タエリスリトールオキシエチレン基、ペンタエリスリト
ールオキシプロピレン基、ネオペンチルグリコールポリ
オキシエチレン基、ジメチロールヘプタンポリオキシエ
チレン基、ジメチロールヘプタンポリオキシプロピレン
基等の脂肪族エーテル基や、

【００２０】ビスフェノールＡ基、エチレンオキサイド
変性ビスフェノールＡ基、ブロピレングリコール変性ビ
スフェノールＡ基、ビスエトキシフルオレン基、フタル
酸残基等の芳香族基や、水添ビスフェノールＡ基、エチ
レンオキサイド変性水添ビスフェノールＡ基、ダイマー
酸及びダイマー酸ジオール残基、ヘキサヒドロフタル酸
残基、トリシクロデカンジメチロール残基等の環状脂肪
族基や、炭素原子数２〜３０までのアルキレン基、１２
−ビニル−８−オクタデセン二酸残基、又は８，１２−
エイコサジエン二酸残基等の脂肪族基である。

【００２１】Ｒ₄とＲ₅は、互いに異なる、脂肪族基、脂
肪族エーテル基、環状脂肪族基、芳香族基を表すが、具
体的には、各々、鎖式アルキル基、オキシアルキル基、
脂環炭化水素基、アリール基、又はアラルキル基であ
り、炭素−炭素結合、エーテル結合、エステル結合から
選ばれる１種以上の結合を任意に含んでも良い。また、
Ｒ₄とＲ₅は、上述の基に更に置換基を有していても良
く、置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アシリオキシ基、アルカ
ノイル基、シアノ基等が挙げられる。

【００２２】より具体的には、Ｒ₄とＲ₅として、それぞ
れ異なる、炭素数２〜３０（より好ましくは炭素数４〜
２５）の直鎖アルキル基及びオキシアルキル基、炭素数
４〜３０（より好ましくは、炭素数４〜２６）の分岐ア
ルキル基、炭素数２〜２０（より好ましくは炭素数４〜
１８）の直鎖アルケニル基、炭素数４〜３０（より好ま
しくは炭素数４〜２６）の分岐アルケニル基、炭素数４
〜３０（より好ましくは炭素数４〜２５）のポリオキシ
アルキレン基、２−エチルヘキシルオキシエチレン基、
ヘキシルジオキシエチレン基、シクロヘキシル基、ペン
チルシクロヘキシル基、ペンチルシクロヘキシルフェニ
ル基、ノニルフェニル基、ノニルオキシフェニル基、又
はオクチルフェニル基である。作成する液晶デバイスの
駆動電圧の面からは、炭素数４〜２５の飽和アルキル基
が好ましい。

【００２３】本発明の一般式（I）で表される化合物の
合成方法としては、例えば多価エポキシ基を有する化合
物（ａ）と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有する
ラジカル重合性化合物（ｂ）とを反応させ、更に生成し
た水酸基と水酸基と反応しうる基を有する非重合性化合
物（ｃ）及び（ｃ'）とを反応させることにより得るこ
とができる。

【００２４】また別の合成方法としては、例えば多価エ
ポキシ基を有する化合物（ａ）とエポキシ基と反応しう
る基を有する非重合性化合物（ｄ）及び（ｄ'）とを反
応させ、水酸基と反応し得るラジカル重合性化合物
（ｂ'）とを反応させることにより得ることができる。

【００２５】具体的に示せば、一般式（I）においてｐ
＝０、ｑ＝０、ｎとｍが１、Ｘがエステル結合、Ｙ及び
Ｚがエステル結合であり、Ｒ₁が−ＯＣＨ₂−、Ｒ₂が−
ＣＨ₂Ｏ−である側鎖型重合性化合物の場合は、多価エ
ポキシ基を有する化合物（ａ−１）にフタル酸ジグリシ
ジルエステルを用い、アクリル酸（ｂ−１）をグリシジ
ル基１当量に対し１．１当量を加えトリフェニルフォス
フィンやＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを触媒とし、
８０〜１２０℃の条件下で反応させ、水酸基含有ラジカ
ル重合性化合物を得ることが出来る。反応温度が１２０
℃を越えるとアクリル基同士が重合する恐れがあるので
好ましくない。

【００２６】次に、この水酸基含有ラジカル重合性化合
物の水酸基１当量に対して０．５当量のカプリン酸、ラ
ウリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸などの
モノカルボン酸（ｃ−１）及びこれらの酸塩化物（ｃ−
２）とのエステル化反応によりＲ₄の側鎖を導入し、更
にラジカル重合性化合物の水酸基の残基１当量に対して
１当量のＲ₄と異なる構造を有するイソミリスチン酸、
イソステアリン酸、パーフルオロカルボン酸等のモノカ
ルボン酸（ｃ−３）及びこれらの酸塩化物（ｃ−４）と
のエステル化反応によりＲ₄とＲ₅に異なった側鎖基を有
する側鎖型ラジカル重合性化合物を得ることが出来る。

【００２７】エステル化反応の手段としてカルボン酸を
使用する場合は、カルボン酸と同当量のジシクロヘキシ
ルカルボジイミドや、１−エチル−３−（３'−ジメチ
ルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を加え、ジメ
チルアミノピリジンを触媒として塩化メチレン下、室温
で５〜６時間反応させることにより、側鎖型ラジカル重
合性化合物を製造することができる。この反応は公知で
あり高い収率が得られる。

【００２８】反応の参考文献としては、ビー・ネイセス
（B.Neises)、ダブリュー・ステイグリッヒ（W.Steglic
h）による「アンゲワァンデテ・ケミー・インターナシ
ョナル・エディション・イン・イングリッシュ（Angewa
ndte Chemie InternationalEdition in English）17
巻、522頁、1978年」や丹羽らによる「テトラヘドロン
・レターズ（Tetrahedron Lett）30巻、4985頁、1989
年」等が挙げられる。

【００２９】一方、酸塩化物（ｃ−２）を使用する場合
は、酸塩化物１当量に対し１．１当量のトリエチルアミ
ンを加え、無水イソプピルエーテル下で４時間環流させ
ることにより側鎖型ラジカル重合性化合物を製造するこ
とが出来る。

【００３０】本発明の一般式（I）において、ｐ＝１、
ｑ＝０、ｎ及びｍが１であり、Ｘがエーテル結合、Ｙが
エステル結合、Ｚがエーテル結合であり、Ｒ₁が−Ｏ−
であり、Ｒ₂が−ＣＨ₂Ｏ−である側鎖型重合性化合物の
場合は、多価エポキシ基を有する化合物にトリシクロデ
カンジメチロールジグリシジルエーテル（ａ−２）を用
い、カプリン酸、ラウリン酸、シクロヘキサンカルボン
酸、安息香酸などのモノカルボン酸（ｄ−１）をグリシ
ジル基１当量に対し０．５当量を加え、トリフェニルフ
ォスフィンやＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを触媒と
して、８０〜１２０℃の条件下で反応させて、Ｒ₄を有
し、且つ水酸基及びエポキシ基を有する化合物を得るこ
とが出来る。

【００３１】次いで水酸基１当量に対してアクリル酸塩
化物（ｂ'−１）を１当量及び１．１当量のトリエチル
アミンを加え、無水イソプピルエーテル下で４時間環流
させる。更にエポキシ基の残基１当量に対し、アクリル
酸（ｂ−１）を１当量加え、トリフェニルフォスフィン
やＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを触媒とし、８０〜
１２０℃の条件下で反応させ側鎖基及び水酸基を含有す
るラジカル重合性化合物を得ることが出来る。反応温度
が１２０℃を越えるとアクリル基同士が重合する恐れが
あるので好ましくない。

【００３２】次に、この側鎖基及び水酸基を含有するラ
ジカル重合性化合物の水酸基１当量に対して、１当量の
Ｒ₄と異なる構造を有する塩化ドデシル、塩化イソミリ
スチル、塩化イソステアリル等の塩化アルキル（ｃ−
５）、及び１当量の水酸化ナトリウムを加え、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として無水ト
ルエン下で６０℃、４時間反応させることにより、Ｒ₄
とＲ₅に異なった側鎖基を有する側鎖型ラジカル重合性
化合物を得ることが出来る。

【００３３】また、本発明の一般式（I）において、ｐ
＝１、ｑ＝１、ｎが０であり、ｍが１であり、Ｘがエス
テル結合、Ｙ及びＺがエーテル結合であり、Ｒ₁が−Ｏ
ＣＨ₂−であり、Ｒ₂が−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−である側鎖
型重合性化合物の場合は、モノエポキシ基を有する化合
物（ａ'−１）にノニルフェニルグリシジルエーテルを
用い、アクリル酸（ｂ−１）をグリシジル基１当量に対
し１．１当量を加えトリフェニルフォスフィンやＮ，Ｎ
−ジメチルベンジルアミンを触媒とし、８０〜１２０℃
の条件下で反応させ水酸基含有ラジカル重合性化合物
（ｆ−１）を得ることが出来る。

【００３４】次いで同様にモノエポキシ基を有する化合
物（ａ'−２）に２−エチルヘキシルグリシジルエーテ
ルを用い、アクリル酸ダイマー（ｂ−２）をグリシジル
基１当量に対し１．１当量を加えトリフェニルフォスフ
ィンやＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを触媒とし、８
０〜１２０℃の条件下で反応させ水酸基含有ラジカル重
合性化合物（ｆ−２）を得ることが出来る

【００３５】次に２価のカルボン酸を有するダイマー酸
のカルボキシル基１当量に対して水酸基含有ラジカル重
合性化合物（ｆ−１）を０．５当量加え、水酸基と同当
量の１−エチル−３−（３'−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド塩酸塩を加え、ジメチルアミノピリ
ジンを触媒として無水トルエン下、室温で１昼夜反応さ
せる。次いでカルボキシル基の残基１当量に対して、水
酸基含有ラジカル重合性化合物（ｆ−２）を１当量加え
同様にエステル化反応をさせる事によりＲ₄とＲ₅に異な
った側鎖基を有する側鎖型ラジカル重合性化合物を得る
ことが出来る。

【００３６】本発明で使用する多価エポキシ基を有する
化合物（ａ）としては、（メチル）エピクロルヒドリン
とポリエーテルポリオール、アルキルジオール、ビスフ
ェノール、長鎖二塩基酸、ダイマー酸、ダイマー酸ジオ
ール、シクロヘキサンジカルボン酸等との反応により製
造することができ、あるいは２つ以上の不飽和基を有す
る化合物を過酸化水素、メタクロロ過安息香酸及び過酢
酸等で酸化することにより容易に得ることができる。

【００３７】より具体的には、ポリエチレングリコール
ジ（メチル）グリシジルエーテル、ポリプロピレングリ
コールジ（メチル）グリシジルエーテル、ポリブチレン
グリコールジ（メチル）グリシジルエーテル、ポリメチ
ルテトラメチレングリコールジ（メチル）ジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリ（メチル）グリ
シジルエーテル、プロピレンオキサイド変性トリメチロ
ールプロパントリ（メチル）グリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグリコールジ（メチル）グリシジルエーテル、
１，６−ヘキサンジオールジ（メチル）グリシジルエー
テル、

【００３８】１，４−ブタンジオールジ（メチル）グリ
シジルエーテル、テレフタル酸ジ（メチル）グリシジル
エステル、アジピン酸ジ（メチル）グリシジルエステ
ル、セバシン酸ジ（メチル）グリシジルエステル、ビス
フェノールＡジ（メチル）グリシジルエーテル、ダイマ
ー酸ジ（メチル）グリシジルエーテル、４，４'−ビフ
ェニルジ（メチル）グリシジルエーテル、１，６−ナフ
タリンジオールジ（メチル）グリシジルエーテル、８−
エチルオクタデカン二酸ビス（オキシラニルメチル）エ
ステル、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、３，９
−ジビニルスピロ（ｍ−ジオキサン）ジエポキシド等が
挙げられる。

【００３９】本発明で使用するエポキシ基を有する化合
物（ａ′）としては、カプリル酸、ミリスチル酸、ラウ
リル酸、ステアリル酸、イソステアリル酸等の脂肪族カ
ルボン酸の（メチル）グリシジルエステル、安息香酸等
の芳香族カルボン酸の（メチル）グリシジルエステル、
ブチル（メチル）クリシジルエーテル、セチル（メチ
ル）グリシジルエーテル、ステアリル（メチル）グリシ
ジルエーテル、モルホリノ（メチル）グリシジルエーテ
ル、２ーエチルヘキシル（メチル）グリシジルエーテ
ル、フェニル（メチル）グリシジルエーテル等のグルシ
ジルエーテル、長鎖アルキル基のエポキシ化合物である
ＡＯＥＸ２４、ＡＯＥＸ６８（ダイセル化学株式会社
製）などのモノエポキシ化合物が挙げられる。

【００４０】本発明で使用するエポキシ基と反応し得る
活性水素を有するラジカル重合性化合物（ｂ）として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、アクリル酸ダイマ
ー、メタアクリル酸ダイマーが挙げられ、水酸基と反応
し得るラジカル重合性化合物（ｂ'）としてはアクリル
酸塩化物、メタアクリル酸塩化物、アクリル酸ダイマー
及びメタアクリル酸ダイマーの酸塩化物が挙げられる。

【００４１】本発明で使用する水酸基と反応しうる基を
有する化合物（ｃ）及び（Ｃ'）としては、ハロゲン化
化合物やカルボン酸及びカルボン酸クロライド化合物が
挙げられる。具体的な化合物としては、ギ酸、酢酸、酪
酸、カプリル酸、カプロン酸、ラウリル酸、ステアリン
酸、シクロヘキサンカルボン酸、ミリスチル酸、イソス
テアリン酸、パルミチン酸、２−エチルヘキサン酸、２
−デシルドデカン酸、２−ドデシルテトラデカン酸、３
−ペンチルオクタン酸、３−ヘプチルデカン酸、３−ノ
ニルドデカン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、α−フェ
ニル酪酸、シクロヘキサンジカルボン酸、セバシン酸、
アジピン酸、ダイマー酸及びこれらの酸塩化物や、ミリ
スチルクロライド，ラウリルクロライド，ステアリルク
ロライド等が挙げられる。

【００４２】更に本発明で用いるエポキシ基と反応し得
る化合物（ｄ）及び（ｄ′）としては、ヘキサノール、
２−エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコ
ール、ステアリルアルコール、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、シクロヘキサノール、ノニルフェ
ノール、イソステアリルアルコール、モルホリノアルコ
ール等のアルコール化合物や、ギ酸、酢酸、酪酸、カプ
リル酸、カプロン酸、ラウリル酸、ステアリン酸、シク
ロヘキサンカルボン酸、ミリスチル酸、イソステアリン
酸、パルミチン酸、２−エチルヘキサン酸、２−デシル
ドデカン酸、２−ドデシルテトラデカン酸、３−ペンチ
ルオクタン酸、３−ヘプチルデカン酸、３−ノニルドデ
カン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、α−フェニル酪酸
等のカルボン酸等が挙げられる。

【００４３】本発明で使用する側鎖型ラジカル重合性化
合物は、上記の方法で容易に合成することができる。次
に該側鎖型ラジカル重合性化合物を用いた液晶デバイス
について説明する。

【００４４】低電圧駆動性や高散乱性等の種々の好まし
い特性を有する液晶デバイスを得る為には、使用するラ
ジカル重合性化合物の主鎖構造と側鎖構造との組み合わ
せが重要であり、液晶との相溶性が高い側鎖基を導入す
ることにより、低電圧駆動が可能となる。側鎖型ラジカ
ル重合性化合物の側鎖構造が長鎖の直鎖基であると、室
温での低電圧駆動は良好であるが、０℃などの低温では
駆動電圧が上昇してしまう。

【００４５】また、側鎖型ラジカル重合性化合物の側鎖
構造に長鎖の分岐基を用いると、０℃などの低温から６
０℃くらいまでは駆動電圧を一定にできるが、駆動電圧
値が大きい。そこで、温度特性に優れた液晶デバイスを
得るためには、側鎖型ラジカル重合性化合物の側鎖構造
が直鎖であるモノマーと分岐鎖であるモノマーを混合使
用することにより、液晶とポリマー界面の界面状態を制
御することにより、温度特性をある程度、改善すること
ができる。

【００４６】しかしながら、より好ましい特性を有する
液晶デバイスを得る為には、液晶とポリマー界面の界面
状態が微少領域レベルで均一であることが好ましく、上
述の直鎖構造を持つモノマーと分岐構造を持つモノマー
とのコポリマーを用いた場合は、両構造の側鎖基が微少
領域レベルで完全に均一状態で繰り返し配置する訳では
ない為に、液晶とポリマー界面での界面状態が微少領域
レベルで均一ではなく、得られる温度特性の改善は不完
全なものとなる。

【００４７】そこで、本発明者らは、直鎖構造と分岐構
造の２つの異なる構造の側鎖基を、１分子中に導入した
側鎖型ラジカル重合性化合物を作製することにより、液
晶とポリマー界面に構造が異なる側鎖基を分子レベルで
均一に分布させることにより、液晶とポリマー界面を微
少領域レベルで制御でき、急峻性等の特性を向上させる
ことができることを見出した。

【００４８】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を含
有するラジカル重合性組成物を重合して形成される透明
性高分子物質と液晶材料からなる液晶デバイスにおい
て、液晶材料に非極性のフッ素系液晶を用いる場合に
は、側鎖型ラジカル重合性化合物の側鎖基として、アル
キル基及びアルケニル基を用いた２官能体の（メタ）ア
クリルエステルモノマーを用いることがより好ましい。
また本発明のこれら側鎖型ラジカル重合性化合物を２種
以上混合して用いても構わない。

【００４９】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を含
有するラジカル重合性組成物（Ａ）を重合して形成され
る透明性高分子物質と、液晶材料（Ｂ）からなる液晶デ
バイスにおいては、該透明性高分子物質が、液晶材料の
連続層中に三次元網目状構造の透明性高分子物質を形成
したものが好ましい。

【００５０】また、本発明の側鎖型ラジカル重合性化合
物を含有するラジカル重合性組成物（Ａ）を重合して形
成される透明性高分子物質としては、本発明の側鎖型ラ
ジカル重合性化合物のみでも十分であるが、他のラジカ
ル重合性化合物を併用しても構わない。

【００５１】これらのラジカル重合性化合物の具体的例
としては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル
（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリ
レート、イソステアリル（メタ）アクリレート、メトキ
シエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メ
タ）アクリレート、メチルカルビトール（メタ）アクリ
レート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、シ
クロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、

【００５２】フェノキシ（メタ）アクリレート、メトキ
シジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリ
フルオロエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ
（メタ）アクリレート、モルホリノエチル（メタ）アク
リレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メ
タ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリ
レート、エピクロルヒドリン変性ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート、

【００５３】ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アク
リレート、３，３−ジメチロールペンタンジ（メタ）ア
クリレート、３，３−ジメチロールヘプタンジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、

【００５４】ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート等のアクリルエステルモノマーやＮ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアク
リルアミド等のアクリルアミド化合物、ウレタンアクリ
レート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリテトラエチレングリコールジマレイミド、エ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＡジマレイミド等
が挙げられる。

【００５５】本発明で使用する液晶材料（Ｂ）は、単一
の液晶性化合物や、２種以上の液晶性化合物や液晶性化
合物以外の物質も含んだ混合物であっても良く、通常こ
の技術分野で液晶材料として認識されている、公知慣用
の液晶材料であれば、特に制限なく用いることができ
る。

【００５６】用いられる液晶としては、ネマチック液
晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好まし
く、特にネマチック液晶が好ましい。また、その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合
物等が適宜含まれていても良い。

【００５７】本発明で使用できる液晶材料は、以下に示
した化合物群より構成される配合組成物であり、液晶材
料の特性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融
点、粘度、複屈折率、誘電異方性（Δε）の正負を考慮
し、又は重合性組成物等との溶解性等を調節することを
目的として適宜選択、配合して用いることができる。

【００５８】液晶材料（Ｂ）としては、安息香酸エステ
ル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニ
ル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、
ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキ
サンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル
系、フルオロ系、シアノ系、ナフタレン系等の、例え
ば、一般式（III）

【００５９】

【化５】

【００６０】（式中、環Ａ、Ｂ及びＣは、それぞれ独立
に、下記の環のいずれかを表し、

【００６１】

【化６】

【００６２】ｎは０〜２の整数、ｍは１〜４の整数を表
し、Ｙ₁及びＹ₂は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＨ₂
ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ
≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（Ｃ
Ｈ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、又は−ＣＨ₂＝ＣＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂を表し、Ｙ₃は、単結合、−ＣＯＯ−、又は
−ＯＣＯ−を表し、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1〜２０のア
ルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルケニルオ
キシ基、フルオロアルキル基、又はフルオロアルコキシ
基を表す。）で表される液晶化合物を用いることが出来
る。

【００６３】調光層形成材料中の液晶材料（Ｂ）の含有
量は、５０〜９９重量％の範囲が好ましく、より好まし
くは６０〜９０重量％の範囲である。本発明のラジカル
重合性組成物（Ａ）の重合手段としては、熱、及び／又
は紫外線等のエネルギー線を用いることができる。熱重
合の場合は、重合開始剤として熱重合開始剤を用いるこ
とが好ましい。熱重合開始剤としては、公知慣用の熱重
合開始剤をいずれも特に限定なく用いることが出来る。

【００６４】それらの熱重合開始剤としては、例えば、
ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイ
ルパーオキサイド、１，１−ジ（ターシャリーブチルパ
ーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
ｎ−ブチル−４，４’−ジ（ターシャリーブチルパーオ
キシ）バレレート、ジクミルパーオキサイドの如き過酸
化物類；７−アゾビスイソブチルニトリルの如きアゾ化
合物類；テトラメチルチウラムジスルフィド等が挙げら
れる。

【００６５】また、エネルギー線は、製造工程が容易で
あり好ましく、エネルギー線として紫外線を用いる場合
には、重合開始剤として光重合開始剤を該組成物中に添
加することが好ましい。光重合開始剤としては、分子内
結合開裂型と分子内水素引き抜き型の２種に大別でき
る。

【００６６】前者の例は、ジエトキシアセトフェノン、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェ
ニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−
ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチ
ル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパ
ン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフ
ェノン系；

【００６７】ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン
系；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系；
ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル等が挙げ
られる。

【００６８】後者の例としては、ベンゾフェノン、ο−
ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノ
ン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェ
ニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，
３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メト
キシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；

【００６９】２−イソプロピルチオキサントン、２，４
−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサ
ントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサ
ントン系；ミヒラーケトン、４，４′−ジエチルアミノ
ベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系；１０−ブ
チル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノ
ン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノ
ンなどが挙げられる。

【００７０】重合開始剤の添加量は、ラジカル重合組成
物（Ａ）中０．０１〜１０重量％、好ましくは１〜５重
量％である。本発明のラジカル重合性組成物（Ａ）を紫
外線照射した場合、上記の光重合開始剤の添加だけでも
硬化するが、硬化性をより向上させるために、光増感剤
を併用することが好ましい。

【００７１】かかる光増感剤としては、公知慣用の、ト
リエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリ
イソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸
メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチ
ルアミノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−
ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エ
チルヘキシル等のアミン類が挙げられる。

【００７２】光増感剤の配合量は、樹脂組成物中０．０
１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％であ
る。ラジカル重合性組成物（Ａ）にマレイミド化合物を
含有する場合は、光重合開始剤を無くすか、極少量で低
減することが出来る。

【００７３】また本発明のラジカル重合性組成物（Ａ）
には、上記以外に酸化防止剤、紫外線吸収剤、非反応性
のオリゴマーや無機充填剤、有機充填剤、重合禁止剤、
消泡剤、レベリング剤、可塑剤、シランカップリング剤
等を適宜、添加しても良い。

【００７４】本発明の液晶デバイスは、例えば次のよう
にして製造することができる。電極層を有する少なくと
も一方が透明性を有する二枚の基板間に、一般式（Ｉ）
で表される化合物を含有するラジカル重合性組成物
（Ａ）及び液晶材料（Ｂ）及び必要に応じて開始剤
（Ｃ）からなる調光層形成材料を介在ざせ、この調光層
形成材料に熱又はエネルギー線を照射して、ラジカル重
合性組成物（Ａ）を重合させ液晶材料（Ｂ）及び透明性
高分子物質からなる調光層を形成させる。

【００７５】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属であってもよく、柔軟性を有する材
料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであって
もよい。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を隔
て得るものである。その少なくとも一方は透明性を有
し、それらの２枚の間に挟持される調光層を外界視覚で
きるものでなければならない。但し、完全な透明性を必
須とするものではない。

【００７６】デバイスの一方の側から他方の側へ通過す
る光に対して作用させる目的で、この液晶デバイスが使
用される場合は、２枚の基板は、共に適当な透明性を持
つ。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な
電極がその全面又は部分的に配置されてもよい。但し、
プラスチックの如き柔軟性を有する材料には、堅固な材
料、例えば、ガラス、金属等に固定したうえで本発明の
液晶デバイスに用いることができる。

【００７７】２枚の基板間には、液晶材料（Ｂ）及び透
明性高分子物質から成る調光層が介在される。尚、２枚
の基板間には、通常、周知の液晶デバイスと同様、間隔
保持用のスペーサーを介在させることが望ましい。スペ
ーサーとしては、例えば、プラスチックビーズ、シリカ
ビーズ、アルミナ等種々の液晶セル用のものを用いるこ
とが出来る。これらの透明性固体物質は、堅固なものに
限らず、目的に応じ得る限り可とう性、柔軟性、弾性を
有するものであっても良い。

【００７８】本発明の液晶デバイスにおける調光層の厚
さは、５〜１００μｍであることが好ましく、より好ま
しくは６〜５０μｍである。また、調光層は、低電圧駆
動性、高速応答性等の面から、液晶材料の連続層中に透
明性高分子物質が三次元網目状構造を形成してなるもの
が好ましい。三次元網目構造の平均網目の大きさは、
０．２〜５μｍであることが好ましく、より好ましくは
０．５〜３μｍである。

【００７９】液晶材料の連続層と該連続層中に均一な三
次元網目状構造を有する透明性高分子物質を含有する調
光層を基板上に形成する方法としては、例えば、（１）
ラジカル重合性組成物（Ａ）、液晶材料（Ｂ）、及び必
要に応じて重合開始剤（Ｃ）とからなる調光層形成材料
の均一溶液を、電極層を有する二枚の基板間に挟持さ
せ、これにエネルギー線を照射するか、熱的に重合させ
て、三次元網目状の透明性高分子物質を含有する層を形
成する。

【００８０】又は、（２）一方の基板の電極層上にスピ
ンコーター、バーコーター、アプリケーター等のコータ
ーを使用して調光層形成材料の均一溶液を塗布し、次い
で他方の基板を重ねてもよく、これにエネルギー線を照
射するか、又は熱的に重合硬化させて、三次元網目状の
透明性高分子物質を含有する層を形成する等の方法が挙
げられる。

【００８１】本発明で用いるエネルギー線とは、紫外
線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線、可
視光線、マイクロ波、高周波等をいうが、ラジカル性活
性種を生成させうるならば、いかなるエネルギー種でも
かまわない。紫外線を発生するものとしては、例えば超
高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライト
ランプ、水銀ーキセノンランプ、ショートアーク灯等が
挙げられ、ラジカル性活性種を発生させる化合物の吸収
波長を考慮して選択すればよい。

【００８２】特に、紫外線による光重合法は、好適であ
る。また、調光層形成材料の等方性液体状態を保持しな
がら紫外線を照射することは、均一な調光層を形成する
上で好ましい。更に、光照射方法として、時間的、平面
的に均一に照射することは基板間に介在するラジカル重
合性組成物（Ａ）に瞬間的に強い光を照射して重合を進
行させ、これによって網目の大きさを均一にする上で効
果的である。

【００８３】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を用
いた液晶デバイスは、調光層中に占める液晶材料（Ｂ）
の比率を高くすることが可能で、液晶材料が連続層を形
成している為に、１２Ｖｒｍｓ以下の低駆動電圧であ
り、ＩＣドライバー駆動が十分可能であり、電圧印加時
の光透過性が８０％以上と透明性が高く、またコントラ
スト（Ｔ１００ ／Ｔ０）が２０以上、急峻性も１．７
以下と極めて優れた電気光学特性を示す。更に、０℃で
の低温駆動性にも優れている。

【００８４】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物を用
いた液晶デバイスは、その特性から視野の遮断・開放及
び明かりもしくは照明光の透過制限、遮断・透過を電気
的又は熱的に操作でき、建築物の窓やショーウィンドウ
等の視野遮断のスクリーン、採光コントロールのカーテ
ン、文字や図形を表示し高速応答性で電気的に表示を切
り換える広告板や装飾表示板、時計、コンピューター末
端等の表示素子やデジタルペーパー、プロジェクション
等の表示装置として有用である。

【００８５】

【実施例】以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更
に具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例
において「％」及び「部」は特に断りのない限り「重量
％」及び「重量部」を表しす。また特性の記号、その意
味及び内容を表１に示す。また、紫外線照度は、ウシオ
電機社製の受光器「ＵＶＤ−３６５ＰＤ」付きユニメー
タＵＩＴ−１５０」を用いて測定した。

【００８６】

【表１】

【００８７】始めに本発明の側鎖型ラジカル重合性化合
物の合成例を示す。 （実施例１）撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計
を備えた四つ口フラスコにジプロピレングリコールジグ
リシジルエーテル（ナガセ化成工業社製の商品名「ＥＸ
−９４１」）１２０ｇ（０．５２ｍｏｌ）、アクリル酸
８０ｇ（１．１ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２０
０ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミ
ン１．０ｇを入れ、８０℃で撹拌した。

【００８８】次いで反応液を１００℃に昇温させ温度を
保ち、５時間撹拌して反応を完結させた。次いでトルエ
ン３００ｍｌ加え、５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｌで洗浄後、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させ、有機溶媒を減圧溜去して、水酸基価
２７０の淡褐色透明液状の水酸基含有ラジカル重合性化
合物を得た。

【００８９】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸１５．
４ｇ（７７ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２０ｍ
ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩（同仁化学社製の商品名「ドータ
イトＷＳＣ」、以下ドータイトＷＳＣ）１５ｇ（７７ｍ
ｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン１．０ｇを触
媒として加え、塩化メチレン３００ｍｌを仕込み、水氷
バスを用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有ラ
ジカル重合性化合物３０ｇを溶解させた塩化メチレン溶
液５０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。

【００９０】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、濃
縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し水酸
基価９３の水酸基含有ラジカル重合性化合物を得た。

【００９１】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、２−ｎ−ヘプチル
ウンデカン酸１７．１ｇ（７７ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキ
シフェノール２０ｍｇ、ドータイトＷＳＣ １５ｇ（７
７ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン１．０ｇ
を触媒として加え、塩化メチレン５００ｍｌを仕込み水
氷バスを用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有
ラジカル重合性化合物４４ｇを溶解させた塩化メチレン
溶液５０ｍｌ溶液を１時間かけて滴下した。

【００９２】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去し、濃縮
液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して下式
で表される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ
−１）約３３ｇを得た。

【００９３】

【化７】

【００９４】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエス
テル化されていることを確認した。

【００９５】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.45(2
H),6.14(2H),5.87(2H),5.25(2H),4.44(2H),4.33(2H),3.
8(2H),3.7-3.6(10H),2.34(2H),2.30(1H),1.7(4H),1.60
(2H),1.30-1.20(40H),1.12(9H)

【００９６】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ：173.5,165.9,131.53,131.3,128.4,70.9,69.9,68.9,
63.1,62.7,42.4,34.2,30.6,29.6-29.0,25.8,22.6,14.5
赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2930,2
861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=67.0％(68.7),H=9.9％(10.3)

【００９７】（実施例２）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコに１，６−ヘキサ
ンジオールルジグリシジルエーテル（共栄社製の商品名
「エポライト１６００」）１５ｇ（６５ｍｍｏｌ）、
２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチルウンデカン
酸１８．５ｇ（６５ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノー
ル２００ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジ
ルアミン０．５ｇを入れ、８０℃で撹拌した。

【００９８】次いで反応液を１００℃に昇温させ温度を
保ち、５時間撹拌して反応を完結させた。次いでトルエ
ン３００ｍｌ加え、５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｌで洗浄後、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させ、有機溶媒を溜去し、水酸基価１００
の淡褐色透明液状の水酸基含有化合物を得た。

【００９９】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに上記で合成した水酸
基含有化合物２５．５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキ
シフェノール１０ｍｇ、トリエチルアミン５ｇ（５０ｍ
ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００ｍｌを
仕込み水氷バスを用いて５℃に保ち、アクリル酸クロラ
イド４．６ｇを溶解させたＴＨＦ溶液１０ｍｌ溶液を１
時間かけてゆっくり滴下した。

【０１００】滴下終了後、水氷バスを外し、５０℃で４
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、反応液を濾
過し、濾液にトルエン３００ｍｌ加えて飽和食塩水で洗
浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層
の溶媒を減圧溜去して、濃縮液をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使
用）により精製し、エポキシ基を有するラジカル重合性
化合物を２２ｇ得た。

【０１０１】撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計
を備えた四つ口フラスコに、上記で合成したエポキシ基
を有するラジカル重合性化合物２９ｇ（０．５０ｍｏ
ｌ）、アクリル酸３．６ｇ（０．５ｍｏｌ）、ｐ−メト
キシフェノール１０ｍｇ、触媒としてＮ，Ｎ−ジメチル
ベンジルアミン０．５ｇを加え８０℃で撹拌した。

【０１０２】次いで反応液を１００℃に昇温させ温度を
保ち、５時間撹拌して反応を完結させた。次いでトルエ
ンを２００ｍｌ加え５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｌで洗浄後、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させ、有機溶媒を溜去し、水酸基価８２の
水酸基含有ラジカル重合性化合物を得た。

【０１０３】更に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び
温度計を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸９ｇ（４
５ｍｍｏｌ）、ドータイトＷＳＣ８．６ｇ（４５ｍｍｏ
ｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン １．０ｇを触媒
として加え、塩化メチレン３００ｍｌを仕込み水氷バス
を用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有ラジカ
ル重合性化合物３０ｇを溶解させた塩化メチレン溶液５
０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。

【０１０４】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、濃
縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して下
式で表される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物
（Ａ−２）約２８ｇを得た。

【０１０５】

【化８】

【０１０６】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエス
テル化されていることを確認した。

【０１０７】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.45(2
H),6.14(2H),5.87(2H),5.28(2H),4.44(2H),4.33(2H),4.
22(2H),3.6(4H),3.4(4H),2.34(2H),2.20(1H),1.59(2H),
1.50(2H),1.30-1.20(22H),0.90(27H)

【０１０８】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ：173.5,165.9,131.53,131.3,128.4,71.9,70.6,68.9,
52.7,51.3,50.8,42.4,34.2,30.6,29.6-29.0,25.8,22.6,
19.9,19.7,14.5赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）
ｃｍ^-1：2930,2861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=69.7％(70.0),H=10.3％(10.5)

【０１０９】（実施例３）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコにエポライト１６
００ １５ｇ（６５ｍｍｏｌ）、イソミリスチル酸１
４．８ｇ（６５ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２
００ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルア
ミン０．５ｇを入れ、８０℃で撹拌した。

【０１１０】次いで反応液を１００℃に昇温させ、５時
間撹拌して反応を完結させた。次いでトルエン３００ｍ
ｌ加え、５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌで洗浄
後、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥させ、有機溶媒を溜去し、水酸基価１１５の淡褐色
透明液状の水酸基含有化合物を得た。

【０１１１】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに上記で合成した水酸
基含有化合物２２．９ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキ
シフェノール１０ｍｇ、トリエチルアミン５．１ｇ（５
０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１００ｍｌを仕込み、水氷バスで
５℃に保ち、アクリル酸クロライド４．６ｇを溶解させ
たＴＨＦ溶液１０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下
した。

【０１１２】滴下終了後、水氷バスを外し、５０℃で４
時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、反応液を
濾過し、濾液にトルエンを３００ｍｌ加え飽和食塩水で
洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機
層の溶媒を減圧溜去して、シリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製し、エポキシ基を有するラジカル重合性化
合物を２８ｇ得た。

【０１１３】撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計
を備えた四つ口フラスコに上記で合成したエポキシ基を
有するラジカル重合性化合物２１ｇ（０．４０ｍｏ
ｌ）、アクリル酸２．８ｇ（０．４ｍｏｌ）、ｐ−メト
キシフェノール１０ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン０．５ｇ、トルエン５０ｍｌを入
れ、８０℃で撹拌した。次いで反応液を１００℃に昇温
させ温度を保ち、５時間撹拌して反応を完結させた。次
いでトルエン３００ｍｌを加え、５％水酸化ナトリウム
溶液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水で洗浄し有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、有機溶媒を減圧溜去し
て、水酸基価８５の水酸基含有ラジカル重合性化合物を
２７ｇ得た。

【０１１４】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコ２−デシルドデカン酸
１１．９ｇ（３５ｍｍｏｌ）、ドータイトＷＳＣ ６．
７ｇ（４５ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン
１．０ｇを触媒として加え、塩化メチレン３００ｍｌ
を仕込み、水氷バスを用いて５℃に保ち、上記で合成し
た水酸基含有ラジカル重合性化合物 ２１ｇを溶解させ
た塩化メチレン溶液５０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっく
り滴下した。

【０１１５】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０
Ｎの塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して下式で表
される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−
３）約１８ｇを得た。

【０１１６】

【化９】

【０１１７】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエス
テル化されていることを確認した。

【０１１８】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.45(2
H),6.14(2H),5.87(2H),5.28(1H),5.26(1H),4.37-4.21(4
H),3.6(4H),3.4(4H),2.36(1H),2.30(1H),1.61-1.10(40
H),0.90(18H)

【０１１９】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ：173.5,165.9,131.53,131.3,128.4,71.9,70.6,68.9,
52.7,50.8,42.4,34.2,30.6,29.6-29.0,25.8,22.6,19.9,
14.5 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2930,2
861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=71.0％(71.5),H=10.7％(10.9)

【０１２０】（実施例４）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコにデシルグリシジ
ルエーテル（日本油脂社製の商品名「エピオールＬ４
１」）１００ｇ（０．５ｍｏｌ）、アクリル酸４０ｇ
（０．５５ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２００ｍ
ｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン
１．０ｇを入れ、８０℃で撹拌した。更に、反応液を１
００℃に昇温させ温度を保ち、５時間撹拌して反応を完
結させた。その後、トルエン３００ｍｌ加え、５％水酸
化ナトリウム溶液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水で洗
浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、有機溶媒
を溜去して、水酸基価２００の淡褐色透明液状の水酸基
含有ラジカル重合性化合物（１）を得た。

【０１２１】次いで同様に、撹拌装置、窒素導入管、冷
却管及び温度計を備えた四つ口フラスコに２−エチルヘ
キシルグリジルエーテル（日本油脂社製の商品名「エピ
オール-ＥＨ」）８６ｇ（０．５ｍｏｌ）、アクリル酸
４０ｇ（０．５５ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２
００ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルア
ミン１．０ｇを入れ、８０℃で撹拌した。更に、反応液
を１００℃に昇温させ温度を保ち、５時間撹拌して反応
を完結させた。その後、トルエン３００ｍｌ加え、５％
水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水
で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、有機
溶媒を減圧溜去して、水酸基価２３０の水酸基含有ラジ
カル重合性化合物（２）を得た。

【０１２２】その後、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、水添ダイマー酸２
８ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール２０ｍ
ｇ、ドータイトＷＳＣ（同仁化学社製）９．６ｇ（５０
ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン０．６ｇを
触媒として加え、塩化メチレン３００ｍｌを仕込み、水
氷バスを用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有
ラジカル重合性化合物（１）１３．６ｇを溶解させた塩
化メチレン溶液２０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴
下した。

【０１２３】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、濃
縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、カ
ルボン酸含有ラジカル重合性化合物を得た。

【０１２４】更に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び
温度計を備えた四つ口フラスコに、上記で合成したカル
ボン酸含有ラジカル重合性化合物２１ｇ、ｐ−メトキシ
フェノール１０ｍｇ、ドータイトＷＳＣ ４．８ｇ（２
５ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン０．３ｇ
を触媒として加え、塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、
水氷バスを用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含
有ラジカル重合性化合物（２）６．１ｇを溶解させた塩
化メチレン溶液１０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴
下した。

【０１２５】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０
Ｎの塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、
濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して
下式で表される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物
（Ａ−４）約１７ｇを得た。

【０１２６】

【化１０】

【０１２７】また、赤外線吸収スペクトルより３２００
〜３６００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全
にエステル化されていることを確認した。

【０１２８】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.46(2
H),6.14(2H),5.87(2H),5.33(2H),4.37(4H),3.6(4H),3.3
(4H),2.45(1H),2.30(1H),1.60-1.10(92H),0.90(15H)

【０１２９】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ：173.5,165.9,131.53,131.3,128.4,71.9,70.6,68.9,
63.1,52.7,50.8,42.4,37.0-22.0,19.9,15.4,14.5 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2930,2
861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=71.3.0％(70.8),H=10.1％(9.8)

【０１３０】（実施例５）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコに１，２，９，１
０−ジエポキシデカン８５ｇ（０．５ｍｏｌ）、アクリ
ル酸ダイマー（東亜合成社製の商品名「Ｍ５６００」）
８０ｇ（０．５５ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール４
００ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルベンジルア
ミン１．２ｇを入れ、８０℃で撹拌した。更に、反応液
を１００℃に昇温させ温度を保ち、５時間撹拌して反応
を完結させた。その後、トルエン５００ｍｌを加え、５
％水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌで洗浄後、純水及び
飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、有機溶媒を減圧溜去して、水酸基価１２０の水酸
基含有ラジカル重合性化合物を得た。

【０１３１】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、カプリル酸３．６
ｇ（２５ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール１０ｍ
ｇ、ドータイトＷＳＣ ４．８ｇ（２５ｍｍｏｌ）及び
４−ジメチルアミノピリジン０．３ｇを触媒として加
え、塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、水氷バスを用い
て５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有ラジカル重合
性化合物１１．５ｇを溶解させた塩化メチレン溶液１０
ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。

【０１３２】滴下終了後、水氷バスを外し室温で１０時
間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製して水酸基価９
３の水酸基含有ラジカル重合性化合物を１０ｇ得た。

【０１３３】更に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び
温度計を備えた四つ口フラスコに、２−デシルドデカン
酸５ｇ（１５ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール１０
ｍｇ、ドータイトＷＳＣ２．８ｇ（１５ｍｍｏｌ）及び
４−ジメチルアミノピリジン０．２ｇを触媒として加
え、塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、水氷バスを用い
て５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有ラジカル重合
性化合物８．８ｇを溶解させた塩化メチレン溶液１０ｍ
ｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。

【０１３４】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製して下式で表さ
れる透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−５）
約９．５ｇを得た。

【０１３５】

【化１１】

【０１３６】また、赤外線吸収スペクトルより３２００
〜３６００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全
にエステル化されていることを確認した。

【０１３７】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.46(2
H),6.16(2H),5.91(2H),4.90(2H),4.40-4.21(8H), 2.36
(6H),2.30(1H),1.60-1.10(58H),0.90(9H)

【０１３８】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ：173.5,173.3,171.3,165.9,165.4,131.53,131.3,12
8.4,76.0,71.0,67.4,42.4,34.2,30.6,29.6-29.0,25.8,2
2.6,19.9,14.5 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2930,2
861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=69.4％(68.8),H=10.9％(10.0)

【０１３９】（実施例６）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸１
０ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール１０ｍ
ｇ、ドータイトＷＳＣ９．６ｇ（５０ｍｍｏｌ）及び４
−ジメチルアミノピリジン０．６ｇを触媒として加え、
塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、水氷バスを用いて５
℃に保ち、エピクロロヒドリン変性１，６−ヘキサンジ
オールジアクリレート（日本化薬社製の商品名「カヤラ
ッドＲ―１６７」）１８．７ｇを溶解させた塩化メチレ
ン溶液２０ｍｌ溶液を１時間かけてゆっくり滴下した。

【０１４０】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し水酸基価９５
の水酸基含有ラジカル重合性化合物を約１９ｇ得た。

【０１４１】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記で合成した水
酸基含有ラジカル重合性化合物１４ｇ（２５ｍｍｏ
ｌ）、４−オクチルシクロヘキシルクロライド５．８ｇ
（２５ｍｍｏｌ）、トルエン１００ｍｌ、水酸化ナトリ
ウム４ｇを加え、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロ
マイドを触媒として６０℃で５時間反応させた。

【０１４２】反応終了後、トルエン２００ｍｌ加え、飽
和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製して、下式で表される透明液状
の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−６）約２０ｇを得
た。

【０１４３】

【化１２】

【０１４４】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており完全にエーテ
ル化されていることを確認した。

【０１４５】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.46(2
H),6.14(2H),5.87(2H),5.28(1H),4.43(2H),4.28(2H),3.
6(2H),3.56(4H),3.44(4H),2.32(2H),1.60-1.10(42H),0.
90(6H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：173.5,16
5.9,131.53,131.3,128.4,71.9,70.6,68.9,63.1,52.7,4
2.4,29.6-27.0,24.3,14.5

【０１４６】赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃ
ｍ^-1：2930,2861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=71.0％(70.3),H=10.9％(10.4)

【０１４７】（実施例７）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノール
フルオレンジグリシジルエーテル２３ｇ（０．５ｍｏ
ｌ）、アクリル酸４０ｇ（０．５５ｍｏｌ）、ｐ−メト
キシフェノール２００ｍｇ、及び触媒としてＮ，Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン１．０ｇを入れ、８０℃で撹拌し
た。更に、反応液を１００℃に昇温させ温度を保ち、５
時間撹拌して反応を完結させた。その後、トルエン５０
０ｍｌを加え、５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌで
洗浄後、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、有機溶媒を溜去して、水酸基価１８０の
水酸基含有ラジカル重合性化合物を得た。

【０１４８】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、２−ｎ−ヘプチル
ウンデカン酸１４ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフ
ェノール１０ｍｇ、ドータイトＷＳＣ ９．６ｇ（５０
ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン０．６ｇを
触媒として加え、塩化メチレン３００ｍｌを仕込み、水
氷バスを用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有
ラジカル重合性化合物３０ｇを溶解させた塩化メチレン
溶液３０ｍｌ溶液を１時間かけて滴下した。

【０１４９】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し水酸基価７５
の水酸基含有ラジカル重合性化合物を約２５ｇ得た。

【０１５０】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、上記で合成した水
酸基含有ラジカル重合性化合物２２ｇ（２５ｍｍｏ
ｌ）、ラウリルクロライド５．１ｇ（２５ｍｍｏｌ）、
トルエン１００ｍｌ、水酸化ナトリウム４ｇを加え、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイドを触媒として
６０℃で５時間反応させた。

【０１５１】反応終了後、トルエン２００ｍｌ水、飽和
食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。有機層の溶媒を減圧溜去して、シリカゲルクロマト
グラフィーにより精製して、下式で表される透明液状の
側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−７）約１９ｇを得
た。

【０１５２】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており完全にエーテ
ル化されていることを確認した。

【０１５３】

【化１３】

【０１５４】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：7.23(4
H),7.15(4H),6.99(4H),6.88(4H),6.82(4H),6.45(2H),6.
16(2H),5.88(2H),5.26(2H),4.33(2H),4.26(2H),4.12(4
H),3.56(2H),2.34(4H),2.30(1H),1.56(6H),1.44-1.24(4
4H),0.90(9H)

【０１５５】¹³Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：
δ： 175.5,166.4,131.3,131.4,129.8,129.7,128.4,12
7.4,114.3,71.0,70.9,62.7,52.1,34.2,30.6,29.6-29.0,
25.8,22.6,19.9,14.5 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2930,2
861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=76.7％(77.2),H=8.3％(8.9)

【０１５６】（実施例８）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコに、ミリスチン酸
１１．５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール
１０ｍｇ、ドータイトＷＳＣ ９．６ｇ（５０ｍｍｏ
ｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン０．６ｇを触媒と
して加え、塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、水氷バス
を用いて５℃に保ち、二塩基酸のエポキシアクリレート
（岡村製油社製の商品名「ＩＰＳ−２２ＧＡ」）３２ｇ
を溶解させた塩化メチレン溶液２０ｍｌ溶液を１時間か
けてゆっくり滴下した。

【０１５７】滴下終了後水氷バスを外し、室温で１０時
間撹拌し反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎの
塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シリ
カゲルクロマトグラフィーにより精製し水酸基価１３０
の水酸基含有ラジカル重合性化合物を約３８ｇ得た。

【０１５８】次いで撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び
温度計を備えた四つ口フラスコに、４−ノニルオキシ安
息香酸６．６ｇ（２５ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノ
ール５ｍｇ、ドータイトＷＳＣ ４．７ｇ（２５ｍｍｏ
ｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン０．２ｇを触媒と
して加え、塩化メチレン３００ｍｌを仕込み、水氷バス
を用いて５℃に保ち、上記で合成した水酸基含有ラジカ
ル重合性化合物２１ｇを溶解させた塩化メチレン溶液２
０ｍｌ溶液を１時間かけて滴下した。

【０１５９】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０
Ｎの塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、下式で
表される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−
８）約１９ｇを得た。

【０１６０】

【化１４】

【０１６１】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており完全にエステ
ル化されていることを確認した。

【０１６２】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：7.23(2
H),7.10(2H),6.46(2H),6.14(2H),5.87(2H),5.35(2H),4.
4-4.1(8H),3.8(2H),2.35(6H),1.70-1.12(76H),0.90(12
H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：175.6,17
3.2,165.5,131.5,131.4,129.8,129.7,128.4,68.9,62.1,
45.7,38.9,34.2,32-29.0,27.4,19.9,15.4,14.5,10.8

【０１６３】赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃ
ｍ^-1：2930,2861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=69.8％(70.8),H=9.6％(9.8)

【０１６４】（実施例９）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコにトリメチロール
プロパントリグリシジルエーテル（ナガセ化成工業社製
の商品名「デナコールＥＸ−３１４」）７５ｇ（０．２
５ｍｏｌ）、アクリル酸５４ｇ（０．７５ｍｏｌ）、ｐ
−メトキシフェノール２００ｍｇ、及び触媒としてＮ，
Ｎ−ジメチルベンジルアミン１．０ｇを入れ、８０℃で
撹拌した。更に、反応液を１００℃に昇温させ温度を保
ち、５時間撹拌して反応を完結させた。その後トルエン
５００ｍｌを加え、５％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｌで洗浄後、純水及び飽和食塩水で洗浄し有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥させ、有機溶媒を溜去して、水酸
基価３２０の水酸基含有ラジカル重合性化合物を得た。

【０１６５】撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計
を備えた四つ口フラスコに、ラウリン酸２０ｇ（０．１
ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール１０ｍｇ、ドータイ
トＷＳＣ １９ｇ（０．１ｍｏｌ）及び４−ジメチルア
ミノピリジン１ｇを触媒として加え、塩化メチレン３０
０ｍｌを仕込み、水氷バスを用いて５℃に保ち、上記で
合成した水酸基含有ラジカル重合性化合物２６ｇを溶解
させた塩化メチレン溶液３０ｍｌ溶液を１時間かけて滴
下した。

【０１６６】滴下終了後水氷バスを外し、室温で１０時
間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０Ｎ
の塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し水酸基価６２
の水酸基含有ラジカル重合性化合物を約２８ｇ得た。

【０１６７】次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及
び温度計を備えた四つ口フラスコに、２，２，４，８，
１０，１０−ヘキサメチルウンデカン酸７．１ｇ（２５
ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール５ｍｇ、ドータイ
トＷＳＣ ４．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）及び４−ジメチル
アミノピリジン０．２ｇを触媒として加え、塩化メチレ
ン３００ｍｌを仕込み、水氷バスを用いて５℃に保ち、
上記で合成した水酸基含有ラジカル重合性化合物 ２２
ｇを溶解させた塩化メチレン溶液２０ｍｌ溶液を１時間
かけて滴下した。

【０１６８】滴下終了後、水氷バスを外し、室温で１０
時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、１／１０
Ｎの塩酸溶液、飽和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧溜去して、
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、下式で表
される透明液状の側鎖型ラジカル重合性化合物（Ａ−
９）約１８ｇを得た。

【０１６９】

【化１５】

【０１７０】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており完全にエステ
ル化されていることを確認した。

【０１７１】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.46(3
H),6.20(3H),5.89(3H),5.29(3H),4.38(3H),4.29(3H),3.
58(6H),3.48(6H),2.34(5H),1.60(8H),1.47-1.00(42H),
0.9(27H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：175.6,17
3.2,165.5,131.5,131.4,128.4,71.8,70.3,69.9,68.5,6
2.1,51.3,50.1,45.7,34.2,32-29.0,27.4,19.9,19.7

【０１７２】赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃ
ｍ^-1：2930,2861，1744,1652-1622,1176,807.5 元素分析：C=69.2％(68.8),H=10.6％(10.2)

【０１７３】(実施例１０〜２０）液晶デバイス次に、
実施例１〜９で得た側鎖型ラジカル重合性化合物を用
い、表２及び表３に示した組成で各原料を配合し調光層
形成材料を調製した。これらの調光層形成材料を、１
１．０μｍのガラスファイバー製スペーサーが塗布され
た２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調光層形成
材料を均一な溶液状態に保つように基板全体を温度コン
トロールし、４０ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を６０秒照射し
調光層の厚さ約１１μｍの液晶デバイスを得た。

【０１７４】得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過
率の関係の測定結果を表２及び表３にまとめて示した。
また、表４には実施例２で作製した液晶デバイスを、測
定温度０℃、２５℃及び５０℃で測定した結果を示し
た。

【０１７５】（比較例１）ラジカル重合性化合物とし
て、ラジカル重合性２重結合間に側鎖を持たない１，６
−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製の商
品名「ＨＤＤＡ」）を用いた以外は、実施例と同様にし
て液晶デバイスを製造し、実施例と同様に評価を行い、
その結果を表３に示した。

【０１７６】（比較例２）ラジカル重合性化合物とし
て、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド平均４モル
付加物のジアクリレート（東亜合成化学社製の商品名
「Ｍ２１０」）を用い実施例と同様にして液晶デバイス
を製造し、実施例と同様に評価を行い、その結果を表３
に示した。

【０１７７】（比較例３）ラジカル重合性化合物とし
て、３，３−ジメチロールヘプタンジアクリレート，
（第一工業製薬社製の商品名「Ｃ９Ａ」）を用い実施例
と同様にして液晶デバイスを製造し、実施例と同様に評
価を行い、その結果を表３に示した。

【０１７８】（比較例４と５）エピクロロヒドリン変性
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社
製の商品名「Ｒ−１６７」）を用い、実施例と同様にし
て液晶デバイスを製造し、実施例と同様に評価を行い、
その結果を表３に示した。

【０１７９】

【表２】

【０１８０】

【表３】

【０１８１】表中、液晶材料「ＰＮ００６」は大日本イ
ンキ化学工業社製のトラン系ネマチック液晶材料、「イ
ルガキュアー６５１」はチバスペシャリティーケミカル
社製の２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ンから成る光重合開始剤、「ＨＤＤＡ」は日本化薬社製
の１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、「Ｍ−２
１０」は東亜合成化学社製のビスフェノールＡのエチレ
ンオキサイド平均４モル付加物のジアクリレート、「Ｃ
９Ａ」は第一工業製薬社製の３，３−ジメチロールヘプ
タンジアクリレート、「Ｒ−１６７」は日本化薬社製の
エピクロロヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジア
クリレートを表す。

【０１８２】（実施例２１）実施例２で作製した液晶デ
バイスを、測定温度０℃、２５℃、５０℃で評価し、そ
の結果を表４に示した。

【０１８３】（比較例６）撹拌装置、冷却管及び温度計
を備えた四つ口フラスコにエチレングリコリコールジグ
リシジルエーテル（日本油脂社製の商品名「エピオール
Ｅ−１００」）１７.４ｇ（０．１ｍｏｌ）、ラウリン
酸６０ｇ（０．２ｍｏｌ）及び触媒としてＮ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン１．６１ｇを入れ、８０℃で撹拌し
た。次いで反応液を１１０℃にゆっくり昇温させ温度を
保ち、１０時間撹拌して反応を完結させた。次いで５％
水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌで洗浄後、純水及び飽
和食塩水で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、有機溶媒を溜去し、水酸基価１９０の淡褐色透明液
状生成物を７７ｇ得た。

【０１８４】次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び
温度計を備えた四つ口フラスコに上記の液状生成物２９
ｇ、ｐ−メトキシフェノール１０ｍｇ、トリエチルアミ
ン１５．１ｇ（０．１５ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラ
ン５００ｍｌを加え窒素気流下で、水氷バスを用い５℃
に保ち、次いで塩化アクリロイル９ｇ（０．１ｍｏｌ）
を１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バ
スを外し、５時間還流させ反応を完結させた。

【０１８５】反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し濃縮
した。濃縮液をトルエン２００ｍｌに溶解させ、０．１
Ｎ塩酸溶液３００ｍｌで洗浄後、純水及び飽和食塩水で
洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機
層の溶媒を減圧溜去し、濃縮液をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使
用）により精製して、下式で表される透明液状の側鎖型
ラジカル重合性化合物（Ａ−１０）約１３ｇを得た。

【０１８６】

【化１６】

【０１８７】赤外線吸収スペクトルより３２００〜３６
００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失しており、完全にエス
テル化されていることを確認した。

【０１８８】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ6.42(2H),
6.10(2H),5.86(2H),5.64(2H),4.24(4H),3.71(4H),3.55
(4H),2.33(4H),1.55(4H),1.3-1.24(32H),0.88(6H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ173.7,173.
5,165.5,165.3,131.5,131.3,128.4,128.1,81.2,70.63,7
0.56,70.22,34.3,29.6-29.0,25.8,24.9,14.6赤外吸収ス
ペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：2925,2854，1742,
1652-1620,1176,807.9、 元素分析：C=66.22％(66.49),H=10.32％(10.19)

【０１８９】（比較例７）撹拌装置、窒素導入管、冷却
管及び温度計を備えた四つ口フラスコにエピクロルヒド
リン変性１，６−ヘキサンジオールエポキシアクリレー
ト（日本化薬株式会社製の商品名「Ｒ−１６７」、水酸
基価２６８．７ＫＯＨｍｇ／ｇ）２１ｇ、ｐ−メトキシ
フェノール２０ｍｇ、トリエチルアミン１５．１ｇ
（０．１５ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン５００ｍｌ
を加え窒素気流下で、水氷バスを用い５℃に保ち、次い
で塩化ｎ−オクタノイル１７．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を
１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、水氷バス
を外し、５時間還流させ反応を完結させた。

【０１９０】反応終了後、析出した塩酸塩を濾別し、濃
縮した。濃縮液をトルエン２００ｍｌに溶解させ、０．
１Ｎ塩酸溶液３００ｍｌで洗浄後、純水及び飽和食塩水
で洗浄し有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有
機層の溶媒を減圧溜去し、濃縮液をシリカゲルクロマト
グラフィー（濃縮液に対して４０倍量のシリカゲルを使
用）により精製して、下式で示される透明液状の側鎖型
ラジカル重合性化合物（Ａ−１１）約１６ｇを得た。

【０１９１】

【化１７】

【０１９２】また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）より
３２００〜３６００ｃｍ^-1の水酸基の吸収が消失してお
り、完全にエステル化されていることを確認した。

【０１９３】（物性値） １Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：6.42(2
H),6.10(2H),5.86(2H),5.24(2H),4.34(2H),4.26(2H),3.
68-3.58(8H),2.34(4H),1.60(4H),1.25(24H),0.87(6H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：173.6,16
5.5,131.3,128.1,70.8,70.4,69.5,62.5,34.3,31.9,29.6
-29.0,24.8,22.6,14.0

【０１９４】赤外吸収スペクトル（ＩＲ）（ＫＢｒ）ｃ
ｍ^-1：2925,2854，1742,1652-1620,1176,807.9、 元素分析：C=64.2％(65.2),H=9.1％(9.3)

【０１９５】

【表４】

【０１９６】表４より、比較例７は２５℃の電気光学特
性は優れているが、０℃の低温では駆動電圧が上昇し、
散乱特性が低下した。また、表４には本発明の側鎖型ラ
ジカル重合性化合物としてＡ−２だけを示したが、実施
例１及び実施例３〜９で合成した側鎖型ラジカル重合性
化合物Ａ−１及びＡ−３〜Ａ−９を用いた場合でも０℃
の測定でＴ０、Ｖｒ９０、ＣＲ、γｒ等の電気光学特性
に殆ど変化が見られず、本発明の側鎖型ラジカル重合性
化合物を用いた液晶デバイスは電気光学特性の温度依存
性が小さいことが明らかであった。

【０１９７】

【発明の効果】本発明は、新規な側鎖型ラジカル重合性
化合物と、該化合物を含むラジカル重合性組成物、及び
該化合物又は該組成物を用いた、低温でも高いコントラ
スト、低電圧駆動が可能である液晶デバイスを提供する
ことができる。

【０１９８】本発明の側鎖型ラジカル重合性化合物は、
液晶材料と透明性高分子物質から成る調光層を有する液
晶デバイスの透明性高分子物質の構成材料として用いた
場合、偏光板が不要で、表示面積が明るく、高急峻性、
高コントラストで、且つ１２Vrms以下という低電圧駆動
が可能で、電気光学特性の温度依存性が小さい薄型液晶
デバイスを製造することが出来る。 更に、高抵抗である
ため、電圧保持率を向上させることが出来、ＴＦＴなど
のアクティブマトリックス駆動が可能となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA04 KA04 QA16 4H027 BA13 BC04 BD02 BD04 BD06 BD20 BD23 4J100 AL66P BA02P BA15P BC04P BC43P BC48P CA01 CA04 FA03 JA32

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（I） 【化１】 （式中、Ｒ₁とＲ₂はそれぞれ独立に−Ｏ−、−ＯＣＨ₂
   −、−ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＣＨ₂−、−
   ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ
   −、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−を表し、Ｒ₃は脂肪族基，
   脂肪族エーテル基、環状脂肪族基，又は芳香族基を表
   し、Ｒ₄とＲ₅はそれぞれ独立に脂肪族基，脂肪族エーテ
   ル基、環状脂肪族基、又は芳香族基を表し、Ｒ₆とＲ₇は
   各々水素原子又は−ＣＨ₃を表し、Ｘは−ＣＨ₂−、エー
   テル結合又はエステル結合、Ｙ及びＺは各々独立にエー
   テル結合、又はエステル結合を表し、ｍは１〜３までの
   整数であり、ｐ、ｑ及びｎは０又は１を表す）で表され
   る側鎖型ラジカル重合性化合物。
2. 【請求項２】 一般式（I）のＲ₃、Ｒ₄、Ｒ₅がそれぞれ
   独立に脂肪族基及び又は脂肪族エーテル基である請求項
   １に記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
3. 【請求項３】 一般式（I）のｐとｑが０である請求項
   １又は２に記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
4. 【請求項４】 一般式（I）のｐが１で、ｑが０である
   請求項１又は２に記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
5. 【請求項５】 一般式（I）のＲ₄とＲ₅がそれぞれ異な
   る炭素数４〜２５の飽和アルキル基である請求項１〜４
   のいずれか１つに記載の側鎖型ラジカル重合性化合物。
6. 【請求項６】 一般式（I）のＲ₄が炭素数４〜２５の直
   鎖アルキル基であり、Ｒ₅が炭素数４〜２６の分岐アル
   キル基である請求項１〜４のいずれか１つに記載の側鎖
   型ラジカル重合性化合物。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１つに記載の側
   鎖型ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組
   成物。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれか１つに記載の側
   鎖型ラジカル重合性化合物の重合物を用いた液晶デバイ
   ス。
9. 【請求項９】 請求項７に記載のラジカル重合性組成物
   （Ａ）を重合して形成される透明性高分子物質と、液晶
   材料（Ｂ）とからなる液晶デバイス。
10. 【請求項１０】 透明性高分子物質からなる三次元網目
    構造中に液晶材料が連続層で形成された調光層を有する
    請求項９に記載の液晶デバイス。