JP2005250110A - 光散乱型液晶デバイス、及び調光層形成材料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ポリマーマトリックス及び液晶組成物からなる調光層を挟持させてなる光散乱型液晶デバイスにおいて、ポリマーマトリックスが一般式(1)で表される繰り返し単位
【化0】
(1)
(式中、A1は炭素原子数4〜40のアルキル基を表す。A2は炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。B1は、水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B1が結合する2つの炭素原子間結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B1Mが1〜60である連結基を表す。)からなる光散乱型液晶デバイス。
【選択図】 なし
Description
該デバイスには、
(1)低電圧駆動であること(例えば汎用ICが使えること)、且つ
(2)幅広い温度範囲(例えば−20℃〜70℃の温度範囲)において駆動電圧の変化が小さいこと、
が求められている。
該(メタ)アクリレートは多官能化合物であるので、未重合の化合物の低減を図ることができる。
(1)低電圧駆動であり(例えば汎用ICが使えること)、且つ
(2)幅広い温度範囲(例えば−20℃〜70℃の温度範囲)において駆動電圧の変化が小さく、
経時変化等の生じない、ポリマーマトリックス及び、液晶組成物からなる調光層を有する光散乱型液晶デバイスを提供することにある。
誘電率異方性(Δε)の高い液晶組成物を使用すると駆動電圧が下がることは知られているが、限界がある。駆動電圧は、ポリマーマトリックスと液晶分子との相互作用(インターラクション)が関連していると思われ、相互作用が大きいと駆動させるのに過度の電圧を必要とすると考えられる。即ち、液晶分子との相互作用の小さいポリマーマトリックスを設計することが必要と考えた。
ポリマーマトリックスは環境温度によってその弾性率が変化する。ガラス転移点以上ではポリマーマトリックス分子鎖のミクロブラウン運動により、ポリマーマトリックスは常に熱振動していると考えられ、これが液晶分子とポリマーマトリックスとの相互作用を抑制するものと考えられる。
一方、ガラス転移点(以下、Tgと略す)付近及び以下ではガラス化が生じポリマーマトリックス分子鎖の運動は殆ど生じない。そのため、液晶分子とポリマーマトリックスとの相互作用が大きくなってしまい、低温域での駆動電圧が上昇してしまうものと考えられる。従って、−20℃〜70℃の幅広い温度範囲内で、液晶分子と分子鎖との相互作用の変化が小さいポリマーマトリックスを設計することが有用であると考えた。
1)該アルキル基中の炭素原子は、
a)酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよく、
b)置換基として炭素原子数1〜15のアルキル基を有していても良く、
2)A1が結合している炭素原子からA1の末端の炭素原子までの結合を辿ったときに含まれる最小の原子数A1Mは40以下であり(但し、A1が置換基を有する場合は、もっとも原子数の多い末端の炭素原子までの結合に含まれる原子数をA1Mとする。)、
A2は炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。
B1は、水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B1が結合する2つの炭素原子間結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B1Mが1〜60である連結基を表す。また、複数ある繰り返し単位のA1、A2、及びB1は、同じであっても異なっていてもよい。)
からなる光散乱型液晶デバイスを提供する。
ここで、ポリマーマトリックスが、実質的に、一般式(1)で表される繰り返し単位からなるとは、ポリマーマトリックスを構成する繰り返し単位の90%以上が一般式(1)で表される繰り返し単位であることを意味する。
B3及びB4は、各々独立して水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B3及びB4が結合する2つの炭素原子間の結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B3M及びB4Mがそれぞれ1〜40の連結基を表す。但し、B3M及びB4Mは下記式を満たす。
及び液晶組成物を含有する調光層形成材料を提供する。
(1)低電圧駆動であり(例えば汎用ICが使える)、且つ
(2)幅広い温度範囲(例えば−20℃〜70℃の温度範囲)において駆動電圧の変化が小さく、
経時変化等を生じない。
本発明の光散乱型液晶デバイスは、透明電極層を有し少なくとも片方が透明であり、該透明電極層を対向させた状態で一定間隔を保った2枚の基板間に、ポリマーマトリックス及び液晶組成物からなる調光層を挟持させてなる光散乱型液晶デバイスであり、そのポリマーマトリックスは、前記一般式(1)で表される繰り返し単位からなる。
但し、該アルキル基中の炭素原子は、
a)酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよく、
b)置換基として炭素原子数1〜15のアルキル基を有していても良い。
排除体積効果は、側鎖の運動性に起因するため、隣り合う運動性の側鎖間の距離、つまり隣り合うA1が結合している炭素原子間の距離と、A1の長さとが関係すると考えられる。
低電圧駆動の液晶デバイスを得るためには、一般式(1)中の側鎖A1が結合している炭素から一番長い側鎖の末端までの距離d1と、隣り合うA1が結合している炭素間の距離d2との比が、d1:d2=1:5 〜 5:2であることが好ましい。
(このとき、B1M=2B3M+B4M=13)
また、B1が式(5)
(このとき、B1M=2B3M+B4M=18)
上記の範囲内であれば大きな排除体積効果が得られ、(1)低電圧駆動の液晶デバイスが得られる。
B1Mが短すぎると側鎖の運動性が損なわれるおそれがあり、また、B1Mが長すぎると側鎖同士の相互作用が大きくなるおそれがあり、いずれも駆動電圧をあげる要因になると考えられる。
図1に、A2として、メチル基を有する重合性化合物を使用した液晶デバイスと、A2の部位に水素原子を有する重合性化合物を使用した液晶デバイスの、各々の温度と駆動電圧との関係について示す。A2が存在することで、幅広い温度範囲において安定な駆動電圧(ΔVが0.3以内である)の素子が得られる。A2で表される基は、メチル基で十分な効果を示す。
前記一般式(1)の具体的なポリマー材料としては、マクロモノマーのようなメタアクリレートの重合物、ジメチロールオクタン、ブチルエチルプロパンジオールを用いたポリエステルおよび、そのアクリル変性化合物等が挙げられる。中でも、A1で表される長鎖側鎖、及び、A2で表されるアルキル基を置換基として有する炭素原子をもつ多官能重合性化合物を原料として得たポリマーマトリックスが好ましい。多官能重合性化合物としては、例えば、一般式(2)で表される重合性化合物が挙げられる。
中でも、下記一般式(6)
一般式(6)中、R1は単結合、又は炭素原子数1〜5のアルキレン基を表す。中でも、単結合又は炭素原子数1のメチレン基が好ましい。
X1は単結合、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、又は−OCONH−を表す。中でも、−O−、−CO−O−、又は−OCO−が好ましい。
R2及びR2の置換基に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていても良い。
R2は、具体的には、ノルマルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ノルマルオクチル基、ノルマルウンデシル基、ノルマルトリデシル基、ノルマルテトラデシル基、ノルマルオクタデシル基、2−n−ヘプチルノニル基、イソミリスチル基、2−エチルヘキシル基、ブトキシエチル基、ヘキシロキシエチル基、ノルマルブトキシエトキシメチル基、シクロヘキシル基、ポリエチレングリコールモノエーテル基、4−ノニルフェニレン基、4−オクチルシクロヘキシル基等があげられる。中でも、炭素数6〜20のアルキル基が好ましく、更に、アルキル基が直鎖アルキル基の場合は、炭素数7〜14の直鎖アルキル基がより好ましい、アルキル鎖が分岐鎖の場合は、炭素数9〜18の分岐アルキル基がより好ましい。
R2が、例えば、ノルマルウンデシル基、ノルマルトリデシル基等の炭素数6〜20の直鎖アルキル基であると、より低電圧で駆動可能な液晶デバイスを得ることができる。また。R2が、例えば、2−ノルマルヘプチル−ノニル基等の分岐アルキル基であると、駆動電圧の温度による変化の少ない液晶デバイスを得ることができる。
A2の炭素数が5よりも大きくなるとアクリル基の重合性を阻害する恐れがある。
B3及びB4は、各々独立して水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、炭素原子数、酸素原子数及び窒素原子数の総和B3MおよびB4Mがそれぞれ1〜40の連結基を表す。
一般式(1)におけるB1は、一般式(2)においては、
−B2−OC−CR2−CH2CH2−CR2−CO−B2−、及び、
−B3−B4−B3−で表される。B1Mが1〜60であるので、B2Mは最大26となる。また、B3M及びB4Mは下記式を満たす。
B2が−O−CH2−、−O−CH2−CH2−CO−O−CH2−、−O−CH2−CH2O−、又は−O−CH2−CH(CH3)O−であり、
B3が−CH2−O−、−CH2−OCO−、−CH2−CO−O−又は−CH2−であり、
B4が、mが2のときは、炭素数2〜30のアルキレン基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数3〜10のシクロアルキレン基、又は、−Y−R4−Y− (但し、Yはアリーレン基又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基を表し、R4は単結合又は炭素数1〜15のアルキレン基(但し、アルキレン基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)を表す。)を表す。mが3のときは、炭素数2〜30のアルキルトリイル基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表す。mが4のときは、炭素数2〜30のアルキルテトライル基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)であることが好ましい。
また、前記B4の、mが3のときの具体例としては、
また、前記B4の、mが4のときの具体例としては、
一般式(2)においてmは2であるとなお好ましい。また、その場合におけるA1の好ましい例としては、R1がメチレン基、X1が−O−、−CO−O−、又は−OCO−、R2が炭素数2〜30のアルキレン基の組み合わせが最も好ましい。
また、一般式(1)のR1が炭素原子数4であるブチレン基の場合は、オキセタン基の代わりにフラン基を複数有する化合物を用いることによる得ることができる。更に、一般式(1)のR1が炭素原子数5であるペンチレン基の場合は、オキセタン基の代わりにピラン基を複数有する化合物を用いることにより得ることができる。
更に一般式(2)で表される重合性化合物が、下記化合物の場合は、
例えばオキセタンアルコールが下記化合物の場合は、
重合性化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリテトラエチレングリコールジマレイミド等が挙げられる。これらの重合性化合物の配合率としては、一般式(1)の重合性化合物の合計量に対して、1〜30%が好ましく、5〜20%が最も好ましい。
液晶材料としては、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系、シアノ系、ナフタレン系等の、一般式(5)
また、該基板上には、必要に応じて、高分子膜や、配向膜やカラーフィルターを配置することもできる。配向膜としては、例えば、ポリイミド配向膜、光配向膜等が使用できる。配向膜の形成方法としては、例えばポリイミド配向膜の場合、ポリイミド樹脂組成物を該透明基板上に塗布し、180℃以上の温度で熱硬化させ、更に綿布やレーヨン布でラビング処理することで得ることができる。また、ラビング処理を施していないポリイミド膜等の高分子膜も用いることもできる。
(中間体1)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、1,6−ヘキサンジオール23.6g(0.2モル)、トリエチルアミン44.5g(0.44モル)、テトラメチルエチレンジアミン(0.04モル)4.6gおよびトルエン500mlを入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。p−トルエンスルホニウムクロリド80g(0.42モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後、室温で反応容器を3時間撹拌した後反応を終了した。生成する塩酸塩を濾過した後、反応液を1/10Nの塩酸溶液、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(6)で表される1,6−ヘキサンジオールジトシレートの白色固体を83.6g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:7.78(d,4H),7.72(d,4H),3.98(t、4H),2.44(s,6H),1.59(m,4H),1.26(m,4H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:145.1,133.5,130.2,129.4,128.6,128.2,70.6,29.0,25.1,22.0,
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、中間体1の1,6−ヘキサンジオールジトシレート50g(0.12モル)、トテラブチルアンモニウムブロミド4g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)41g(0.35モル)、およびジメチルスルオキシド150mlを加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 18.7g(0.47モル)を5回に分けて1時間かけて添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(7)で表される3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)を30g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,8H),3.56(s,4H),3.45(t、4H),1.70(m,4H),1.60(m,4H),1.38(m,4H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:73.4,71.5,44.3,43.4,32.7,29.5,26.8,26.2,26.0,25.5,8.2
撹拌装置、温度計、および滴下ロートを備えた反応容器に、パラホルムアルデヒド 54g(0.17モル)、ターシャリーブチルエーテル 100mlを加え、40℃で溶解させた後、n−ヘキサナール 45g(0.45モル)を1時間かけて、50%水酸化ナトリウム溶液 53.6gを1.5時間かけて同時に滴下した。発熱による温度上昇が見られるが55℃を越えないように反応容器を制御した。50%水酸化ナトリウムを滴下終了したら、反応容器を55℃に加熱して、更に30分かけて50%水酸化ナトリウム 24gを滴下する。滴下終了後、55℃で2時間撹拌し反応を終了させる。反応容器に酢酸エチルを300ml加え、水層を除去する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去した後、イソプロピルエーテルによる再結晶によりトリメチロールブタンを48g得た。
次いで反応容器を200℃まで加熱して4時間加熱して、脱炭酸反応を進行させた。反応終了後、反応物を減圧蒸留して目的物の3−ブチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンを34g得た。
更に、中間体1で合成した1,6−ヘキサンジオールジトシレート33.5g(0.08モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド2.6g、ジメチルスルオキシド 150ml、および上記反応より合成した3−ブチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン 34g(0.24モル)を加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 12.8g(0.32モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(8)で表される3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−ブチルオキセタン)を21g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,8H),3.56(s,4H),3.45(t、4H),1.70(m,4H),1.60(m,4H),1.38−1.17(m,12H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:73.7,71.5,43.0,33.9,29.5,26.8,26.3,25.9,23.1,14.0
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記の中間体1および2の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。ラウリル酸クロリド29.4(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後に酢酸エチルを加え、10%亜硫酸水素ナトリウムでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去し中間体M−1を51g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(m,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.9,29.7−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
実施例1と同様な反応容器に、上記中間体及び2の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。n−ウンデカン酸クロリド27.4g(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応終了後は、実施例1と同様の操作を行い中間体M−2を49g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,32H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.8,29.5−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
実施例1と同様な反応容器に、上記の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−エチルオキセタン)20g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。n−ミリスチン酸クロリド27.4g(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応終了後は、実施例1と同様の操作を行い中間体M−3を49g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,46H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.7,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記中間体3の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−ブチルオキセタン)21g(0.057モル)、ヨウ化ナトリウム20.4g(0.136モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。ラウリル酸クロリド27.4(0.125モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に40で4時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後に酢酸エチルを加え、10%亜硫酸水素ナトリウムでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−4を30g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.28−1.25(m,44H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.7,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.1,7.5
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、中間体1で合成した1,6−ヘキサンジオールジトシレート50g(0.12モル)、トテラブチルアンモニウムブロミド4g、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン35.7g(0.35モル)、およびジメチルスルオキシド150mlを加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 18.7g(0.47モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−メチルオキセタン)を27g得た。
次いで、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記の方法で合成した3,3−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス(3−メチルオキセタン)18.3g(0.064モル)、ヨウ化ナトリウム22.9g(0.152モル)、およびアセトニトリルを300ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。ラウリル酸クロリド29.4(0.134モル)を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後に酢酸エチルを加え、10%亜硫酸水素ナトリウムでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去し中間体M−5を40.6g合成した。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.12(s,4H)3.97(s,4H),3.35(t,4H),3.27(s,4H),2.30(t,4H),1.67−1.49(m,8H),1.25(m,36H),0.99(s,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.9,29.7−29.1,25.9,24.9,22.6,17.1,14.0,
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に共栄社製の1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル「エポライト1600」60g(0.26mol)、アクリル酸41g(0.57mol)、p−メトキシフェノール200mg、及び触媒としてN,N−ジメチルベンジルアミン0.5gを入れ、80℃で撹拌した。次いで反応液を100℃に昇温し、5時間撹拌した後反応を終了した。次いでトルエン500ml加え、5%水酸化ナトリウム溶液300ml、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して淡褐色透明液状の化合物B80g得た。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.45(d,2H),6.17(d,2H),5.87(d,2H),5.28(m,2H),4.41(2H),4.37(2H),3.6(4H),3.4(4H),2.32(4H),1.7−1.55(m,8H),1.25(m,36H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.0,165.6,131.1,128.0,128.0,71.5,70.5,699,68.9,63.0,62.6,34.3,34.0,31.8,29.6−29.0,24.9,22.6,21.8,14.0
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2930,2861,1744,1652−1622,1176,807.5
下記構造のフッ素系液晶化合物からなる液晶組成物A(誘電率異方性:7.7)を70%と、実施例1で合成した化合物「M−1」29.4%、チバスペシャリティーケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」0.6%を配合することにより調光層形成材料である重合性組成物(MLC−1)を得た。
重合性組成物(MLC−1)を、11.0μmのガラスファイバー製スペーサーが塗布された2枚のITO電極ガラス基板に挟み込み、均一な溶液状態に保つように基板全体を温度コントロールし、40mW/cm2の紫外線を60秒照射し厚さ約11μmの光散乱型液晶デバイスを得た。得られたデバイスの飽和電圧及び駆動電圧の変動値を評価し、結果を表2に示した。光散乱型液晶デバイスの電気光学特性を表1に示す。
重合性化合物「M−2〜M−5」を実施例1と同様な方法により液晶組成物、光重合開始剤を配合して重合性組成物(MLC−2〜5)を作製した。更に実施例2のデバイス作製方法により光散乱型液晶デバイスを得た。得られたデバイスの飽和電圧及び駆動電圧の変動値を評価し、結果を表2に示した。
重合性化合物「M−6」を実施例1と同様な方法により液晶組成物、光重合開始剤を配合して重合性組成物(MLC−6)を作製した。更に実施例2のデバイス作製方法により光散乱型液晶デバイスを得た。得られたデバイスの飽和電圧及び駆動電圧の変動値を評価し、結果を表2に示した。
Claims (4)
- 透明電極層を有し少なくとも片方が透明であり、該透明電極層を対向させた状態で一定間隔を保った2枚の基板間に、ポリマーマトリックス及び液晶組成物からなる調光層を挟持させてなる光散乱型液晶デバイスにおいて、ポリマーマトリックスが、実質的に、一般式(1)で表される繰り返し単位
(式中、A1は炭素原子数4〜40のアルキル基を表す。但し、
1)該アルキル基中の炭素原子は、
a)酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよく、
b)置換基として炭素原子数1〜15のアルキル基を有していても良く、
2)A1が結合している炭素原子からA1の末端の炭素原子までの結合を辿ったときに含まれる最小の原子数A1Mは40以下であり(但し、A1が置換基を有する場合は、もっとも原子数の多い末端の炭素原子までの結合に含まれる原子数をA1Mとする。)、
A2は炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。
B1は、水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B1が結合する2つの炭素原子間結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B1Mが1〜60である連結基を表す。また、複数ある繰り返し単位のA1、A2、及びB1は、同じであっても異なっていてもよい。)
からなることを特徴とする光散乱型液晶デバイス。 - 前記調光層が、一般式(2)で表される重合性化合物、及び液晶組成物からなる調光層形成材料を重合させて得られたものである、請求項1に記載の光散乱型液晶デバイス。
(2)
(式中、A1およびA2は、一般式(1)におけるA1およびA2と同じ基を表す。
B2は、水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B2が結合する2つの炭素原子間の結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B2Mが1〜26の連結基を表す。
B3及びB4は、各々独立して水素原子、炭素原子、酸素原子又は窒素原子で構成され、B3及びB4が結合する2つの炭素原子間の結合を辿ったときに含まれる最小の原子数B3M及びB4Mがそれぞれ1〜40の連結基を表す。但し、B3M及びB4Mは下記式を満たす。
R3は水素原子又はメチル基を表す。mは2〜4の整数を表す。) - 前記一般式(2)において、B2が−O−CH2−、−O−CH2−CH2−CO−O−CH2−、−O−CH2−CH2O−、又は−O−CH2−CH(CH3)O−であり、B3が−CH2−O−、−CH2−OCO−、−CH2−CO−O−又は−CH2−であり、B4が、mが2のときは、炭素数2〜40のアルキレン基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数3〜10のシクロアルキレン基、又は、−Y−R4−Y− (但し、Yはアリーレン基又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基を表し、R4は単結合又は炭素数1〜15のアルキレン基(但し、アルキレン基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)を表す。)を表す。mが3のときは、炭素数2〜30のアルキルトリイル基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表す。mが4のときは、炭素数2〜30のアルキルテトライル基(但し、該基中に存在し、B3と直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)である、請求項2に記載の光散乱型液晶デバイス。
- 前記一般式(2)で表される重合性化合物、及び液晶組成物を含有することを特徴とする調光層形成材料。
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