JP2005224968A - ラミネート方法およびその方法を用いたラミネート装置 - Google Patents

Abstract

【課題】キャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、加熱条件を容易に微調整できるようにする。
【解決手段】本発明のラミネート装置によれば、テープ状のキャリアテープ２０を長手方向Ｆに搬送する搬送ローラ３０，３２，３４，３６と、搬送ローラ３０，３２，３４，３６によって搬送されているキャリアテープ２０をローラ面において加熱する加熱加圧ローラ４２，４４と、キャリアテープ２０が加熱加圧ローラ４２，４４のローラ面に接触する接触面積を調整する搬送経路変更ローラ４０とを備えている。
【選択図】 図１０

Description

本発明は、例えばキャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱するラミネート方法およびその方法を用いたラミネート装置に関するものである。

例えば、ＴＡＢ用のキャリアテープ、ＣＯＦ（Chip On Film）用のキャリアテープ、ＦＰＣ（Flexible Print Circuit）等のようなプリント配線基板は、モニタ、携帯機器等の液晶ドライバーや、半導体ＩＣ、あるいは部品同士を実装するケーブル等といった様々な用途に使用されている。

この種のプリント配線基板は、一般に、図１２から図１６に示すように、例えば銅箔面からなる導体層にフォトレジスト（感光剤）等を塗布し、配線回路パターンを感光（露光）させ、現像し、エッチングする工程を経て配線回路が形成されている。

図１２は基板幅方向に沿った断面図である。図１２（ａ）は、２層キャリアテープの一例であり、プリント配線基板の基材１４となるポリイミド等の絶縁層１０に、所定の配線回路パターンに形成される例えば銅からなる導体層１２が積層され、導体層１２の表面が脱脂、化学研磨等によって洗浄される。銅からなる導体層１２の厚みの一例としては８〜１２μｍ程度、ポリイミドからなる絶縁層１０の厚みの一例としては２５〜５０μｍ程度である。

なお、同様に図１２（ｂ）は、絶縁層１０と導体層１２とを接着する接着剤層１６を絶縁層１０および導体層１２との間に設けた３層キャリアテープの一例である。この場合、銅からなる導体層１２の厚みの一例としては１５〜２５μｍ程度、ポリイミドからなる絶縁層１０の厚みの一例としては７５μｍ程度、接着剤層１６の厚みの一例としては１２μｍである。

このような２層および３層のキャリアテープのテープ幅は約３５〜３５０ｍｍ程度、長さは約１００ｍ〜４００ｍ程度であり、テープ長さ方向両側にReel to Reel搬送用のスプロケットホール１８が一定間隔で設けられている。

次に、図１３に示すように、導体層１２の表面のスプロケットホール１８が設けられたテープサイドを除いて厚さ約４μｍのフォトレジスト１９が塗布される。その後、図１４に示すように、所定の配線回路パターンが形成されたフォトマスク２１を介して、フォトレジスト１９に向けて紫外線２３が照射される。これによって、図１４に示すように、フォトレジスト１９に、この配線回路パターンが焼き付けられる。

その後、現像液を用いてフォトレジスト１９を現像することによって、図１５に示すように、配線回路パターンに相当する部位のフォトレジスト１９（＃ａ）が残る。更に、図１６に示すように、エッチング液２７をディップまたはスプレー等の方式でエッチング処理を施す。図１５で形成された配線回路パターン部は、フォトレジスト１９（＃ａ）によって覆われておりエッチング液が触れないため、導体層１２が開口された部位のみエッチングが進行し、最終的には図１６に示すように、配線回路パターン以外の部位における導体層１２が除去される。その後、残ったフォトレジスト１９（＃ａ）が剥離されることによって、絶縁層１０上に所定の配線回路パターンに形成された導体層１２（＃ａ）が得られる。

既に述べたように、２層キャリアテープの場合、導体層１２である銅箔の多くは、厚さ約８μｍ〜１２μｍのものが使用されている。銅箔厚さが厚いほどファイン配線ピッチ化には向かず、薄いほどファイン配線ピッチパターンは製造しやすいメリットがある。一方、３層キャリアテープでは、導体層１２である銅箔の多くは、１５μｍ〜２５μｍのものが使用されているが、ファインパターンが切れず、ファイン配線ピッチには向かないので一般的には２層キャリアテープが多く使用されはじめている。３層キャリアテープは、導体層１２と絶縁層１０との間に接着剤層１６があり、導体層１２と絶縁層１０とをラミネートする必要がある。

このラミネートは、図１７に示すようなラミネート装置を用いて行われている。特許文献１によると、図１７に示すようなラミネート装置には、第１ラミネート装置としての真空ラミネータ１と、第２ラミネート装置および加熱加圧手段として互いに対向する一対の上側ロール６７および下側ロール６８を備えた第２ヒートロール２と、上側フィルム５および下側フィルム７がラミネートされる基材１４を巻き取るための巻取ローラ３とが、基材１４の巻取方向における上流側から下流側に沿って、順次設けられている。

真空ラミネータ１は、減圧槽としての真空槽４と、その真空槽４内に、上側フィルム５が巻回されている上側巻回ロール６と、下側フィルム７が巻回されてなる下側巻回ロール８と、加熱加圧手段として互いに対向する一対の上側ロール６５および下側ロール６６を備えた第１ヒートロール９とを備えている。

真空槽４は、基材１４を通過させるための上流側通過口６１および下流側通過口６２が、本体の前壁および後壁にそれぞれ開口形成されている。また、上流側通過口６１の上流側近傍および下流側通過口６２の下流側近傍には、真空槽４内の真空度を保持するための上流側真空シールロール６３および下流側真空シールロール６４がそれぞれ設けられている。

そして、上側ロール６７および下側ロール６８は、図示しないヒータによって加熱されており、その加熱された状態で、上側フィルム５および下側フィルム７が積層された基材１４を挟み込んで、その基材１４を送りながら、加熱しつつ押圧するように構成されている。

これによって、例えば第２ヒートロール２の表面温度が約１１０℃、第２ヒートロール２の圧力が０．４ＭＰａ、巻取ローラ３の巻取速度が０．５ｍ／分でラミネートすることが記載されている。
特開２００２−２１０８２３号公報

しかしながら、このような従来のラミネート装置では、以下のような問題がある。

すなわち、図１７に示すような従来のラミネート装置では、上側ロール６７および下側ロール６８と、基材１４との接触角度が一定である。したがって、加熱温度や加熱時間といった加熱条件を調整するためには、上側ロール６７と下側ロール６８とに温度調節器を備え、この温度調節器を所定温度に設定することによって行うか、巻取ローラ３の巻取速度を調整し、加熱時間を調整することによって行うか、あるいはこれらを組み合わせて行う。

しかしながら、これらの方法では、加熱条件を微調整することが容易ではなく、安定した品質でラミネート処理を行うことが困難であるという問題がある。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、キャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、加熱条件を容易に微調整することが可能なラミネート方法およびラミネート装置を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明では、以下のような手段を講じる。

すなわち、請求項１の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、加熱加圧ローラのローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整段階とを備えている。

従って、請求項１の発明のラミネート方法においては、以上のような手段を講じることにより、キャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整することによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項２の発明は、請求項１の発明のラミネート方法において、接触面積調整段階では、被加熱加圧体が加熱加圧ローラに搬送される加熱加圧前搬送経路、および加熱加圧ローラによって加熱加圧された被加熱加圧体が搬送される加熱加圧後搬送経路のうちの少なくとも何れか一方の一部を変えることによって、接触面積を調整する。

従って、請求項２の発明のラミネート方法においては、以上のように、加熱加圧ローラの前または後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項３の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、加熱加圧ローラのローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整段階と、加熱加圧ローラによって被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位段階とを備えている。

従って、請求項３の発明のラミネート方法においては、単なる微調整の次元ではなく、加熱時間と加圧時間が同じでなく、加熱時間の方を長くするようなこともできる。

請求項４の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、複数の加熱加圧ローラの各ローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、各加熱加圧ローラによって被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位段階とを備える。

従って、請求項４の発明のラミネート方法においては、単なる微調整の次元ではなく、加熱時間と加圧時間が同じでなく、加熱時間の方を長くするようなこともできる。また、加熱加圧ローラを複数備えているので、一度の処理において被加熱加圧体を複数回連続して加圧することも可能となる。

請求項５の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して被加熱加圧体が、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間に導入されるようにすることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整段階とを備えている。

従って、請求項５の発明のラミネート方法においては、以上のように、加熱加圧ローラの前の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項６の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送され、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱加圧する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間から搬送された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整段階とを備えている。

従って、請求項６の発明のラミネート方法においては、以上のように、加熱加圧ローラの後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項７の発明のラミネート方法は、搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して被加熱加圧体が、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間に導入されるようにすることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第１の接触面積調整段階と、搬送手段によって搬送され、一対のローラ面の間から払い出された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第２の接触面積調整段階とを備えている。

従って、請求項７の発明のラミネート方法においては、以上のように、加熱加圧ローラの前後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項８の発明は、請求項１乃至７のうち何れか１項の発明のラミネート方法において、被加熱加圧体に積層された積層物の配置情報および面積情報を積層物情報格納データベースに予め格納する積層物情報格納段階と、積層物情報格納データベースに格納された情報に基づいて、各積層物が加熱加圧ローラによって加えられる圧力が、被加熱加圧体の長手方向に沿って一定になるような加圧パターンを演算する加圧パターン演算段階と、加熱加圧ローラに対して、加圧パターン演算段階において演算された加圧パターンにしたがって被加熱加圧体に圧力を加えさせ、加熱加圧ローラによって各積層物が長手方向に沿って一定圧力で加圧されながら加熱されるようにした加圧段階とを備えている。

従って、請求項８の発明のラミネート方法においては、以上のような手段を講じることにより、積層物が配置された被加熱加圧体を加熱する場合であっても、全ての積層物に対して一定の圧力で加圧しつつ、かつ、加熱条件の微調整も容易に行うことが可能となる。

請求項９の発明のラミネート装置は、テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、ローラ面において加熱加圧する加熱加圧ローラと、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整手段とを備えている。

従って、請求項９の発明のラミネート装置においては、以上のような手段を講じることにより、キャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整することによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１０の発明は、請求項９の発明のラミネート装置において、接触面積調整手段は、被加熱加圧体が加熱加圧ローラに搬送される加熱加圧前搬送経路、および加熱加圧ローラによって加熱加圧された被加熱加圧体が搬送される加熱加圧後搬送経路のうちの少なくとも何れか一方の一部を変えることによって、接触面積を調整する。

従って、請求項１０の発明のラミネート装置においては、以上のように、加熱加圧ローラの前または後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１１の発明のラミネート装置は、テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラと、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して被加熱加圧体が一対のローラ面の間に導入されるようにすることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整手段とを備えている。

従って、請求項１１の発明のラミネート装置においては、以上のように、加熱加圧ローラの前の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１２の発明のラミネート装置は、テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱加圧する一対の加熱加圧ローラと、搬送手段によって搬送され、一対のローラ面の間から搬送された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整手段とを備えている。

従って、請求項１２の発明のラミネート装置においては、以上のように、加熱加圧ローラの後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１３の発明のラミネート装置は、テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された被加熱加圧体を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラと、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して被加熱加圧体が一対のローラ面の間に導入されるようにすることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第１の接触面積調整手段と、搬送手段によって搬送され、一対のローラ面の間から払い出された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、被加熱加圧体の表面側および裏面側の各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第２の接触面積調整手段とを備えている。

従って、請求項１３の発明のラミネート装置においては、以上のように、加熱加圧ローラの前後の搬送経路の一部を変えることによって被加熱加圧体とローラ面との接触面積を調整することができる。これによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１４の発明は、請求項１１乃至１３のうち何れか１項の発明のラミネート装置において、一対の加熱加圧ローラに代えて、互いに対向配置され、直径が異なる２つの加熱加圧ローラを用いる。

従って、請求項１４の発明のラミネート装置においては、以上のようにすることによって、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１５の発明は、請求項１４の発明のラミネート装置において、直径の大きな加熱加圧ローラの円周上であって、かつ、被加熱加圧体がこの直径の大きな加熱加圧ローラに接する第１の接点から第２の接点までの間に直径の小さな加熱加圧ローラの外周の一部を配置する。

従って、請求項１５の発明のラミネート装置においては、以上のようにすることによって、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１６の発明は、請求項１１乃至１５のうち何れか１項の発明のラミネート装置において、一対の加熱加圧ローラに代えて、直径が異なる少なくとも２つの加熱加圧ローラを用い、直径の大きな加熱加圧ローラの円周上であって、かつ、被加熱加圧体がこの直径の大きな加熱加圧ローラに接する第１の接点から第２の接点までの間に、この加熱加圧ローラよりも直径の小さな少なくとも１つの加熱加圧ローラの外周の一部を配置する。

従って、請求項１６の発明のラミネート装置においては、以上のようにすることによって、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

請求項１７の発明は、請求項９乃至１６のうち何れか１項の発明のラミネート装置において、被加熱加圧体に積層された積層物の配置情報および面積情報を予め格納した積層物情報格納手段と、積層物情報格納手段に格納された情報に基づいて、各積層物が加熱加圧ローラによって加えられる圧力が、被加熱加圧体の長手方向に沿って一定になるような加圧パターンを演算する加圧パターン演算手段と、加熱加圧ローラに対して、加圧パターン演算手段によって演算された加圧パターンにしたがって被加熱加圧体に圧力を加えさせ、加熱加圧ローラによって各積層物が長手方向に沿って一定圧力で加圧されながら加熱されるようにした加圧手段とを備えている。

従って、請求項１７の発明のラミネート装置においては、以上のような手段を講じることにより、積層物が配置された被加熱加圧体を加熱する場合であっても、全ての積層物に対して一定の圧力で加圧しつつ、かつ、加熱条件の微調整も容易に行うことが可能となる。

請求項１８の発明のラミネート装置は、テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、ローラ面において加熱加圧する加熱加圧ローラと、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整手段と、加熱加圧ローラによって被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位手段とを備えている。

従って、請求項１８の発明のラミネート装置においては、単なる微調整の次元ではなく、加熱時間と加圧時間が同じでなく、加熱時間の方を長くするようなこともできる。

本発明のラミネート方法およびラミネート装置によれば、キャリアテープ等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。

（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態を図１から図３を用いて説明する。

図１は、第１の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、例えばキャリアテープのようなテープ状の被加熱加圧体を、図中に示す搬送方向Ｆである長手方向に搬送させながら連続的に加熱する装置である。

本実施の形態では、被加熱加圧体としては、キャリアテープ２０を適用した場合を例に以下の説明を行う。本実施の形態に係るラミネート装置によって加熱されるキャリアテープ２０は、その立面図の一例を図２に示すように、ポリイミド等が用いられてなる絶縁層２２の表面側に銅等からなる導体層２４が積層されている。この導体層２４は、所定の配線パターンに相当する部位にレジスト２６が配置され、レジスト２６が配置されていない開口部位は、浸漬エッチング、シャワーエッチング等の方法でハーフエッチング処理がなされることによって窪んでいる。このハーフエッチング処理によって、配線回路パターンの複数のフォトレジスト２６の下にフォトレジスト２６の幅より狭いトップ幅を有するように導体層２４（＃ａ）が形成される。

本実施の形態に係るラミネート装置は、繰出ローラ２８、搬送ローラ３０，３２，３４，３６、および巻取ローラ３８から搬送機構を形成している。繰出ローラ２８には、被加熱加圧体であるキャリアテープ２０がロール状に巻回されている。この繰出ローラ２８を、中心軸を中心として、図示しない回転機構からの駆動力を受けて図中に示す時計回りＷに回転することによって、巻回されていたキャリアテープ２０が搬送ローラ３０に繰り出されるようにしている。搬送ローラ３０もまた同様に時計回りＷに回転することにより、繰出ローラ２８から繰り出されたキャリアテープ２０を搬送方向Ｆに沿って搬送ローラ３２側へと搬送する。搬送ローラ３２もまた同様に時計回りＷに回転することにより、搬送ローラ３０から搬送されたキャリアテープ２０を、搬送経路変更ローラ４０（後述する）および一対の加熱加圧ローラ４２，４４（後述する）を介して搬送ローラ３４側へと搬送する。搬送ローラ３４もまた同様に時計回りＷに回転することにより、この搬送されたキャリアテープ２０をダンサーローラ４６（後述する）を介して搬送ローラ３６へと搬送する。搬送ローラ３６もまた同様に時計回りＷに回転することにより、この搬送されたキャリアテープ２０を巻取ローラ３８へと搬送する。巻取ローラ３８もまた同様に時計回りＷに回転することにより、搬送ローラ３６から搬送されたキャリアテープ２０を巻き取る。

これら搬送機構によってキャリアテープ２０が搬送される搬送経路の途中には、搬送経路変更ローラ４０、一対の加熱加圧ローラ４２，４４、およびダンサーローラ４６を備えている。

一対の加熱加圧ローラ４２，４４は、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入されたキャリアテープ２０を、各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する。加熱加圧ローラ４２および加熱加圧ローラ４４もまた、図示しない回転機構からの駆動力を受けて図中に示す反時計回りＲおよび時計回りＷに回転することによって、導入されたキャリアテープ２０を、搬送ローラ３４側に繰り出す。

また、本実施の形態に係るラミネート装置は、加圧部４８を備えている。この加圧部４８は、加熱加圧ローラ４２，４４の一対のローラ面がその間に導入されたキャリアテープ２０に加える圧力の制御命令を、一対の加熱加圧ローラ４２，４４のそれぞれに対して出力する。したがって、一対の加熱加圧ローラ４２，４４は、この制御命令に基づいて、両ローラ面の間に導入されたキャリアテープ２０に圧力を加える。

これによって、一対の加熱加圧ローラ４２，４４の各ローラ面の間に導入されたキャリアテープ２０は、加熱加圧ローラ４２，４４によって連続的に加熱加圧され、搬送ローラ３４側へと搬送されるようにしている。

搬送経路変更ローラ４０は、図３に示すように、図示しないエアシリンダ等によって、図中水平方向Ｈに移動可能な構成としている。これによって、搬送ローラ３２から加熱加圧ローラ４２，４４に至る搬送経路の一部を変更し、加熱加圧ローラ４４のローラ面にキャリアテープ２０が接触する接触面積を調整する。すなわち、図３中に示す搬送経路変更ローラ４０（＃ａ）のように、搬送方向Ｆの上流側にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と浅く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が低くなる。一方、搬送経路変更ローラ４０（＃ｂ），４０（＃ｃ），４０（＃ｄ）に示すように、搬送方向Ｆの下流側ほどキャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と深く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が増加する。

ダンサーローラ４６は、図示しないエアシリンダ等によって、図中垂直方向Ｖに移動可能な構成としている。ダンサーローラ４６の垂直方向Ｖにおける位置を任意に変えることによって、キャリアテープ２０に張力を与え、搬送途中で弛みが発生することなくキャリアテープ２０が巻取ローラ３８まで搬送されるようにしている。

また、本実施の形態に係るラミネート装置は、レジスト繰出ローラ５０を備えており、キャリアテープ２０の表面側を、銅箔や離型紙等のレジスト５２で覆った状態で加熱加圧することもできるようにしている。

すなわちレジスト繰出ローラ５０は、銅箔や離型紙等のレジスト５２がロール状に巻回されている。このレジスト繰出ローラ５０もまた中心軸を中心として反時計回りＲに回転することによって、巻回されていたレジスト５２を加熱加圧ローラ４２に繰り出す。これによって、キャリアテープ２０の表面側がレジスト５２で覆われた状態で加熱加圧ローラ４２，４４によって加熱加圧され、しかる後に、表面側がレジスト５２で覆われたキャリアテープ２０が搬送ローラ３４側へと搬送され、最終的には巻取ローラ３８によって巻き取られるようにしている。

次に、以上のように構成した本実施の形態に係るラミネート装置の作用について説明する。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置では、繰出ローラ２８からキャリアテープ２０が繰り出され、搬送ローラ３０および搬送ローラ３２を介して搬送経路変更ローラ４０へと搬送される。

搬送経路変更ローラ４０は、水平方向Ｈに沿って自己の位置を自在に変えることができる。これによって、搬送ローラ３２から加熱加圧ローラ４２，４４に至るキャリアテープ２０の搬送経路の一部が変更される。そして、しかる後に加熱加圧ローラ４２，４４に送られることによって加熱加圧ローラ４４のローラ面にキャリアテープ２０の裏面が接触する接触面積が調整される。この場合、搬送経路変更ローラ４０が搬送方向Ｆの上流側にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と浅く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、すなわち、加熱時間が短くなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が低くなる。一方、搬送経路変更ローラ４０が搬送方向Ｆの下流側にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と深く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、すなわち、加熱時間が長くなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が増加する。

なお、加圧部４８からの制御命令に従って加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ面の間に導入されたキャリアテープ２０に対して加える圧力が制御される。なお、圧力は、両ローラ間の接触面において加えられるので、加熱時間とは異なり、加圧時間は常に一定となる。これによって、キャリアテープ２０は、加熱加圧ローラ４２，４４において、調整された加熱量で加熱されるとともに、制御された圧力で加圧され、連続的に搬送ローラ３４側へと搬送される。

なお、キャリアテープ２０の表面側を、銅箔や離型紙等のレジスト５２で覆った状態で加熱加圧する場合には、レジスト繰出ローラ５０を反時計回りＲに回転させる。これによって、レジスト５２が加熱加圧ローラ４２に繰り出され、キャリアテープ２０の表面側がレジスト５２で覆われた状態で前記同様に加熱加圧ローラ４２，４４によって加熱加圧される。

このようにして連続的に加熱加圧されたキャリアテープ２０は、加熱加圧ローラ４２，４４によって搬送ローラ３４側に払い出され、更に搬送ローラ３６を介して巻取ローラ３８によって巻き取られる。

なお、搬送ローラ３４と搬送ローラ３６との間にはダンサーローラ４６が設けられており、このダンサーローラ４６が、垂直方向Ｖに移動し、キャリアテープ２０に張力を与えることによって、上述したような繰出ローラ２８から巻取ローラ３８に至る搬送経路において、キャリアテープ２０は搬送途中で弛みが発生することなく搬送される。

上述したように、本実施の形態に係るラミネート装置においては、上記したように、搬送経路変更ローラ４０の水平方向Ｈにおける位置を搬送方向Ｆの上流側に移動させることによって、キャリアテープ２０の加熱量を減少させることができる。逆に、搬送方向Ｆの下流側に移動させることによって、キャリアテープ２０の加熱量を増加させることができる。

すなわち、キャリアテープ２０等のテープ状の被加熱加圧体を、長手方向に搬送させながら連続的に加熱する場合であっても、被加熱加圧体がローラ面に接触する接触面積を調整することによって、ローラ面の温度や、被加熱加圧体の巻取速度を調整することなく、加熱条件を容易に微調整することが可能となる。

（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態を図４を用いて説明する。

図４は、第２の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、第１の実施の形態に係るラミネート装置の変形例であって、搬送ローラ３３を付加して備えるとともに、搬送経路変更ローラ４０の代わりに搬送経路変更ローラ４１を備えた点のみが異なっている。したがって、以下では、異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。なお、図４では、加圧部４８の記載を省略している。

搬送経路変更ローラ４１は、一対の加熱加圧ローラ４２，４４の各ローラの接触点であるＹ点を中心とした半径ｒの円の円周Ｐに沿って移動可能な構成としている。半径ｒは、円周Ｐに沿って搬送経路変更ローラ４１が移動しても搬送ローラ３２、搬送ローラ３３、および一対の加熱加圧ローラ４２，４４と衝突しないような距離としている。

搬送経路変更ローラ４１がＰ０またはＰ１のように、加熱加圧ローラ４４側にある場合には、搬送ローラ３２から搬送経路変更ローラ４１の下部側に搬送されたキャリアテープ２０を、反時計回りＲに送り出すことによって、キャリアテープ２０の裏面を加熱加圧ローラ４４のローラ面に接触させてから、キャリアテープ２０を加熱加圧ローラ４２，４４の一対のローラ間に導入するようにする。この場合、第１の実施の形態と同様に、搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ１）にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と浅く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が低くなる。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ０）にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と深く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が増加する。

また、搬送経路変更ローラ４１がＰ２またはＰ３のように、加熱加圧ローラ４２側にある場合には、搬送ローラ３３から搬送経路変更ローラ４１の上部側に搬送されたキャリアテープ２０を、時計回りＷに送り出すことによって、キャリアテープ２０の表面を加熱加圧ローラ４２のローラ面に接触させてから、キャリアテープ２０を一対のローラ間に導入するようにする。この場合、搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ２）にあるほど、キャリアテープ２０の表面は、加熱加圧ローラ４２のローラ面と浅く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が低くなる。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ３）にあるほど、キャリアテープ２０の表面は、加熱加圧ローラ４２のローラ面と深く接触してから一対のローラ面に巻き込まれることになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が増加する。

搬送ローラ３３は、搬送経路変更ローラ４１がＰ２またはＰ３のように、加熱加圧ローラ４２側にある場合に、反時計回りＲに回転することによって、搬送ローラ３２から搬送されたキャリアテープ２０を搬送経路変更ローラ４１へと搬送する。

上述したような構成のラミネート装置では、搬送経路変更ローラ４１の位置が、搬送経路変更ローラ４１がＰ０またはＰ１のように、加熱加圧ローラ４４側にある場合には、搬送ローラ３２からキャリアテープ２０が下部側に搬送される一方、搬送経路変更ローラ４１がＰ２またはＰ３のように、加熱加圧ローラ４２側にある場合には、搬送ローラ３３からキャリアテープ２０が上部側に搬送される。このため、搬送経路変更ローラ４１の位置を、加熱加圧ローラ４２側から加熱加圧ローラ４４側へと、あるいはその逆へと変更する場合には、キャリアテープ２０の搬送を一旦停止し、手動によって、キャリアテープ２０の搬送経路変更ローラ４１への掛け替えを行う。すなわち、加熱加圧ローラ４２側から加熱加圧ローラ４４側へと変更する場合には、搬送経路変更ローラ４１の上部側に搬送されるようにされていたキャリアテープ２０を、搬送経路変更ローラ４１の下部側に搬送されるように変更する。その逆に、加熱加圧ローラ４４側から加熱加圧ローラ４２側へと変更する場合には、搬送経路変更ローラ４１の下部側に搬送されるようにされていたキャリアテープ２０を、搬送経路変更ローラ４１の上部側に搬送されるように変更する。

以上のように構成した本実施の形態に係るラミネート装置では、搬送経路変更ローラ４０は、Ｙ点を中心とした半径ｒの円の円周Ｐに沿って自己の位置を自在に変えることができる。これによって、搬送ローラ３２または搬送ローラ３３から加熱加圧ローラ４２，４４に至るキャリアテープ２０の搬送経路の一部が変更された後に加熱加圧ローラ４２，４４に送られ、もって、加熱加圧ローラ４４のローラ面にキャリアテープ２０の裏面が接触する接触面積が調整される。

この場合、搬送経路変更ローラ４１がＰ０またはＰ１のように、加熱加圧ローラ４４側にある場合には、搬送ローラ３２から搬送経路変更ローラ４１に搬送されたキャリアテープ２０は、キャリアテープ２０の裏面が加熱加圧ローラ４４のローラ面に接触された後にキャリアテープ２０が一対のローラ間に導入される。これによって、キャリアテープ２０は、第１の実施の形態と同様に、搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ１）にあるほど、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が低くなる。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ０）にあるほど、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が増加する。

一方、搬送経路変更ローラ４１がＰ２またはＰ３のように、加熱加圧ローラ４２側にある場合には、搬送ローラ３３から搬送経路変更ローラ４１に搬送されたキャリアテープ２０は、キャリアテープ２０の表面が加熱加圧ローラ４２のローラ面に接触された後にキャリアテープ２０が一対のローラ間に導入される。これによって、キャリアテープ２０は、搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ２）にあるほど、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が低くなる。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ３）にあるほど、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が増加する。

上述したように、本実施の形態に係るラミネート装置においては、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量の制御のみならず、表面からの加熱量をも自在に制御しつつ、第１の実施の形態で奏された作用効果を奏することが可能となる。

（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態を図５を用いて説明する。

図５は、第３の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、第２の実施の形態に係るラミネート装置の変形例であって、搬送経路変更ローラ４１の代わりに、一対の搬送経路変更ローラ４３，４５を備えた点のみが異なっている。したがって、以下では、異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。なお、図５では、加圧部４８の記載を省略している。

一対の搬送経路変更ローラ４３，４５は、互いに対向配置しており、両ローラの最近接点（図５中における例えばＰ０〜Ｐ４）が、Ｙ点を中心とした半径ｒの円の円周Ｐに沿って移動可能な構成としている。半径ｒは、円周Ｐに沿って前記最近接点が移動しても、搬送経路変更ローラ４３が搬送ローラ３２および搬送ローラ３３と衝突せず、搬送経路変更ローラ４５が加熱加圧ローラ４２，４４と衝突しないような距離としている。

一対の搬送経路変更ローラ４３，４５が図中Ｐ２〜Ｐ４に示すように加熱加圧ローラ４２側にある場合には、搬送ローラ３２，３３から搬送されるキャリアテープ２０を、搬送経路変更ローラ４３に対して時計回りＷに沿って巻き付け、両ローラの最近接点（例えばＰ２〜Ｐ４）において搬送経路変更ローラ４５へと中継する。そして、搬送経路変更ローラ４５が反時計回りＲに回転しながらキャリアテープ２０を一対の加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ間に導入するようにする。

一方、一対の搬送経路変更ローラ４３，４５が図中Ｐ０〜Ｐ１に示すように加熱加圧ローラ４４側にある場合には、搬送ローラ３２，３３から搬送されるキャリアテープ２０を、搬送経路変更ローラ４３と搬送経路変更ローラ４５との間に導入した後に搬送経路変更ローラ４５に対して反時計回りＲに沿って巻き付け、そして、搬送経路変更ローラ４５が反時計回りＲに回転しながらキャリアテープ２０を一対の加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ間に導入するようにする。

このような構成とすることによって、搬送経路変更ローラ４３と搬送経路変更ローラ４５との間に常にキャリアテープ２０を保持することができるので、第２の実施の形態で要していたように、キャリアテープ２０の搬送を一旦停止し、手動によって、キャリアテープ２０の搬送経路変更ローラ４１への掛け替えを行うような必要性は生じない。すなわち、搬送経路変更ローラ４３，４５を、図５中のＰ２〜Ｐ４に示すように加熱加圧ローラ４２側から、図５中のＰ０〜Ｐ１に示すように加熱加圧ローラ４４側に変更する場合、あるいはその逆の場合であっても、キャリアテープ２０の搬送を停止することなく行うことができる。

上述したように、本実施の形態に係るラミネート装置においては、キャリアテープ２０の搬送を停止することなく、第２の実施の形態で奏された作用効果を奏することが可能となる。

（第４の実施の形態）
本発明の第４の実施の形態を図６を用いて説明する。

図６は、第４の実施の形態に係るラミネート方法を適用した装置の一例を示す系統構成図である。

本実施の形態に係るラミネート装置は、第３の実施の形態に係るラミネート装置の変形例である。したがって、以下では、異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。なお、図６では、加圧部４８の記載を省略している。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置では、第３の実施の形態に係るラミネート装置が一対の搬送経路変更ローラ４３，４５を加熱加圧ローラ４２，４４の上流側に配置していたのに対し、一対の搬送経路変更ローラ４３，４５を加熱加圧ローラ４２，４４の下流側に配置している。それに伴って、互いに対向する一対の搬送ローラ３３（＃１，＃２）も、加熱加圧ローラ４２，４４の下流側に備えている。更に、レジスト繰出ローラ５０も加熱加圧ローラ４２，４４の上流側に配置するようにすることによって、加熱加圧ローラ４２，４４の下流側でなされるＹ点を中心として円周Ｐに沿ってなされる搬送経路変更ローラ４３，４５の移動の邪魔にならないようにしている。

搬送経路変更ローラ４３，４５がＰ５〜Ｐ７のように、加熱加圧ローラ４２側にある場合には、加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ間から払い出されたキャリアテープ２０を、図中上側に持ち上げてから搬送経路変更ローラ４５に反時計回りＲに沿って巻き付け、両ローラの最近接点（例えばＰ５〜Ｐ７）において搬送経路変更ローラ４３へと中継する。そして、搬送経路変更ローラ４３が時計回りＷに回転しながらキャリアテープ２０を搬送ローラ３３と搬送ローラ３４との間に導入する。

この場合、搬送経路変更ローラ４３，４５が搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ５）にあるほど、キャリアテープ２０の表面は、加熱加圧ローラ４２のローラ面と深く接触することになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が増加する。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ７）にあるほど、キャリアテープ２０の表面は、加熱加圧ローラ４２のローラ面と浅く接触することになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の表面からの加熱量が減少する。

また、搬送経路変更ローラ４３，４５がＰ８〜Ｐ９のように、加熱加圧ローラ４４側にある場合には、加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ間から払い出されたキャリアテープ２０を、図中下側に下げてから搬送経路変更ローラ４５に対して反時計回りＲに巻き付け、そして、搬送経路変更ローラ４５が反時計回りＲに沿って回転しながらキャリアテープ２０を一対の搬送ローラ３３（＃１，＃２）の間に導入する。

この場合、搬送経路変更ローラ４３，４５が搬送方向Ｆの上流側（例えばＰ９）にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と深く接触することになるので、ローラ面との接触面積が大きくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が増加する。一方、搬送方向Ｆの下流側（例えばＰ８）にあるほど、キャリアテープ２０の裏面は、加熱加圧ローラ４４のローラ面と浅く接触することになるので、ローラ面との接触面積が小さくなり、キャリアテープ２０の裏面からの加熱量が減少する。

上述したような構成とすることによっても、第３の実施の形態で奏された作用効果を奏することが可能となる。なお、本実施の形態では、第３の実施の形態に示す搬送経路変更ローラ４３，４５を加熱加圧ローラ４２，４４の下流側に配置した構成について説明したが、同様に、第１の実施の形態に示す搬送経路変更ローラ４０、および第２の実施の形態に示す搬送経路変更ローラ４１もまた同様に加熱加圧ローラ４２，４４の下流側に配置するようにしても同様の作用効果を奏することができる。

（第５の実施の形態）
本発明の第５の実施の形態を図７を用いて説明する。

図７は、第５の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

本実施の形態に係るラミネート装置は、第３および第４の実施の形態に係るラミネート装置を組み合わせた構成としている。したがって、以下では、異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。なお、図７では、加圧部４８の記載を省略している。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、一対の搬送経路変更ローラ４３，４５を、加熱加圧ローラ４２，４４の上流側（搬送経路変更ローラ４３（＃１），４５（＃１））と下流側（搬送経路変更ローラ４３（＃２），４５（＃２））とのそれぞれに設けた構成としている。また、レジスト繰出ローラ５０を、搬送経路変更ローラ４３，４５の円周Ｐに沿った移動の邪魔にならない場所に配置するとともに、搬送ローラ５１を備え、この搬送ローラ５１によって、レジスト繰出ローラ５０から繰り出されるレジスト５２が、搬送経路変更ローラ４３，４５の円周Ｐに沿った移動の邪魔にならないように加熱加圧ローラ４２，４４に導入されるようにしている。

このような構成とすることによって、キャリアテープ２０の表面側から与える加熱量、または裏面側から与える加熱量を、加熱加圧ローラ４２，４４の上流側および下流側のそれぞれにおいて制御することができる。したがって、第１乃至第４の実施の形態で説明したような加熱加圧ローラ４２，４４の上流側または下流側の何れか一方でのみ加熱量を制御する場合に対して、加熱量の制御範囲を２倍にすることが可能となる。

（第６の実施の形態）
本発明の第６の実施の形態を図８を用いて説明する。

図８は、第６の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

本実施の形態に係るラミネート装置は、第１乃至第５の実施の形態に係るラミネート装置の変形例である。したがって、以下では、異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、加熱加圧ローラ４２の代わりに、それよりも径の小さい複数の加熱加圧ローラ４７（＃１〜＃４）を備えている。これら各加熱加圧ローラ４７（＃１〜＃４）も加熱加圧ローラ４２と同様に加圧部４８によってキャリアテープ２０に印加する圧力が制御されるようにしているが、ここでは加圧部４８の記載を省略している。

各加熱加圧ローラ４７（＃１〜＃４）は、キャリアテープ２０、場合によってはその表面がレジスト５２で覆われたキャリアテープ２０に対して、それぞれ独立して熱量および圧力を加えることができるようにしている。

このような構成により、ある加熱加圧ローラ４７では、加熱はするものの、加圧はしないようにすることによって、加熱時間の方を長くするようなことができる。逆に、加圧はするものの、加熱はしないようにすることによって、加圧時間の方を長くするようなこともできる。

このような加熱量および加圧量の調整を、各加熱加圧ローラ４７（＃１〜＃４）毎に行うことによって、様々な加熱量および加圧量の組み合わせからなる条件をきめ細かく実現することが可能となる。

（第７の実施の形態）
本発明の第７の実施の形態を図９から図１１を用いて説明する。

図９は、第７の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図である。

本実施の形態に係るラミネート装置は、第１乃至第６の実施の形態に係るラミネート装置に、面積情報格納部５４と、加圧パターン演算部５６とを付加した構成としている。図９は、代表的に、図１に示す構成のラミネート装置に、面積情報格納部５４と、加圧パターン演算部５６とを付加した構成を示すものである。本実施の形態でもまた、第１乃至第６の実施の形態と異なる構成のみについて説明し、重複説明を避ける。

図２に示したように、本実施の形態におけるキャリアテープ２０の表面には、所定の配線パターンに相当する部位にレジスト２６が配置されている。図１０（ａ）は、このようにレジスト２６が配置されたキャリアテープ２０の一例を示す平面図である。すなわち、レジスト２６は、キャリアテープ２０の表面に一様に配置されるのでは無く、図１０（ａ）に示すように、不均一に配置されるのが一般的である。

このようにレジスト２６が不均一に配置されたキャリアテープ２０が、加熱加圧ローラ４２，４４において、同一圧力がかけられた状態で加熱されると、レジスト２６の配置密度が高い部位と、レジスト２６の配置密度が低い部位とでは、各々のレジスト２６が受ける圧力が異なる。例えば、図１０（ａ）におけるＥ−Ｅ線に沿った平面に配置されたレジスト２６ａの配置密度は、Ｇ−Ｇ線に沿った平面に配置されたレジスト２６ｂの配置密度よりも高い。このような場合、加熱加圧ローラ４２，４４によって、Ｅ−Ｅ線に沿った平面、およびＧ−Ｇ線に沿った平面に対してそれぞれ同一圧力がかけられながら加熱された場合、Ｅ−Ｅ線に沿った平面では、レジスト２６ａあたりに加えられる圧力が小さく、Ｇ−Ｇ線に沿った平面では、レジスト２６ｂあたりに加えられる圧力が大きい。このため、Ｅ−Ｅ線およびＧ−Ｇ線に沿った立断面図である図１０（ｂ）および図１０（ｃ）に示すように、Ｅ−Ｅ線に沿った平面に配置されたレジスト２６ａよりも、Ｇ−Ｇ線に沿った平面に配置されたレジスト２６ｂが凹んでしまう。

したがって、本実施の形態に係るラミネート装置では、レジスト２６の配置密度の大小に関わらず、加熱加圧ローラ４２，４４によって、キャリアテープ２０の長手方向に沿って各レジスト２６に対して一定の圧力が加えられるようにしている。そのため、図９に示すように、面積情報格納部５４と、加圧パターン演算部５６とを備えている。

面積情報格納部５４は、キャリアテープ２０に積層されたレジスト２６等の積層物の配置情報および面積情報を予め格納している。

そして、加圧パターン演算部５６は、面積情報格納部５４に格納された情報に基づいて、各積層物が加熱加圧ローラ４２，４４によって加えられる圧力が、キャリアテープ２０の長手方向に沿って一定になるような加圧パターンを演算し、演算結果を加圧部４８に出力する。図１１は、このような加圧パターンの一例を示す概念図である。図１１において横軸はキャリアテープ２０の長手方向位置を、縦軸は加熱加圧ローラ４２，４４によってキャリアテープ２０に加えられる加圧圧力を示す。

図１０に示すように、キャリアテープ２０には、一般に同一パターンのレジスト配置Ｓが繰り返される。図１１に示すＭ_ｎ−１は、（ｎ−１）番目に繰り返されるレジスト配置Ｓ_ｎ−１の加圧パターンを、Ｍ_ｎは、ｎ番目に繰り返されるレジスト配置Ｓ_ｎの加圧パターンを、Ｍ_ｎ＋１は、（ｎ＋１）番目に繰り返されるレジスト配置Ｓ_ｎ＋１の加圧パターンをそれぞれ示している。各レジスト配置Ｓ（・・・、Ｓ_ｎ−１、Ｓ_ｎ、Ｓ_ｎ＋１、・・・）は同一であるので、同一の加圧パターンＭ（・・・、Ｍ_ｎ−１、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋１、・・・）が繰り返される。図１１に示すような加圧パターンＭ_ｎに対応するレジスト配置Ｓ_ｎは、先頭部（先に搬送される側）にはレジスト２６は全く配置されておらず、先頭部の後に続いて搬送される中間部にはレジスト２６が最も多く配置され、中間部の後に続いて搬送される後方部には、中間部の半分程度の配置密度でレジスト２６が配置されたものとする。このようなレジスト配置Ｓに対する加圧パターンＭは、図１１に示すように、先頭部の加圧圧力ｆ_１は最も低く、中間部の加圧圧力ｆ_２は最も高く、後方部の加圧圧力ｆ_３は、加圧圧力ｆ_２の半分程度となる。

そして、加圧部４８は、図１１に示すような加圧パターンにしたがった制御命令を加熱加圧ローラ４２，４４に対して出力する。これによって、キャリアテープ２０に配置された各レジスト２６は、加熱加圧ローラ４２，４４によって、この加圧パターンにしたがって加圧されながら加熱されるようにしている。

次に、以上のように構成した本実施の形態に係るラミネート装置の作用について説明する。

すなわち、本実施の形態に係るラミネート装置は、面積情報格納部５４に、キャリアテープ２０に積層された例えばレジスト２６のような積層物の配置情報および面積情報が予め格納されている。

加圧パターン演算部５６では、面積情報格納部５４に格納された情報に基づいて、キャリアテープ２０に積層された各レジスト２６が、キャリアテープ２０の長手方向に沿って一定圧力で加圧されるような加圧パターンが演算され、加圧部４８に出力される。

そして、演算された加圧パターンに基づく制御命令が、加圧部４８から加熱加圧ローラ４２，４４へと出力される。

加熱加圧ローラ４２，４４の両ローラ間に導入されたキャリアテープ２０は、加熱加圧ローラ４２，４４によってこの加圧パターンにしたがって加圧されながら加熱される。これによって、キャリアテープ２０に配置された各レジスト２６は、加熱加圧ローラ４２，４４によって、長手方向に沿って一定な圧力で加圧されながら加熱され、もって、図１０（ｂ）および図１０（ｃ）に示すような押し込み量の不均一をもたらすことなく、各レジスト２６の押し込み量を同程度にすることが可能となる。

以上、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明したが、本発明はかかる構成に限定されない。特許請求の範囲の発明された技術的思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

例えば、上述した第１乃至第５及び第７の実施例では、一対の加熱加圧ローラ４２，４４を例に説明したが、加熱加圧ローラ４２，４４は、必ずしも一対でなく、互いに直径を異としていても良い。この場合であっても、直径の小さい加熱加圧ローラを、直径の大きな加熱加圧ローラの円周上であって、かつ、キャリアテープ２０がこの直径の大きな加熱加圧ローラに接する第１の接点から第２の接点までの間に、直径の小さな加熱加圧ローラの外周の一部を配置することによって、一対の加熱加圧ローラ４２，４４を用いた場合と同様の効果を奏することができる。また、このような直径の小さな加熱加圧ローラは、図８に示すように複数あっても構わない。

第１の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 ポリイミド等の絶縁層の表面側に銅等の導体層が積層されたキャリアテープの一例を示す立面図。 第１の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置において搬送経路変更ローラの機能を説明するための系統構成図。 第２の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 第３の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 第４の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 第５の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 第６の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 第７の実施の形態に係るラミネート方法を適用したラミネート装置の一例を示す系統構成図。 レジストが配置されたキャリアテープの一例を示す平面図および立断面図。 加圧パターンの一例を示す概念図。 基板幅方向に沿った２層キャリアテープおよび３層キャリアテープの立断面図。 フォトレジスト塗布時における基板の立断面図。 露光時における基板の立断面図。 現像時における基板の立断面図。 エッチング時における基板の立断面図。 従来技術によるラミネート装置の系統構成図。

符号の説明

Ｆ…搬送方向、Ｖ…垂直方向、Ｈ…水平方向、Ｐ…円周、Ｓ…レジスト配置、Ｍ…加圧パターン、ｆ…加圧圧力、ｒ…半径、１…真空ラミネータ、２…ヒートロール、３…巻取ローラ、４…真空槽、５…上側フィルム、６…上側巻回ロール、７…下側フィルム、８…下側巻回ロール、９…ヒートロール、１０…絶縁層、１２…導体層、１４…基材、１６…接着剤層、１８…スプロケットホール、１９…フォトレジスト、２０…キャリアテープ、２１…フォトマスク、２２…絶縁層、２３…紫外線、２４…導体層、２６，５２…レジスト、２７…エッチング液、２８…繰出ローラ、３０，３２，３３，３４，３６，５１…搬送ローラ、３８…巻取ローラ、４０，４１，４３，４５…搬送経路変更ローラ、４２，４４…加熱加圧ローラ、４６…ダンサーローラ、４８…加圧部、５０…レジスト繰出ローラ、５４…面積情報格納部、５６…加圧パターン演算部、６１…上流側通過口、６２…下流側通過口、６３…上流側真空シールロール、６４…下流側真空シールロール、６５，６７…上側ロール、６６，６８…下側ロール

Claims (18)

1. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、加熱加圧ローラのローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、
   前記被加熱加圧体が前記ローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整段階と
   を備えたラミネート方法。
2. 請求項１に記載のラミネート方法において、
   前記接触面積調整段階では、前記被加熱加圧体が前記加熱加圧ローラに搬送される加熱加圧前搬送経路、および前記加熱加圧ローラによって加熱加圧された被加熱加圧体が搬送される加熱加圧後搬送経路のうちの少なくとも何れか一方の一部を変えることによって、前記接触面積を調整するようにしたラミネート方法。
3. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、加熱加圧ローラのローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、
   前記被加熱加圧体が前記ローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整段階と、
   前記加熱加圧ローラによって前記被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位段階と
   を備えたラミネート方法。
4. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、複数の加熱加圧ローラの各ローラ面において加熱加圧する加熱加圧段階と、
   前記各加熱加圧ローラによって前記被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位段階と
   を備えたラミネート方法。
5. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して前記被加熱加圧体が、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間に導入されるようにすることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整段階と
   を備えたラミネート方法。
6. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送され、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を、前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱加圧する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間から搬送された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整段階と
   を備えたラミネート方法。
7. 搬送手段によってテープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送段階と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して前記被加熱加圧体が、互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を、前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラのローラ面の間に導入されるようにすることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第１の接触面積調整段階と、
   前記搬送手段によって搬送され、前記一対のローラ面の間から払い出された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第２の接触面積調整段階と
   を備えたラミネート方法。
8. 請求項１乃至７のうち何れか１項に記載のラミネート方法において、
   前記被加熱加圧体に積層された積層物の配置情報および面積情報を積層物情報格納データベースに予め格納する積層物情報格納段階と、
   前記積層物情報格納データベースに格納された情報に基づいて、前記各積層物が前記加熱加圧ローラによって加えられる圧力が、前記被加熱加圧体の長手方向に沿って一定になるような加圧パターンを演算する加圧パターン演算段階と、
   前記加熱加圧ローラに対して、前記加圧パターン演算段階において演算された加圧パターンにしたがって前記被加熱加圧体に圧力を加えさせ、前記加熱加圧ローラによって前記各積層物が前記長手方向に沿って一定圧力で加圧されながら加熱されるようにした加圧段階と
   を備えたラミネート方法。
9. テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、ローラ面において加熱加圧する加熱加圧ローラと、
   前記被加熱加圧体が前記ローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整手段と
   を備えたラミネート装置。
10. 請求項９に記載のラミネート装置において、
    前記接触面積調整手段は、前記被加熱加圧体が前記加熱加圧ローラに搬送される加熱加圧前搬送経路、および前記加熱加圧ローラによって加熱加圧された被加熱加圧体が搬送される加熱加圧後搬送経路のうちの少なくとも何れか一方の一部を変えることによって、前記接触面積を調整するようにしたラミネート装置。
11. テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、
    互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を、前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラと、
    前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して前記被加熱加圧体が前記一対のローラ面の間に導入されるようにすることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整手段と
    を備えたラミネート装置。
12. テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、
    互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を、前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱加圧する一対の加熱加圧ローラと、
    前記搬送手段によって搬送され、前記一対のローラ面の間から搬送された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する接触面積調整手段と
    を備えたラミネート装置。
13. テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、
    互いのローラ面が対向するように配置され、この一対のローラ面の間に導入された前記被加熱加圧体を、前記各ローラ面によって表面側および裏面側からそれぞれ加熱する一対の加熱加圧ローラと、
    前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体の搬送経路を一部変え、この変えられた搬送経路を介して前記被加熱加圧体が前記一対のローラ面の間に導入されるようにすることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第１の接触面積調整手段と、
    前記搬送手段によって搬送され、前記一対のローラ面の間から払い出された被加熱加圧体の搬送経路を一部変えることによって、前記被加熱加圧体の表面側および裏面側の前記各ローラ面と接触する接触面積をそれぞれ調整する第２の接触面積調整手段と
    を備えたラミネート装置。
14. 請求項１１乃至１３のうち何れか１項に記載のラミネート装置において、
    前記一対の加熱加圧ローラに代えて、互いに対向配置され、直径が異なる２つの加熱加圧ローラを用いるようにしたラミネート装置。
15. 請求項１４に記載のラミネート装置において、
    直径の大きな加熱加圧ローラの円周上であって、かつ、前記被加熱加圧体がこの直径の大きな加熱加圧ローラに接する第１の接点から第２の接点までの間に直径の小さな加熱加圧ローラの外周の一部を配置するようにしたラミネート装置。
16. 請求項１１乃至１５のうち何れか１項に記載のラミネート装置において、
    前記一対の加熱加圧ローラに代えて、直径が異なる少なくとも２つの加熱加圧ローラを用い、直径の大きな加熱加圧ローラの円周上であって、かつ、前記被加熱加圧体がこの直径の大きな加熱加圧ローラに接する第１の接点から第２の接点までの間に、この加熱加圧ローラよりも直径の小さな少なくとも１つの加熱加圧ローラの外周の一部を配置するようにしたラミネート装置。
17. 請求項９乃至１６のうち何れか１項に記載のラミネート装置において、
    前記被加熱加圧体に積層された積層物の配置情報および面積情報を予め格納した積層物情報格納手段と、
    前記積層物情報格納手段に格納された情報に基づいて、前記各積層物が前記加熱加圧ローラによって加えられる圧力が、前記被加熱加圧体の長手方向に沿って一定になるような加圧パターンを演算する加圧パターン演算手段と、
    前記加熱加圧ローラに対して、前記加圧パターン演算手段によって演算された加圧パターンにしたがって前記被加熱加圧体に圧力を加えさせ、前記加熱加圧ローラによって前記各積層物が前記長手方向に沿って一定圧力で加圧されながら加熱されるようにした加圧手段と
    を備えたラミネート装置。
18. テープ状の被加熱加圧体を長手方向に搬送する搬送手段と、
    前記搬送手段によって搬送されている被加熱加圧体を、ローラ面において加熱加圧する加熱加圧ローラと、
    前記被加熱加圧体が前記ローラ面に接触する接触面積を調整する接触面積調整手段と、
    前記加熱加圧ローラによって前記被加熱加圧体が加熱される加熱時間と、加圧される加圧時間とを異にする時間変位手段と
    を備えたラミネート装置。

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