JP2005217202A - トレンチ横型半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置の表面側にエミッタ領域6とトレンチゲート構造のゲート電極8を設ける。コレクタ領域12aを第2および第3のトレンチ18,19よりなる深いトレンチの底に設けることによって、耐圧を保持する部分を半導体装置の深さ方向に設ける。コレクタ領域12aからトレンチ18,19を通って半導体装置の表面にプラグ10a,10bを引き出し、コレクタ電極10とする。コレクタ電極10とこれに最も近いゲート電極8との間に、ベース領域4とドリフト領域3とのPN接合面よりも深い位置まで、導電性領域15を設け、その電位をフローティングにしてフィールドプレートとする。
【選択図】 図1
Description
図1は、実施の形態1の半導体装置を示す断面図である。図1に示すように、nチャネルIGBTは、SOI基板を用いて作製されている。SOI基板は、支持基板1の上に、酸化膜等からなる絶縁層2、p+半導体からなるコレクタ層(下側半導体層)12、n半導体からなるバッファ層(上側半導体層)11、n-半導体からなるドリフト領域(第1の半導体領域)3を、この順に積層した構成となっている。ドリフト領域3の抵抗率は、バッファ層11の抵抗率よりも高い。コレクタ層12は、金属汚染に対するゲッタリング効果を有しており、ゲッター層を兼ねている。
図34は、実施の形態2の半導体装置を示す断面図である。図34に示すように、実施の形態2は、図1に示す実施の形態1と相補的なpチャネルIGBTであり、半導体の導電型が実施の形態1と異なることを除いて、実施の形態1と同じ構成である。したがって、実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。また、製造方法については、イオン注入する際の不純物の導電型が実施の形態1と異なることを除いて、実施の形態1と同じであるので、説明を省略する。
図35は、実施の形態3の半導体装置を示す断面図である。図35に示すように、実施の形態3は、nチャネルのMOSトランジスタである。図1に示す実施の形態1と異なるのは、バッファ層11およびバッファ領域11aが設けられていないことと、コレクタ層12およびコレクタ領域12aの導電型がドリフト領域3と同じn型であることである。その他の構成は実施の形態1と同じであるので、実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。また、製造方法については、バッファ層11およびバッファ領域11aを形成するためのイオン注入工程を省略することと、コレクタ層12およびコレクタ領域12aを形成するためにイオン注入する不純物の導電型が実施の形態1と異なることを除いて、実施の形態1と同じであるので、説明を省略する。
図36は、実施の形態4の半導体装置を示す断面図である。図36に示すように、実施の形態4は、図35に示す実施の形態3と相補的なpチャネルMOSトランジスタであり、半導体の導電型が実施の形態3と異なることを除いて、実施の形態3と同じ構成である。したがって、実施の形態4では、バッファ層11およびバッファ領域11aは設けられていない。また、コレクタ層12およびコレクタ領域12aの導電型は、ドリフト領域3と同じp型である。実施の形態1および実施の形態3と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。製造方法については、バッファ層11およびバッファ領域11aを形成するためのイオン注入工程を省略することと、イオン注入する際の不純物の導電型が実施の形態1と異なる(コレクタ層12およびコレクタ領域12aを除く)ことを除いて、実施の形態1と同じであるので、説明を省略する。
図37は、実施の形態5の半導体装置を示す断面図である。図37に示すように、実施の形態5は、図1に示す実施の形態1において、ゲート構造を、トレンチゲート構造に代えて、DMOS構造にしたものである。したがって、実施の形態5には、第1のトレンチ17はない。コレクタ電極10を基板表面に引き出す構造は、実施の形態1と同じである。また、導電性領域15よりなるフィールドプレートが設けられていること、並びに絶縁層2上にp+コレクタ層12、nバッファ層11およびn-ドリフト領域3がこの順に積層されたSOI基板を用いてnチャネルIGBTが作製されていることも、実施の形態1と同じである。実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略し、以下には実施の形態1と異なる点についてのみ説明する。
図50は、実施の形態6の半導体装置を示す断面図である。図50に示すように、実施の形態6は、図37に示す実施の形態5と相補的なpチャネルIGBTであり、半導体の導電型が実施の形態5と異なることを除いて、実施の形態5と同じ構成である。したがって、実施の形態5および実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。また、製造方法については、イオン注入する際の不純物の導電型が実施の形態5と異なることを除いて、実施の形態5と同じであるので、説明を省略する。
図51は、実施の形態7の半導体装置を示す断面図である。図51に示すように、実施の形態7は、nチャネルのMOSトランジスタである。図37に示す実施の形態5と異なるのは、バッファ層11およびバッファ領域11aが設けられていないことと、コレクタ層12およびコレクタ領域12aの導電型がドリフト領域3と同じn型であることである。その他の構成は実施の形態5と同じであるので、実施の形態5および実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。また、製造方法については、バッファ層11およびバッファ領域11aを形成するためのイオン注入工程を省略することと、コレクタ層12およびコレクタ領域12aを形成するためにイオン注入する不純物の導電型が実施の形態5と異なることを除いて、実施の形態5と同じであるので、説明を省略する。
図52は、実施の形態8の半導体装置を示す断面図である。図52に示すように、実施の形態8は、図51に示す実施の形態7と相補的なpチャネルMOSトランジスタであり、半導体の導電型が実施の形態7と異なることを除いて、実施の形態7と同じ構成である。したがって、実施の形態8では、バッファ層11およびバッファ領域11aは設けられていない。また、コレクタ層12およびコレクタ領域12aの導電型は、ドリフト領域3と同じp型である。実施の形態7、実施の形態5および実施の形態1と同様の構成については同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。製造方法については、実施の形態5で説明した製造方法において、バッファ層11およびバッファ領域11aを形成するためのイオン注入工程を省略することと、イオン注入する際の不純物の導電型が実施の形態5と異なる(コレクタ層12およびコレクタ領域12aを除く)ことを除いて、実施の形態5と同じであるので、説明を省略する。
2 絶縁層
3 第1の半導体領域(ドリフト領域)
4,4a 第2の半導体領域(ベース領域)
5,5a,5b 第4の半導体領域(低抵抗領域)
6,6a 第3の半導体領域(エミッタ領域)
7,7a 第2の電極(エミッタ電極)
8,8a 第1の電極(ゲート電極)
9,9a 絶縁膜
10 第3の電極(コレクタ電極)
11 上側半導体層(バッファ層)
11a 第6の半導体領域(バッファ領域)
12 下側半導体層(コレクタ層)
12a 第5の半導体領域(コレクタ領域)
14 第2の絶縁膜
15 導電性領域
17 第1のトレンチ
18 第2のトレンチ
19 第3のトレンチ
20 第1の絶縁膜
Claims (18)
- 支持基板上に絶縁層を介して第1導電型の下側半導体層が設けられ、かつ該下側半導体層上に第2導電型の上側半導体層が設けられ、さらに該上側半導体層上に、同上側半導体層よりも抵抗率の高い第2導電型の第1の半導体領域が設けられたSOI基板と、
前記第1の半導体領域の表面層に設けられた第1導電型の第2の半導体領域と、
前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチの内面に絶縁膜を有し、かつ該絶縁膜の内側に第1の電極を有する1または2以上のトレンチゲート部と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記トレンチゲート部に接して選択的に設けられた第2導電型の第3の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第4の半導体領域と、
前記第3の半導体領域および前記第4の半導体領域に接触し、かつ前記第1の電極から絶縁された第2の電極と、
前記トレンチゲート部から離れた位置で、前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチ内に設けられた第3の電極と、
前記第3の電極と前記トレンチゲート部との間で、前記第1の半導体領域および前記第2の半導体領域にまたがり、かつ前記第3の電極よりも浅い位置まで設けられた導電性領域と、
前記導電性領域を周囲の半導体から絶縁する第1の絶縁膜と、
前記第3の電極を前記導電性領域および前記第1の半導体領域から絶縁する第2の絶縁膜と、
前記第3の電極の下端および前記SOI基板の前記下側半導体層に接続する第1導電型の第5の半導体領域と、
前記第5の半導体領域を囲み、前記SOI基板の前記上側半導体層に接続する第2導電型の第6の半導体領域と、
を備えることを特徴とするトレンチ横型半導体装置。 - 支持基板上に絶縁層を介して第1導電型の半導体層が設けられ、該半導体層上に、同半導体層よりも抵抗率の高い第1導電型の第1の半導体領域が設けられたSOI基板と、
前記第1の半導体領域の表面層に設けられた第2導電型の第2の半導体領域と、
前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチの内面に絶縁膜を有し、かつ該絶縁膜の内側に第1の電極を有する1または2以上のトレンチゲート部と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記トレンチゲート部に接して選択的に設けられた第1導電型の第3の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第4の半導体領域と、
前記第3の半導体領域および前記第4の半導体領域に接触し、かつ前記第1の電極から絶縁された第2の電極と、
前記トレンチゲート部から離れた位置で、前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチ内に設けられた第3の電極と、
前記第3の電極と前記トレンチゲート部との間で、前記第1の半導体領域および前記第2の半導体領域にまたがり、かつ前記第3の電極よりも浅い位置まで設けられた導電性領域と、
前記導電性領域を周囲の半導体から絶縁する第1の絶縁膜と、
前記第3の電極を前記導電性領域および前記第1の半導体領域から絶縁する第2の絶縁膜と、
前記第3の電極の下端および前記SOI基板の前記半導体層に接続する第1導電型の第5の半導体領域と、
を備えることを特徴とするトレンチ横型半導体装置。 - 支持基板上に絶縁層を介して第1導電型の下側半導体層が設けられ、かつ該下側半導体層上に第2導電型の上側半導体層が設けられ、さらに該上側半導体層上に、同上側半導体層よりも抵抗率の高い第2導電型の第1の半導体領域が設けられたSOI基板と、
前記第1の半導体領域の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の一部の表面上に絶縁膜を介して第1の電極を有する1または2以上のプレーナゲート部と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記第1の電極の終端に整合して選択的に設けられた第2導電型の第3の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記第1の電極の終端に整合して設けられ、かつ前記第3の半導体領域の下側に延びる第1導電型の第4の半導体領域と、
前記第3の半導体領域および前記第4の半導体領域に接触し、かつ前記第1の電極から絶縁された第2の電極と、
前記プレーナゲート部から離れた位置で、前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチ内に設けられた第3の電極と、
前記第3の電極と前記プレーナゲート部との間で、前記第1の半導体領域および前記第2の半導体領域にまたがり、かつ前記第3の電極よりも浅い位置まで設けられた導電性領域と、
前記導電性領域を周囲の半導体から絶縁する第1の絶縁膜と、
前記第3の電極を前記導電性領域および前記第1の半導体領域から絶縁する第2の絶縁膜と、
前記第3の電極の下端および前記SOI基板の前記下側半導体層に接続する第1導電型の第5の半導体領域と、
前記第5の半導体領域を囲み、前記SOI基板の前記上側半導体層に接続する第2導電型の第6の半導体領域と、
を備えることを特徴とするトレンチ横型半導体装置。 - 支持基板上に絶縁層を介して第1導電型の半導体層が設けられ、該半導体層上に、同半導体層よりも抵抗率の高い第1導電型の第1の半導体領域が設けられたSOI基板と、
前記第1の半導体領域の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の一部の表面上に絶縁膜を介して第1の電極を有する1または2以上のプレーナゲート部と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記第1の電極の終端に整合して選択的に設けられた第1導電型の第3の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の表面層に、前記第1の電極の終端に整合して設けられ、かつ前記第3の半導体領域の下側に延びる第2導電型の第4の半導体領域と、
前記第3の半導体領域および前記第4の半導体領域に接触し、かつ前記第1の電極から絶縁された第2の電極と、
前記プレーナゲート部から離れた位置で、前記SOI基板の表面から前記第2の半導体領域を貫通して前記第1の半導体領域に達するトレンチ内に設けられた第3の電極と、
前記第3の電極と前記プレーナゲート部との間で、前記第1の半導体領域および前記第2の半導体領域にまたがり、かつ前記第3の電極よりも浅い位置まで設けられた導電性領域と、
前記導電性領域を周囲の半導体から絶縁する第1の絶縁膜と、
前記第3の電極を前記導電性領域および前記第1の半導体領域から絶縁する第2の絶縁膜と、
前記第3の電極の下端および前記SOI基板の前記半導体層に接続する第1導電型の第5の半導体領域と、
を備えることを特徴とするトレンチ横型半導体装置。 - 前記第3の電極と前記第5の半導体領域との接触面積は、内部に前記第3の電極を設けるために前記SOI基板に形成したトレンチ内に絶縁膜を充填し、該絶縁膜の中央部分を自己整合エッチングにより除去して前記第2の絶縁膜を形成した際に、当該トレンチ底に露出した半導体領域の面積で決まることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のトレンチ横型半導体装置。
- 前記第3の電極と前記ゲート部との間に設けられた前記導電性領域は、ポリシリコンでできていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のトレンチ横型半導体装置。
- 上記請求項1に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
前記SOI基板の表面から前記第1の半導体領域に達するトレンチを形成した後、該トレンチ内に絶縁膜を堆積し、該絶縁膜の内側に導電膜を堆積し、該導電膜および前記絶縁膜を、同導電膜の上端が前記SOI基板の表面よりも低くなるまで異方性エッチングによる自己整合エッチングをおこなって、前記第1の絶縁膜および前記導電性領域を形成することを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 前記第1の絶縁膜および前記導電性領域を形成した後、同導電性領域の内側に同導電性領域を被覆する絶縁膜を自己整合エッチングにより形成し、該絶縁膜をマスクとしてトレンチ底にさらに深いトレンチを形成することを特徴とする請求項7に記載のトレンチ横型半導体装置の製造方法。
- 上記請求項2に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
前記SOI基板の表面から前記第1の半導体領域に達するトレンチを形成した後、該トレンチ内に絶縁膜を堆積し、該絶縁膜の内側に導電膜を堆積し、該導電膜および前記絶縁膜を、同導電膜の上端が前記SOI基板の表面よりも低くなるまで異方性エッチングによる自己整合エッチングをおこなって、前記第2の絶縁膜および前記導電性領域を形成することを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 前記第1の絶縁膜および前記導電性領域を形成した後、同導電性領域の内側に同導電性領域を被覆する絶縁膜を自己整合エッチングにより形成し、該絶縁膜をマスクとしてトレンチ底にさらに深いトレンチを形成することを特徴とする請求項9に記載のトレンチ横型半導体装置の製造方法。
- 上記請求項3に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
前記SOI基板の表面から前記第1の半導体領域に達するトレンチを形成した後、該トレンチ内に絶縁膜を堆積し、該絶縁膜の内側に導電膜を堆積し、該導電膜および前記絶縁膜を、同導電膜の上端が前記SOI基板の表面よりも低くなるまで異方性エッチングによる自己整合エッチングをおこなって、前記第2の絶縁膜および前記導電性領域を形成することを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 前記第1の絶縁膜および前記導電性領域を形成した後、同導電性領域の内側に同導電性領域を被覆する絶縁膜を自己整合エッチングにより形成し、該絶縁膜をマスクとしてトレンチ底にさらに深いトレンチを形成することを特徴とする請求項11に記載のトレンチ横型半導体装置の製造方法。
- 上記請求項4に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
前記SOI基板の表面から前記第1の半導体領域に達するトレンチを形成した後、該トレンチ内に絶縁膜を堆積し、該絶縁膜の内側に導電膜を堆積し、該導電膜および前記絶縁膜を、同導電膜の上端が前記SOI基板の表面よりも低くなるまで異方性エッチングによる自己整合エッチングをおこなって、前記第2の絶縁膜および前記導電性領域を形成することを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 前記第1の絶縁膜および前記導電性領域を形成した後、同導電性領域の内側に同導電性領域を被覆する絶縁膜を自己整合エッチングにより形成し、該絶縁膜をマスクとしてトレンチ底にさらに深いトレンチを形成することを特徴とする請求項13に記載のトレンチ横型半導体装置の製造方法。
- 上記請求項1に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
第2導電型の半導体ウェハに第2導電型の不純物を注入して、該半導体ウェハの表面層に同半導体ウェハよりも抵抗率の低い第2導電型の前記上側半導体層を形成した後、該上側半導体層に第1導電型の不純物を注入して、該上側半導体層の表面層に第1導電型の前記下側半導体層を形成することによって、第1のウェハを作製する工程と、
支持ウェハの表面に絶縁層を形成することにより第2のウェハを作製する工程と、
前記第2のウェハの前記絶縁層の表面に、前記第1のウェハの前記下側半導体層の表面を張り合わせて、前記第1のウェハと前記第2のウェハを一体化する工程と、
前記第1のウェハの裏面を研磨する工程と、
を含むことを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 上記請求項2に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
第1導電型の半導体ウェハに第1導電型の不純物を注入して、該半導体ウェハの表面層に同半導体ウェハよりも抵抗率の低い第1導電型の前記半導体層を形成することによって、第1のウェハを作製する工程と、
支持ウェハの表面に絶縁層を形成することにより第2のウェハを作製する工程と、
前記第2のウェハの前記絶縁層の表面に、前記第1のウェハの前記半導体層の表面を張り合わせて、前記第1のウェハと前記第2のウェハを一体化する工程と、
前記第1のウェハの裏面を研磨する工程と、
を含むことを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 上記請求項3に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
第2導電型の半導体ウェハに第2導電型の不純物を注入して、該半導体ウェハの表面層に同半導体ウェハよりも抵抗率の低い第2導電型の前記上側半導体層を形成した後、該上側半導体層に第1導電型の不純物を注入して、該上側半導体層の表面層に第1導電型の前記下側半導体層を形成することによって、第1のウェハを作製する工程と、
支持ウェハの表面に絶縁層を形成することにより第2のウェハを作製する工程と、
前記第2のウェハの前記絶縁層の表面に、前記第1のウェハの前記下側半導体層の表面を張り合わせて、前記第1のウェハと前記第2のウェハを一体化する工程と、
前記第1のウェハの裏面を研磨する工程と、
を含むことを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。 - 上記請求項4に記載されたトレンチ横型半導体装置を製造するにあたって、
第1導電型の半導体ウェハに第1導電型の不純物を注入して、該半導体ウェハの表面層に同半導体ウェハよりも抵抗率の低い第1導電型の前記半導体層を形成することによって、第1のウェハを作製する工程と、
支持ウェハの表面に絶縁層を形成することにより第2のウェハを作製する工程と、
前記第2のウェハの前記絶縁層の表面に、前記第1のウェハの前記半導体層の表面を張り合わせて、前記第1のウェハと前記第2のウェハを一体化する工程と、
前記第1のウェハの裏面を研磨する工程と、
を含むことを特徴とするトレンチ横型半導体装置の製造方法。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100783278B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2007-12-06 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 소자 및 그 제조방법 |
JP2013135213A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 半導体素子及びその製造方法 |
US9324837B2 (en) | 2011-04-20 | 2016-04-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Semiconductor device with vertical gate and method of manufacturing the same |
WO2016092895A1 (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-16 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
CN106920842A (zh) * | 2017-05-11 | 2017-07-04 | 电子科技大学 | 一种具有载流子存储层的槽型soi ligbt |
CN107342321A (zh) * | 2017-08-31 | 2017-11-10 | 电子科技大学 | 一种具有可控集电极槽的soi ligbt |
CN107482058A (zh) * | 2017-09-25 | 2017-12-15 | 电子科技大学 | 一种具有载流子存储层的薄soi ligbt器件 |
WO2018179352A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法および記録媒体 |
CN117334579A (zh) * | 2023-10-25 | 2024-01-02 | 中晶新源(上海)半导体有限公司 | 一种屏蔽栅功率半导体器件及其制作方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012020498A1 (ja) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-01-29 JP JP2004022221A patent/JP4232645B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100783278B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2007-12-06 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 소자 및 그 제조방법 |
US9853126B2 (en) | 2011-04-20 | 2017-12-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Semiconductor device with vertical gate and method of manufacturing the same |
US9324837B2 (en) | 2011-04-20 | 2016-04-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Semiconductor device with vertical gate and method of manufacturing the same |
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JP2013135213A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 半導体素子及びその製造方法 |
WO2016092895A1 (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-16 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2016111287A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
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