JP2005205067A - 除染装置、及び除染方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 除染時間を短縮化でき、除染効率が向上する除染装置、及び除染方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
供給口２０と排出口２１とがそれぞれ対面位置に形成され、室内で除染対象物１２を除染する除染用密閉室２を具備する除染装置１にあって、除染対象物１２の移送経路に係る前段部に、除染ガス放出口７と低湿ガス放出口７を設けて除染領域αを形成し、後段部にホットエアーが放出されるルーバー４６ａ，４６ｂを設けてエアレーション領域βを形成した。そして、除染対象物１２を、その移送過程の前半で除染を実行し、後半でエアレーションを実行する構成とした。
【選択図】図２

Description

本発明は、除染用ガスが投入される密閉室を備え、当該密閉室内に供給された除染対象物を除染する除染装置、及び除染方法に関する。

密閉室内にある除染対象物を除染する方法としては、ガス発生装置により除染用ガスとしての過酸化水素ガスを発生させ、この過酸化水素ガスを密閉室内に投入して除染対象物に接触させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

ここで、一般的な除染方法は、一度に複数の除染対象物を除染装置の密閉室に収納し、当該密閉室に過酸化水素ガスを投入してこれらの除染対象物を除染した後、当該密閉室から過酸化水素ガスを除去するエアレーションを実行するというバッチ処理が一般的であった。

特公昭６１−４５４３号公報

しかしながら、上述の構成であると、室内全体に過酸化水素ガスを投入し、かつ室内全体をエアレーションする必要があり、効率が悪く、除染時間が長くなる問題があった。したがって、除染時間を短縮され、一層効率の良い除染装置が求められていた。

そこで本発明は、除染時間を短縮化でき、除染効率が向上する除染装置、及び除染方法を提供することを目的とする。

本発明は、室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染対象物を室内から室外へ排出するための排出口とが夫々形成され、供給口及び排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室と、除染用密閉室内に設置され、供給口から供給された除染対象物を、所定移送経路に従って排出口へ移送する移送手段と、除染用ガスを発生させ、移送経路の前段部で移送されている除染対象物に対して除染用ガスを放出する除染用ガス供給手段と、放出された除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、除染対象物を除染する凝縮制御手段と、移送経路の後段部で移送されている除染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去する凝縮液層除去手段とを備えたことを特徴とする除染装置である。

かかる構成にあっては、除染対象物を供給口から排出口に移送する過程で、除染対象物の外表面に凝縮液層を形成して除染を実行し、除染後、その凝縮液層を除去することによりエアレーションを実行する構成である。したがって、かかる構成とすることにより、従来構成のように除染用ガスを室内全域に浸透させてその後室内全域から除染用ガスを除去するという作業がなくなり、除染時間が短縮されることとなる。また、凝縮液層を形成して除染する構成とすることにより、除染効果が向上すると共に、除染対象物の除染レベルを適正に把握しながら除染することができる。なお、上述の除染とは、化学Ｔ期除染、無菌、殺菌、滅菌等が含まれる。

また、除染用ガス供給手段が、除染用ガスを放出する放出口を備えると共に、該放出口が、その開口面が除染対象物外表面と対向するように配設されたものである構成が提案される。

ここで、本発明にあっては、除染用ガスは除染用密閉室全域に浸透させる必要はなく、除染対象物外表面近傍に放出すればよい。したがって、かかる構成とすることにより、除染用ガスを、室内に拡散させることなく除染対象物に向けて放出することが可能となり、除染用ガスを無駄にすることなく、除染対象物外表面に凝縮液層を効率的に形成することが可能となる。

また、除染用ガス供給手段が、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させると共に、除染用密閉室内で飽和しない不飽和ガスを発生させ、当該不飽和ガスを除染対象物に放出する不飽和ガス供給手段を備えた除染装置であって、除染用ガス供給手段と不飽和ガス供給手段とが、ガスを放出する放出口を夫々複数備え、かつ除染用ガス供給手段の放出口と不飽和ガス投入手段の放出口とが、移送経路の前段部で、移送経路に沿って交互に形成されてなる構成が提案される。

かかる構成にあって、除染対象物が移送経路に沿って移送されると、上記放出口の配置関係により、除染用ガスと低湿ガスとが除染対象物に対して交互に放出されることとなる。ここで、個別的にみると、除染用ガスが除染対象物に対して放出されれば、除染対象物外表面に凝縮液層が形成され、低湿ガスが放出されれば、その凝縮液層が蒸発されることとなる。したがって、除染対象物が移送される過程で、外表面では凝縮液層ｍの形成と蒸発とが交互に繰返し生ずることとなる。ここで、形成された凝縮液層の溶質（除染成分）濃度が高いほど、除染効果が高いことがわかっている。そして本発明にかかる除染用ガスは、水より沸点が高いため、凝縮過程の初期段階では、高い溶質濃度（全水溶液量に対する溶解した除染用ガスの重量，体積，モル数の割合）の凝縮液層が形成される。そしてその後、溶質濃度は低下し始めるが、本発明にあっては、除染対象物が移送されて、一旦形成された凝縮液層が蒸発されるため、溶質濃度の低下を阻止することが可能となる。これは、凝縮液層が蒸発すると、凝縮液層に含まれる水が先に気化し、これに対し除染用ガスの凝縮液が凝縮液層に残留し、全体として凝縮液層の溶質濃度が高くなるためである。ここで、一旦形成された凝縮液層が全部蒸発されれば、濃度低下は完全に断たれ、一部のみ蒸発されれば、高濃度の凝縮液層が一部残留することとなる。そしてさらに、除染対象物が移動されることにより、新たに除染用ガスが放出されて、凝縮液層が再形成されることとなる。これにより、再度、除染効果の高い高濃度の凝縮液層が形成されることとなり、凝縮液層の溶質濃度が低下することを防止できると共に、高い溶質濃度の凝縮液層を形成することができる。

さらに、放出口が、所定等間隔で形成されると共に、移送手段が、移送経路上で、複数の除染対象物を前記放出口の間隔とほぼ同一間隔で移送する構成が提案される。

かかる構成とすることにより、移送経路上で複数の除染対象物を同時平行して、凝縮液層の形成及びその蒸発を実行することが可能となる。これにより、単位時間当りの除染可能な除染対象物数が増加することとなり、除染効率が向上することとなる。

ここで、除染対象物としては、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなるものが提案され得る。

かかる構成の除染対象物は、次のような特質を有している。すなわち、過酸化水素ガス等の除染用ガスを前記除染対象物に接触させると、包装材の透過性が液体に対して低く気体に対して高い場合には過酸化水素ガスが包装材に浸透し、ついには内部の資材にまで達してしまう場合がある。そして、資材に過酸化水素ガスが接触してしまうと、資材が変質したり、腐食されたりする問題がある。このような状況の下、本発明を上記構成の除染対象物に適用することにより、ガスを接触させる従来構成に比して除染成分が包装材に浸透し難くなる。したがって、除染成分により内部の資材が変質したりすることがなくなる。

なお、除染用ガス供給手段が、過酸化水素ガスを供給する構成が好適である。これは過酸化水素ガスが、１０^-4から１０^-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力を備え、かつ安価で入手し易いことが挙げられる。また、この過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少ない点も理由の一つとして挙げられる。また、除染用密閉室の密閉構造が比較的簡易となると共に、除染効果も安定する。また、除染対象物の大きさも制限されにくい。

また本発明は、室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染対象物を室内から室外へ排出するための排出口とが夫々形成された、供給口及び排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室に、除染用ガスを投入し、当該除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、供給口から供給された除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、その後、当該凝縮液層を除去して、除染対象物を排出口から排出する除染方法において、除染対象物を移送する過程のなかで、その前半で、除染対象物外表面に凝縮液層を形成し、後半で、既に形成された凝縮液層を除去することを特徴とする除染方法である。

かかる構成とすることにより、従来構成のように除染用ガスを室内全域に浸透させてその後室内全域から除染用ガスを除去するという作業がなくなり、除染時間が短縮されることとなる。

また、水より沸点の高い除染用ガスを除染用密閉室内に投入すると共に、除染対象物を移送する過程のなかで、その前半で、除染対象物の外表面に一旦形成した凝縮液層を所定時間経過後に一部、又は全部蒸発させる蒸発工程と、蒸発工程実行後、再度除染対象物の外表面に凝縮液層を形成する凝縮工程とを、交互に繰返し実行する構成が提案される。

かかる構成とすることにより、凝縮液層の溶質濃度が低下することを防止できると共に、高い溶質濃度の凝縮液層を形成することができる。

また、除染用密閉室内と外界とが連通するときは、除染用密閉室の内圧を外気圧に比べて高圧とする構成が提案され得る。

かかる構成とすることにより、除染対象物を外部から室内に供給する際に、外界の汚染物質が室内に侵入することを防ぐことが可能となる。

なお、上記本発明にかかる除染方法にあっても、除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなる構成が提案される。

かかる構成とすることにより、除染成分が包装材に浸透し難くなるため、除染成分により内部の資材が変質したりすることがなくなる。

なお、本発明にかかる除染方法にあっても、除染用ガスとしては過酸化水素ガスが好適である。その理由は上述のとおりである。

本発明の除染装置は、移送経路の前段部で移送されている除染対象物に対して除染用ガスを放出して凝縮液層を形成し、移送経路の後段部で移送されている除染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去する除染装置としたため、従来構成のように除染用ガスを室内全域に浸透させてその後室内全域から除染用ガスを除去するという作業がなくなり、除染時間が飛躍的に短縮されることとなる。また、凝縮液層を形成して除染する構成であるため、除染効果が向上すると共に、除染対象物の除染レベルを適正に把握しながら除染することができる効果がある。

また、除染用ガスを放出する放出口の開口面を除染対象物外表面に対向させた構成とした場合は、除染用ガスを、室内に拡散させることなく除染対象物に向けて放出することが可能となり、除染用ガスを無駄にすることなく、除染対象物外表面に凝縮液層を効率的に形成できる効果がある。

また、水より沸点の高い除染用ガスを放出する放出口と、不飽和ガスを放出する放出口とを、移送経路の前段部で、移送経路に沿って交互に形成した場合は、除染対象物が移送されると、除染用ガスと低湿ガスとが除染対象物に対して交互に放出されることとなり、除染対象物の外表面で、凝縮液層の形成と蒸発とを交互に繰返し生じさせることが可能となる。これにより、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を形成することができると共に、凝縮液層の溶質濃度が低下することを防止することができる優れた効果が生まれる。

さらに、放出口が、所定等間隔で形成し、移送経路上で、複数の除染対象物を放出口の間隔とほぼ同一間隔で移送する構成とした場合は、移送経路上で複数の除染対象物を同時平行して、凝縮液層の形成及びその蒸発を実行することが可能となり、単位時間当りの除染可能な除染対象物数が増加し、除染効率が飛躍的に向上する優れた利点がある。

また、除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなる構成とした場合は、除染成分が包装材に浸透し難くなり、除染成分により内部の資材が変質したりすることがなくなる効果がある。

また、過酸化水素ガスにより除染する構成とした場合は、強力な除染が可能であると共に、安価に入手できるため、コストを抑えることができる効果がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。また、除染用密閉室の密閉構造が比較的簡易とすることができると共に、除染効果が安定する効果もある。また、除染対象物の大きさが制限されにくい効果もある。

また本発明の除染方法は、除染対象物を移送する過程のなかで、その前半で、除染対象物外表面に凝縮液層を形成し、後半で、既に形成された凝縮液層を除去する構成としたため、従来構成のように除染用ガスを室内全域に浸透させてその後室内全域から除染用ガスを除去する必要がなくなり、除染時間が短縮される効果がある。

また、水より沸点の高い除染用ガスを、除染対象物を移送する過程のなかで、蒸発工程と凝縮工程とを交互に繰返し実行した場合は、凝縮液層の溶質濃度が低下することを防止できると共に、高い溶質濃度の凝縮液層を形成することができる効果がある。

また、除染用密閉室内と外界とが連通するときに、除染用密閉室の内圧を外気圧に比べて高圧とする構成とした場合は、除染対象物を外部から室内に供給する際に、外界の汚染物質が室内に侵入することを防ぐことができる利点がある。

なお、除染対象物を、資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなる構成とした場合は、除染成分が包装材に浸透し難くなるため、除染成分により内部の資材が変質したりすることがなくなる効果がある。

さらにまた、除染用ガスとして過酸化水素ガスを用いた場合は、強力な除染が可能となると共に、安価に入手できるため、コストを抑えることができる効果もある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。また、除染用密閉室の密閉構造が比較的簡易とすることができると共に、除染効果が安定する効果もある。また、除染対象物の大きさが制限されにくい効果もある。

以下に、本発明にかかる除染装置１について、添付図面に従って説明する。

この除染装置１は、図１に示されるように、除染用密閉室２を備えている。また、この除染用密閉室２の壁面には、供給口２０と排出口２１とがそれぞれ対面位置に形成されている。そして、供給口２０から除染対象物１２を除染用密閉室２内に供給し、除染用密閉室２内で除染対象物１２を１０^-4〜１０^-12のＳＡＬ（無菌性保証水準）で除染した後、除染済みの除染対象物１２を排出口２１から排出する。

さらに、除染装置１には、排出口２１を介して室内相互が連通したアイソレータ３が連設されている。そして、除染用密閉室２で除染対象物１２を除染した後、この除染対象物１２を外部に取出すことなく、直接アイソレータ３に移送し、アイソレータ３内で除染対象物１２について壁面に形成された作業グローブ３２を介して所定の作業を行うことを可能としている。

ここで、除染対象物１２は、図４に示されるように、除染済みの資材１０が無菌状態を維持したまま包装材１１により包装されてなるものであって、包装材１１外表面が除染用密閉室２で除染され、除染後にアイソレータ３にて包装材１１が除去されて資材１０が無菌状態を維持したまま取り出される。なお、この資材１０としては、例えばプレフィルドシリンジに用いられる除染済みのシリンジ外筒等が挙げられる。

次に、除染用密閉室２について、図２に従って説明する。
前記供給口２０には、上下動することにより外界と室内とを遮断する供給口扉２２が配設されている。一方、排出口２１にも、供給口扉２２と同じ機構の排出口扉２３が配設されている。なお、除染用密閉室２の外壁と、各扉２２，２３の内側面との間にはパッキン（図示省略）が設けられ、両扉２２，２３を遮蔽した場合には、室内と外界とが気密状に遮断される構成となっている。この扉機構は、公知技術が好適に採用される。

また、除染用密閉室２の室内中央には、複数の移送用ローラ２５を具備する移送装置２４が設置されている。さらに詳述すると、円柱状の移送用ローラ２５が、その長手方向と当該密閉室２の奥行き方向とが直交するように複数列設され、供給口２０と排出口２１とを結ぶ移送経路を構成している。また、移送用ローラ２５の配設位置は、前記供給口２０の下縁と排出口２１の下縁とを結ぶ仮想線とほぼ同じ高さに設定され、供給口２０から排出口２１にかけて所定間隔で回転制御可能に軸支されている。これにより、供給口２０から供給された除染対象物１２が、移送用ローラ２５上を移動し、排出口２１まで容易に移送可能となる。なお、この移送装置２４により、本発明にかかる移送手段が構成される。

また、除染用密閉室２には、ガス発生装置４が備えられている。このガス発生装置４は、蒸発装置４０、液体タンク４２、及び送風機４１を具備している。前記液体タンク４２には、水より沸点の高い過酸化水素ガスが溶解した過酸化水素水が入っている。そして、かかる過酸化水素水を重力下で蒸発装置４０の加熱面（図示省略）に滴下し、これにより過酸化水素ガスを発生させ、この過酸化水素ガスを送風機４１により、除染用密閉室２内に通ずる除染ガス導入管６を介して過酸化水素ガスを除染用密閉室２内に送り込む。なお、前記蒸発装置４０は、フラッシュ蒸発（いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる構成であって、公知技術が採用される。また、ガス発生装置４は、除染用密閉室２と一体的に取付けても良いし、別体としても良い。

また、除染用密閉室２内には、ガス発生装置４が発生させた過酸化水素ガスを室内に放出する除染ガス放出管６ａ，６ｂが、前記移送経路に沿って配設されている。この除染ガス放出管６ａ，６ｂは、前記除染ガス導入管６と連通している。ここで、除染ガス放出管６ａ，６ｂは、室内の上方位置に配設された第一除染ガス放出管６ａと、室内下方位置に配設された第二除染ガス放出管６ｂとで構成されている。

また、両除染ガス放出管６ａ，６ｂは、複数の除染ガス放出口７が長手方向に沿って複数開口し、この放出口７の開口面が除染対象物１２外表面（上面及び下面）に対向するようにそれぞれ配置されている。これにより、除染ガス導入管６から供給される過酸化水素ガスが、除染対象物１２に向けて放出される。

ここで、第一、第二除染ガス放出管６ａ，６ｂに加え、除染用密閉室２内の側方位置にも除染ガス放出管を配設し、上下左右方向から過酸化水素ガスを放出し得る構成としても良い。なお、上述のガス発生装置４、除染ガス導入管６、及び除染ガス放出管６ａ，６ｂにより、本発明にかかる除染用ガス供給手段が構成される。

さらに、除染用密閉室２内には、外部に設けられた低湿ガス供給装置５から低湿ガスが投入される。また、低湿ガス放出管８ａ，８ｂが除染用密閉室２内に配設されており、複数の低湿ガス放出口９が室内で開口している。そして、当該放出管８ａ，８ｂ、及び低湿ガス供給装置５とにそれぞれ連通する低湿ガス導入管８を通じて、低湿ガスが室内に供給され、除染対象物１２に放出されることとなる。なお、かかる低湿ガス放出管８ａ，８ｂも、室内の上方位置に配設された第一低湿ガス放出管８ａと、室内下方位置に配設された第二低湿ガス放出管８ｂとで構成され、除染対象物１２の上下面に低湿ガスが放出されるようにしている。また、室内の側方位置にも低湿ガス放出管を配設し、上下左右方向から低湿ガスを放出し得る構成としても良い。

ここで、上述の低湿ガスは、除染用密閉室２内で飽和しない不飽和ガスであって、室内の湿度より低い湿度に設定されている。なお、この低湿ガス供給装置５、低湿ガス放出管８ａ，８ｂ、及び低湿ガス導入管８により、本発明にかかる不飽和ガス供給手段が構成される。

ここで、過酸化水素ガスを放出する除染ガス放出口７と、低湿ガスを放出する低湿ガス放出口９とは、移送経路に沿って交互に形成されている。さらに、その間隔を所定長さで等間隔としている。

次に、本発明の要部について説明する。
これまでに述べた除染ガス放出管６ａ，６ｂ、及び低湿ガス放出管８ａ，８ｂは、除染用密閉室２内の供給口２０側寄りに配設されており、室内に形成された移送経路のうち、その前段部（供給口２０側寄りの空間）を除染領域αとしている。これに対し、移送経路の後段部（排出口２１側寄りの空間）を、後述するエアレーション領域βとしている。以下に、エアレーション領域βについて説明する。

エアレーション領域βには、移送ローラ２５を挟んで上下位置に、移送ローラ２５上を移動する除染対象物１２外表面にホットエアーを放出する第一ルーバー４６ａ、及び第二ルーバー４６ｂがそれぞれ配設されている。ここで、第一ルーバー４６ａは、室内の上方位置に配設され除染対象物１２の上面にホットエアーを放出し、一方、第二ルーバー４６ｂは下方位置に配設され除染対象物１２の下面にホットエアーを放出する。また、かかるホットエアーは、除染用密閉室２外に設けられたホットエアー供給装置４５からホットエアー導入管４５ａを介して供給される。なお、前記ホットエアー供給装置４５、ホットエアー導入管４５ａ、及びルーバー４６ａ，４６ｂにより、本発明にかかる凝縮液層除去手段が構成される。

このように、本発明にかかる除染装置１は、一つの空間（除染用密閉室２）を前後に二分し、前段部の除染領域αと後段部のエアレーション領域βとを形成したことを特徴としている。

その他、除染用密閉室２は、ガス発生装置４、低湿ガス供給装置５、及びホットエアー供給装置４５と電気的に接続された中央制御装置ＣＰＵを具備する制御部２８を備え、各装置等と所定のデータをやり取りし、各装置４，５，４５を駆動制御するようにしている。この中央制御装置ＣＰＵの制御内容については、後述する。

また、除染用密閉室２の温度、湿度を検出する温度検出装置３８、湿度検出装置３９を備え、それぞれ前記中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されて、検出データが中央制御装置ＣＰＵに送信される構成となっている。なお、本実施形態例にかかる制御部２８、ガス発生装置４、低湿ガス供給装置５、温度検出装置３８、及び湿度検出装置３９により、本発明にかかる凝縮制御手段が構成される。

さらに、除染装置１は、中央制御装置ＣＰＵに接続された、除染用密閉室２内の内圧を調節する内圧調節装置４０も備えている。かかる構成により、例えば、所定時に除染用密閉室２内の内圧を外界に対して高圧とすることが可能となる。

なお、除染用密閉室２の壁面には、ガラス材等からなる密閉室用透明窓１３（図１参照）が形成されており、外部から室内内部を視認可能としている。

次に、本発明にかかる除染方法について説明する。
まず、供給口扉２２、及び排出口扉２３を遮蔽して、除染用密閉室２内と外界とを気密状に遮断する。そして次に、低湿ガス供給装置５を駆動して低湿ガスを室内に放出し、室内の湿度調整を行う。このように、事前に室内の湿度調整を行うのは、当該室内で過酸化水素ガス濃度を高め、かつその濃度を安定させるためである。そして、除染用密閉室２の湿度が、所定湿度となると、低湿ガスの投入を終了する。

一方、除染対象物１２は、除染用密閉室２の供給口２０手前側に設置された集積台３６（図１参照）上に集積される。そして、供給口扉２２を開放し、集積された除染対象物１２を、包装材１１で包装されたまま、供給口２０から室内に供給する。また、供給口扉２２開放時には、前記内圧調整装置４０を駆動制御して、除染用密閉室２内の内圧を外気圧に比して高圧とすることとしている。これにより、供給時に供給口２０から何らかの異物が侵入することを防止できる。

除染対象物１２を室内に供給すると、供給口扉２２を遮閉し、次に室内に過酸化水素ガスを投入開始する。これと共に、移送装置２４が駆動開始し、所定速度で除染対象物１２を移送経路に従って移送開始する。なお、供給口扉２２、排出口扉２３、及び移送装置２４も中央制御装置ＣＰＵに接続されており（図示省略）、制御部２８により統括的に駆動制御されている。

ここで、中央制御装置ＣＰＵは、予め定められた運転プログラムに従ってガス発生装置４、低湿ガス供給装置５、温度検出装置３８、及び湿度検出装置３９を制御し、所定量の過酸化水素ガスを投入して過酸化水素ガスの凝縮液層ｍ（図４参照）を包装材１１外表面で薄膜状に形成するようにする。さらに、この凝縮液層ｍを安定して保持するようにする。これにより、包装材１１外表面が除染されることとなる。このように液体である凝縮液を接触させて除染する構成とすると、ガスを接触させる従来構成に比して除染成分が包装材１１に浸透し難くなり、除染成分によって内部の資材１０が変質したりすることがない。

ここで、除染対象物１２は、移送装置２４により移送経路に沿って移動すると、上記放出口７，９の配置関係により、除染用ガスと、低湿ガスとが交互に放出されることとなる。ここで、個別的にみると、除染用ガスが除染対象物１２に対して放出されれば、除染対象物１２外表面に凝縮液層ｍが形成され、低湿ガスが放出されれば、その凝縮液層ｍが蒸発されることとなる。したがって、移送経路の前段部（すなわち、除染領域α）で移送されている除染対象物１２の外表面では、凝縮液層ｍの形成と蒸発とが交互に繰返し生ずることとなる。以下、さらに詳述する。

除染対象物１２の移送過程にあって、上下に形成された除染ガス放出口７，７に挟まれた領域に除染対象物１２が位置すると、除染対象物１２の外表面に過酸化水素ガスが放出され，凝縮液層ｍが形成される。

さらに除染対象物１２が移動して、上下に形成された、前記除染ガス放出口７，７に隣接する低湿ガス放出口９，９に挟まれた領域に除染対象物１２が位置すると、除染対象物１２の外表面に低湿ガスが放出され、一旦形成された凝縮液層ｍが一部蒸発することとなる（蒸発工程）。このとき、過酸化水素の沸点は１５０℃であって水の沸点よりも高く、凝縮液層ｍに含まれる水の方が過酸化水素水より気化しやすいため、凝縮液層ｍの過酸化水素濃度は高くなる。このように一旦形成した凝縮液層ｍを短い時間で蒸発させることにより、凝縮液層ｍの凝縮液がガス化して内部の資材１０を変質させることを防止できる。

さらに、除染対象物１２が移動して次の除染ガス放出口７，７に挟まれた領域に位置すると、包装材１１外表面に凝縮液層ｍが再形成される（再凝縮工程）。そして、再度除染が実行されることとなる。

このように、蒸発工程と再凝縮工程が繰返し実行されると、除染成分の内部への浸透を防止し、包装材１１内部の資材１０を変質等させることなく、高濃度の凝縮液層ｍを長時間保持して高い除染効果を得ることができる。

次に、除染領域αを通過した除染対象物１２は、移送経路の後段部であるエアレーション領域βに移行する。ここでは、除染対象物１２に既に形成されて外表面に残留する凝縮液層ｍを除去して、エアレーションを実行する。さらに詳述すると、移送用ローラ２５により除染対象物１２が移送され、上下に位置するルーバ４６ａ，４６ｂに挟まれた領域に位置すると、除染済みの除染対象物１２外表面に、上下方向からホットエアー（４０℃〜１５０℃）が噴出される。これにより、外表面に残留する凝縮液層ｍ及び周囲の過酸化水素ガスが除去されて、除染後の除染対象物１２についてエアレーションが実行されることとなる。ここで、各ルーバ４６ａ，４６ｂは、放出方向を除染対象物１２に向けて配置されており、除染領域αの除染効果を妨げないようにしている。

そして、エアレーション完了後、排出口扉２３が開放して、除染対象物１２が排出口２１からアイソレータ３に移送されることとなる。このときも、上述のように、室内の内圧がアイソレータ３の内圧よりも高くし、汚染を防止している。そして、アイソレータ３に移送後、排出口扉２３を遮閉状態として、アイソレータ３にて、供給された除染対象物１２の包装材１１を作業グローブ３２を介して除去して、内部の資材１０を取り出す。そして、このアイソレータ３で種々の作業が行われる。

これまでに述べたように、移送経路の前段部に除染領域αを、後段部にエアレーション領域βを設け、移送過程の前半で除染を実行し、後半でエアレーションを実行する構成とすることにより、除染用密閉室２全域をエアレーションしなくても良く、除染対象物１２をエアレーションのために密閉室２内に一旦滞留させておく必要がなくなる。このため、エアレーション時間が短縮されることとなる。したがって、密閉室２内に除染対象物１２を順次供給し、移送用ローラ２５の回転タイミングと両扉２２，２３の開閉タイミングとをこれに呼応させて、供給した数と同数をアイソレータ３に移送する工程を一連の流れで連続的に除染作業を実行することが可能となる。これにより、除染時間を全体として大幅に短縮することができる。なお、移送装置２４は、移送ローラ２５を間欠駆動させ、除染対象物１２を間欠的に移動させて移送させる構成が好適である。かかる構成とすることにより、各位置で十分に凝縮液層を形成、蒸発、又は除去する時間を稼ぐことが可能となる。なお、本発明は、除染対象物１２を一定速度で連続移動させる構成を排除するものではない。

さらに、エアレーション領域βについて、ホットエアーを噴出する構成に代えて、水蒸気を噴出する構成としても良い。かかる構成にあっては、除染対象物１２の包装材１１外表面に、水蒸気を噴出した後、外表面に残留する過酸化水素水をマスキングし、アイソレータ３内において過酸化水素ガス濃度を見かけ上減少させることとなる。

また、ホットエアーを噴出する構成に代えて、エアレーション領域βの湿度以下の湿度である低湿ガスを噴出する構成としても良い。これにより外表面に残留する凝縮液層ｍ及び周囲の過酸化水素ガスを除去することができる。なお、かかる構成は、低湿ガス供給装置５を除染領域αと共用することができる効果がある。

さらに、その他の構成として、図３に示されるように、エアレーション領域βにＵＶ照射装置４７ａ，４７ｂを設けた構成が提案される。さらに詳述すると、ＵＶ照射装置４７ａ，４７ｂは、室内の上方位置に配設された第一ＵＶ照射装置４７ａと、室内の下方位置に配設された第二ＵＶ照射装置４７ｂとで構成され、移送用ローラ２５により移送されてきた除染対象物１２外表面に、上下方向から紫外線（１８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射し、当該外表面に形成された凝縮液層ｍ及び周囲の過酸化水素ガスを分解して、除染後の除染対象物１２についてエアレーションを実行するものである。

なお、上述した、ホットエアーを噴出する構成、水蒸気を噴出する構成、低湿ガスを噴出する構成、及び紫外線を照射する構成を様々に組み合わせた構成としても良い。また、エアレーション条件は、公知技術が好適に採用され得る。

また、本発明にあっては、除染領域αにおける蒸発工程で、一旦形成された凝縮液層ｍを全部蒸発させる構成としても良い。かかる構成とすると、凝縮液層ｍの過酸化水素濃度の低下を完全に阻止することができる。また、蒸発工程と再凝縮工程とからなる除染工程を実行する場合の除染用ガスとしては、水より沸点の高い除染用ガスであれば好適に用いることができる。また、包装材１１外表面に凝縮液層ｍを形成して除染するための除染用ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、オゾン水等の除染剤をガス化したものでも良い。

さらに、移送経路上で、複数の除染対象物１２を放出口７，９の間隔とほぼ同一間隔とし、移送装置２４を間欠駆動して移送する構成が提案される。これにより、移送経路の前段部で複数の除染対象物１２を同時平行して、除染することが可能となる。これにより、除染効率が飛躍的に向上することとなる。

また、除染対象物１２の構造は、これまでに述べた除染対象物１２に限定されるものではない。

除染装置１の側面図である。 除染用密閉室２の縦断側面図である。 別構成にかかる除染用密閉室２の縦断側面図である。 包装材１１外表面に凝縮液層ｍが形成された除染対象物１２の縦断側面図である。

符号の説明

１ 除染装置
２ 除染用密閉室
４ ガス発生装置
５ 低湿ガス供給装置
７ 除染ガス放出口
１０ 資材
１１ 包装材
１２ 除染対象物
２０ 供給口
２１ 排出口
２４ 移送装置
ｍ 凝縮液層

Claims (11)

1. 室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染対象物を室内から室外へ排出するための排出口とが夫々形成され、供給口及び排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室と、
   除染用密閉室内に設置され、供給口から供給された除染対象物を、所定移送経路に従って排出口へ移送する移送手段と、
   除染用ガスを発生させ、移送経路の前段部で移送されている除染対象物に対して除染用ガスを放出する除染用ガス供給手段と、
   放出された除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、除染対象物を除染する凝縮制御手段と、
   移送経路の後段部で移送されている除染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去する凝縮液層除去手段とを備えたことを特徴とする除染装置。
2. 除染用ガス供給手段が、除染用ガスを放出する放出口を備えると共に、該放出口が、その開口面が除染対象物外表面と対向するように配設されたものであることを特徴とする請求項１記載の除染装置。
3. 除染用ガス供給手段が、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させると共に、
   除染用密閉室内で飽和しない不飽和ガスを発生させ、当該不飽和ガスを除染対象物に放出する不飽和ガス供給手段を備えた除染装置であって、
   除染用ガス供給手段と不飽和ガス供給手段とが、ガスを放出する放出口を夫々複数備え、かつ除染用ガス供給手段の放出口と不飽和ガス投入手段の放出口とが、移送経路の前段部で、移送経路に沿って交互に形成されてなることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染装置。
4. 放出口が、所定等間隔で形成されると共に、
   移送手段が、移送経路上で、複数の除染対象物を前記放出口の間隔とほぼ同一間隔で移送するものであることを特徴とする請求項３記載の除染装置。
5. 除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の除染装置。
6. 除染用ガス供給手段が、過酸化水素ガスを供給することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の除染装置。
7. 室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染対象物を室内から室外へ排出するための排出口とが夫々形成された、供給口及び排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室に、除染用ガスを投入し、当該除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、供給口から供給された除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、その後、当該凝縮液層を除去して、除染対象物を排出口から排出する除染方法において、
   除染対象物を移送する過程のなかで、その前半で、除染対象物外表面に凝縮液層を形成し、後半で、既に形成された凝縮液層を除去することを特徴とする除染方法。
8. 水より沸点の高い除染用ガスを除染用密閉室内に投入すると共に、
   除染対象物を移送する過程のなかで、その前半で、除染対象物の外表面に一旦形成した凝縮液層を所定時間経過後に一部、又は全部蒸発させる蒸発工程と、蒸発工程実行後、再度除染対象物の外表面に凝縮液層を形成する凝縮工程とを、交互に繰返し実行することを特徴とする請求項７記載の除染方法。
9. 除染用密閉室内と外界とが連通するときは、除染用密閉室の内圧を外気圧に比べて高圧とすることを特徴とする請求項７又は請求項８記載の除染方法。
10. 除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装されてなることを特徴とする請求項７乃至請求項９のいずれかに記載の除染方法。
11. 除染用ガスが、過酸化水素ガスである請求項７乃至請求項１０のいずれかに記載の除染方法。
    

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