JP4510480B2

JP4510480B2 - 除染装置及び除染方法

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Publication number: JP4510480B2
Application number: JP2004027730A
Authority: JP
Inventors: 康司川崎; 宮本　　実
Original assignee: Airex Co Ltd
Current assignee: Acous Corp
Priority date: 2004-02-04
Filing date: 2004-02-04
Publication date: 2010-07-21
Anticipated expiration: 2024-02-04
Also published as: JP2005218548A

Description

本発明は、過酸化水素ガス等の除染用ガスをアイソレータ等の除染室に供給することにより、当該除染室内にある除染対象物を除染する除染装置、及び除染方法に関する。

過酸化水素ガス等の除染用ガスをアイソレータやチャンバ等の室内に供給し、かつ除染用ガスをその室内で飽和させ、室内にある除染対象物の表面に除染用ガスの凝縮液の層を薄膜状に形成することにより、除染対象物を除染する方法は公知技術である（例えば、特許文献１参照。）。また、その凝縮液層が高濃度であるほど除染効果が高いこともよく知られている。

ここで、特許文献１には、室内の水成分により凝縮液が希釈化されて除染効果が低下するのを防止すべく、殺菌ガス（除染用ガス）を供給して除染開始する前に、チャンバ内を予め除湿する構成が開示されている。具体的には、チャンバ内を除湿するための冷蔵システムを具備する回路（第１の平行ブランチ）と、殺菌ガスを発生させる蒸発装置を具備する回路（第２の平行ブランチ）とからなる二重回路を設け、まず第１の平行ブランチを選択してチャンバ内を除湿し、その後回路を切り替えて、第２の平行ブランチを選択してチャンバに殺菌ガスを供給するようにしている。

特表２００３−５０１１４９号公報

しかしながら、上記従来構成は、殺菌ガス供給時にチャンバ内の湿度調整（例えば、除湿）が一切行われていないため、高濃度の凝縮液層が安定して形成され難いという問題があった。この問題を解決する構成としては、特表２００１−５１８８１６号公報に開示された構成を適用したものが提案され得る。このようにして提案された構成は、除湿機を具備する除湿用の回路をチャンバに接続し、チャンバ内へ殺菌ガスを供給しながら、該チャンバ内の室内ガス（殺菌ガスを含む）を前記回路に導き、その室内ガスを除湿機を介して除湿してから再びチャンバ内に排出するものである。すなわち、室内ガスを除湿用の回路とチャンバとの間で循環させる構成である。これにより、殺菌ガス供給時に、チャンバ内の湿度を調整することは可能となる。

しかし、この構成は、除湿機の腐食を防止すべく、除湿機を通過させる前に触媒を設けて殺菌ガスを分解しなければならず、これでは同時並行して供給する殺菌ガスが無駄に消費されてしまうという別の問題が生ずる。

そこで、本発明は、除染用ガス供給時にも室内湿度を調整でき、かつ除染用ガスが無駄に消費されない除染装置、及び除染方法を提供することを目的とする。

本発明は、除染対象物が内在する除染室と、除染物質が溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを除染室に供給する除染用ガス発生装置と、除染用ガス発生装置を駆動制御して除染用ガスを発生させる発生装置駆動制御手段とを備え、除染室内で除染用ガスを飽和させて除染対象物の表面に凝縮液層を形成することにより、当該除染対象物表面を除染する除染装置において、所定湿度の湿度調整用気体を発生させ、該湿度調整用気体を除染室に供給する湿度調整用気体発生装置と、除染室内の湿度を測定する湿度測定手段とを備え、発生装置駆動制御手段が、湿度調整用気体発生装置を駆動制御して湿度調整用気体を発生させるものであり、除染用ガス発生装置及び湿度調整用気体発生装置を駆動制御して、湿度調整用気体を除染室に供給しながら除染用ガスを供給すると共に、湿度測定手段が測定した測定値に基づいて、除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更するものであることを特徴とする除染装置である。

かかる構成は、それぞれ所定湿度である除染用ガス及び湿度調整用気体の、各供給量が適宜調整されて、凝縮液層を形成するのに、又は一度形成された凝縮液層を保持するのに最適な室内湿度が調整される構成である。例えば、測定された湿度よりも室内を低湿度としたい場合は、湿度の高いガス又は気体の供給量を減ずるように発生装置を駆動制御したり、湿度の低いガス又は気体の供給量を増やすように駆動制御することとなる。したがって、本発明は、除染用ガスを供給しながら除染室内の湿度を調整することが可能となり、従来構成のように除染用ガス供給中の室内環境が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題が招来しない。さらに、本発明は、従来構成のように湿度調整機（例えば、除湿機）を介して室内湿度を調整する構成でないため、湿度調整機の直前に設けられた触媒により除染用ガスが分解されて無駄に消費されてしまうことがない。

また、除染室内のガスを外界に排気可能とし、かつそのガス排気量を調整可能であるガス排気手段と、除染室の内圧を測定する内圧測定手段とを備え、発生装置駆動制御手段が、内圧測定手段が測定した測定値に基づいて、除染室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体発生装置及びガス排気手段を駆動制御して、湿度調整用気体を供給し、かつガス排気量を調整するものである構成が提案される。

このように、除染室内が所定の陽圧状態に維持されると、除染室内が異常に高圧となって器具、除染室、又は配管等が破損するおそれがなくなると共に、外界から汚染物質が侵入して室内が汚染させることがなくなる。

また、湿度調整用気体発生装置が、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給するものである構成が提案される。

このような湿度範囲の湿度調整用気体が除染室内に供給されると、通常除染室内が除湿されることとなる。したがって、除染用ガスを供給している際に、室内を除湿することが可能となり、凝縮液層が希釈化されず、高濃度の凝縮液層が形成されることとなり、また凝縮液層が形成された後にあっては、高濃度の凝縮液層が除染対象物表面で保持されることとなる。

また、発生装置駆動制御手段が、湿度調整用気体発生装置を先に駆動制御して湿度調整用気体を除染室に供給し始めてから、所定時間経過後に、除染用ガス発生装置を駆動制御して除染用ガスを除染室に供給し始めるものである構成が提案される。

かかる構成とすることにより、除染用ガス供給前においても、除染室内が除湿されるため、除染用ガス供給前から高濃度の凝縮液層を形成するのに適した室内環境とすることができる。

ここで、湿度調整用気体が、除染室で凝縮しない不飽和エアーである構成が例示される。さらに詳述すると、不飽和エアーとは、除染室内で凝縮しない不飽和蒸気又は乾燥エアーをいう。

また、湿度調整用気体が、不活性ガスである構成としても良い。ここで、不活性ガスは、狭義の不活性ガスであるヘリウム、アルゴンなどの希ガス族元素の他、広義には化学反応性の低い窒素も含む。

また本発明は、除染対象物が内在する除染室に、除染物質が溶解した水溶液を蒸発させて発生させた除染用ガスを供給し、除染室内で除染用ガスを飽和させて除染対象物の表面に凝縮液層を形成することにより、当該除染対象物表面を除染する除染方法において、除染用ガス供給中に、所定湿度の湿度調整用気体も除染室に供給すると共に、除染室内の湿度を測定しながら、その測定値に基づいて、除染用ガスの供給量及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更することを特徴とする除染方法である。

かかる構成は、それぞれ所定湿度である除染用ガス及び湿度調整用気体の、各供給量を適宜調整して、凝縮液層を形成するのに、又は一度形成した凝縮液層を保持するのに最適な室内湿度を得る構成である。例えば、測定された湿度よりも室内を低湿度としたい場合は、湿度の高いガス又は気体の供給量を減じ、又は湿度の低いガス又は気体の供給量を増やすこととなる。したがって、除染用ガスを供給しながら除染室内の湿度を調整することが可能となり、従来構成のように除染用ガス供給中の室内環境が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題が招来しない。

また、除染室の内圧を測定しながら、その測定値に基づいて除染室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体を供給する構成としても良い。

このように、除染室内を所定の陽圧状態に維持すると、除染室内が異常に高圧となって器具、除染室、又は配管等が破損するおそれがなくなると共に、外界から汚染物質が侵入して室内が汚染させることがなくなる。

また、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給する構成が提案される。

このような湿度範囲の湿度調整用気体を除染室内に供給すると、通常除染室内が除湿されることとなる。したがって、除染用ガスを供給している際に、室内を除湿することが可能となり、凝縮液層が希釈化されず、高濃度の凝縮液層を形成することが可能となる。また凝縮液層が形成された後にあっては、高濃度の凝縮液層を除染対象物表面で保持することが可能となる。

また、湿度調整用気体を除染室に供給し始めてから、所定時間経過後に、除染用ガスを除染室に供給し始める構成が提案される。

かかる構成とすることにより、除染用ガス供給前においても、除染室内を除湿することができ、除染用ガス供給前から高濃度の凝縮液層を形成するのに適した室内環境とすることができる。

なお、上記除染方法にあっても、湿度調整用気体が、除染室で凝縮しない不飽和エアーである構成、又は、湿度調整用気体が、不活性ガスである構成としても良い。

本発明の除染装置は、各発生装置を駆動制御して、湿度調整用気体を除染室に供給しながら除染用ガスを供給し、かつ測定された室内湿度に基づいて、除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する構成としたため、除染用ガスを供給しながら除染室内の湿度を調整することが可能となり、高濃度の凝縮液層を安定して形成することができる効果がある。また、本発明は、湿度調整する過程で除染用ガスが触媒等により分解されることがないため、除染用ガスが無駄に消費されてしまうことがない利点がある。

また、除染室を所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体発生装置を駆動制御して湿度調整用気体を供給する構成とした場合には、除染室内が異常に高圧となって器具、除染室、又は配管等が破損してしまうことを防止できると共に、外界から汚染物質が侵入して室内が汚染されてしまうことを防止できる。また、湿度調整を目的とする湿度調整用気体を内圧調整にも共用する構成であるため、装置全体が長大又は複雑とならず、製造コストの点で有利である。

また、湿度調整用気体発生装置が、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給する構成とした場合は、除染用ガスを供給している際に、室内を除湿することが可能となり、凝縮液層が希釈化されることがなく、高濃度の凝縮液層を形成することができる効果がある。また凝縮液層が形成された後にあっては、高濃度の凝縮液層を除染対象物表面で保持することができる効果がある。

また、湿度調整用気体発生装置を先に駆動制御して湿度調整用気体を除染室に供給し始めてから、除染用ガス発生装置を駆動制御して除染用ガスを供給し始める構成とした場合は、除染用ガス供給前においても除染室内を除湿することが可能となり、除染用ガス供給前から高濃度の凝縮液層を形成し得るのに適した室内環境を形成することができる。

さらに、湿度調整用気体を不飽和エアーとした場合は、公知技術を利用しながら好適に湿度調整することが可能となる。

また、湿度調整用気体を不活性ガスとした場合は、公知技術を利用しながら好適に湿度調整することが可能となる。

また本発明の除染方法は、除染用ガス供給中に、所定湿度の湿度調整用気体を供給すると共に、除染室内の湿度を測定しながら、その測定値に基づいて、除染用ガスの供給量及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する構成としたため、除染用ガス供給中に、凝縮液層を形成又は保持するのに最適な室内湿度を得ることが可能となり、高濃度の凝縮液層を安定して形成することができる効果がある。

また、除染室の内圧を測定しながら、その測定値に基づいて除染室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体を供給する構成とした場合は、除染室内が異常に高圧となって器具、除染室、又は配管等が破損してしまうことを防止できると共に、外界から汚染物質が侵入して室内が汚染されてしまうことを防止できる。

また、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給する構成とした場合は、除染用ガスを供給している際に、室内を除湿することが可能となり、凝縮液層が希釈化されず、高濃度の凝縮液層を形成することができる効果がある。また凝縮液層が形成された後にあっては、高濃度の凝縮液層を除染対象物表面で保持することができる効果がある。

また、湿度調整用気体を除染室に先に供給し始めてから、後に除染用ガスを供給し始める構成とした場合は、除染用ガス供給前においても除染室内を除湿することが可能となり、除染用ガス供給前から高濃度の凝縮液層を形成し得るのに適した室内環境を得ることができる。

以下に、本発明にかかる除染装置１について説明する。
図１に示されるように、除染装置１は、アイソレータ（除染室）２を備えている。そして、このアイソレータ２内部には、除染対象物αが載置されている。なお、アイソレータ２は、公知品が好適に用いられる。

さらに、本除染装置１は、除染用ガスとしての過酸化水素ガスを発生させる除染用ガス発生装置３を備えている。この除染用ガス発生装置３は、過酸化水素が水に溶解してなる過酸化水素水が入った液体タンク３１、過酸化水素水の流量を測定する流量計３２、液体タンク３１の過酸化水素水を吸引する送液ポンプ３３、及び過酸化水素水を蒸発させて過酸化水素ガスを発生させる加熱面（図示省略）を有する加熱部３４を具備している。そして、一端が除染用ガス発生装置３の加熱部３４に接続され、他端が後述するアイソレータ２の循環回路８に接続された除染用ガス案内管３５により、前記加熱部３４で発生した過酸化水素ガスがアイソレータ２内に案内される構成となっている。なお、本実施形態例にかかる過酸化水素により、本発明にかかる除染物質が構成される。かかる構成にあって、前記流量計３２により流量を管理されながら、液体タンク３１内の過酸化水素水が、送液ポンプ３３の駆動により前記加熱部３４へ供給される。さらに、この供給された過酸化水素水が加熱部３４の加熱面に滴下されて蒸発し、過酸化水素ガスが発生する。そして、この過酸化水素ガスが、除染用ガス案内管３５を介してアイソレータ２内に供給されることとなる。なお、本発明にかかる除染用ガス発生装置３は、フラッシュ蒸発（いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる構成であって、公知技術が好適に採用される。

また、アイソレータ２には、給気ファン４１を備えた給気回路４が接続されている。この給気回路４は、一端が外界に開口し、他端がアイソレータ２内に開口してなり、給気ファン４１が駆動することにより、アイソレータ２と給気ファン４１との間に介装された給気回路用ＨＥＰＡフィルタ４３を介して外気がアイソレータ２内に給気されるようにしている。

さらに、アイソレータ２には、排気ファン６２、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１、及び触媒６３を備えた排気回路６が接続されている。この排気回路６も、一端が外界に開口し、他端がアイソレータ２内に開口している。そして、アイソレータ２側から順に触媒６３、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１、及び排気ファン６２と配設され、排気ファン６２が駆動することにより、アイソレータ２内のガスが触媒６３、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１により分解、及び清浄化されて外界に排気される。なお、この排気回路６には、排気するガスの排気量を調整するバルブ６４が配設されており、ガス排気量を調整可能としている。なお、本実施形態例にかかる排気回路６により、本発明にかかるガス排気手段が構成される。

また、アイソレータ２には、アイソレータ２内に供給された過酸化水素ガスを水及び酸素に分解するための分解回路７も接続されている。この分解回路７には、触媒７２、置換ファン７３、及び分解回路用ＨＥＰＡフィルタ７４が配設されている。そして、置換ファン７３が駆動することにより、アイソレータ２内に開口した吸入口７ａからアイソレータ２内のガスが回路７内に導かれ、当該ガスが触媒７２により分解された後、分解回路用ＨＥＰＡフィルタ７４を通過し、アイソレータ２内に開口した排出口７ｂから室内に排出される。なお、前記給気回路４及び分解回路７にも、バルブ（図示省略）がそれぞれ配設され、回路の開放・遮断を制御し得る構成となっている。

また、アイソレータ２には、アイソレータ２内のガスを循環させるための循環回路８も接続されている。この循環回路８は、循環ファン８３、及び循環回路用ＨＥＰＡフィルタ８４が配設されており、循環ファン８３が駆動することにより、アイソレータ２内に開口した吸入口８ａからアイソレータ２内のガスが回路８内に導かれ、当該ガスが分解回路用ＨＥＰＡフィルタ８４を通過した後、排出口８ｂから室内に排出される。また、この循環回路８には、上述のように除染用ガス案内路３５が接続されており、回路８内に導入された過酸化水素ガスが、循環ファン８３の駆動によりアイソレータ２内に供給される構成となっている。

また、除染装置１は、アイソレータ２内の温度及び湿度を測定する温湿度計８２を備えている。この温湿度計８２は、室内の温度及び湿度を測定し、温度データ及び湿度データを後述の制御装置２０に出力する。なお、温湿度計８２は、公知品が好適に用いられる。また、除染装置１は、アイソレータ２の内圧を測定する内圧計８１を備えている。この内圧計８１は、内圧を測定すると、制御装置２０に内圧データを出力する。なお、内圧計も、公知品が好適に用いられる。

さらに、除染装置１は、図２に示されるように、所定のプログラムを実行する中央制御装置ＣＰＵを備えた制御装置２０を備えている。この中央制御装置ＣＰＵには、データを随時読み書きできる記憶装置ＲＡＭと、演算処理に用いる動作プログラムやデータが格納される記憶装置ＲＯＭとが備えられている。この記憶装置ＲＡＭには前記温度データ等が随時記憶され、一方記憶装置ＲＯＭには固定データが記憶されている。かかる制御装置２０は、温湿度計８２、内圧計８１、除染用ガス発生装置３の送液ポンプ３３と流量計３２、バルブ６４、及び各ファン４１，６２，７３，８３と電気的にそれぞれ接続している。そして、制御装置２０には温湿度計８２の温度データ及び湿度データ、内圧計８１の内圧データ、並びに除染用ガス発生装置３に備えられた流量計３２の流量データが入力される。これに対し、送液ポンプ３３、バルブ６４、及び各ファン４１，６２，７３，８３には、各装置を所定態様で駆動させるための制御指令信号が制御装置２０から出力される。

次に本発明の要部を説明する。
本発明にかかる除染装置１は、不飽和エアー発生装置５を備えていることを特徴としている。この不飽和エアー発生装置５は、圧縮空気を発生させる圧縮機５１、圧縮空気用フィルター５４、圧縮空気を除湿する除湿機５６、及び流量計５２を具備し、低湿度（例えば、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％）で、かつアイソレータ２内で凝縮しない不飽和エアーをアイソレータ２に供給するものである。なお、本実施形態例にかかる不飽和エアーにより、本発明にかかる湿度調整用気体が構成され、本実施形態例にかかる不飽和エアー発生装置５により、本発明にかかる湿度調整用気体発生装置が構成される。

かかる構成にあって、前記圧縮機５１により発生された圧縮空気は、図１に示されるように、圧縮空気用フィルター５４を介して除湿機５６に送り込まれる。そして、除湿機５６からは、除湿された圧縮空気、すなわち不飽和エアーが流量計５２により管理されながら放出される。そして、不飽和エアーは、一端が除湿機５６に接続され、他端がアイソレータ２と接続された不飽和エアー案内管５５を介してアイソレータ２内に供給される。なお、このように、所定湿度まで除湿された不飽和エアーがアイソレータ２へ供給されると、アイソレータ２内がその湿度に調整され、除湿されることとなる。また、前記流量計５２は、流量の調整機能も備えている。そして、前記流量計５２は、制御装置２０と電気的に接続されており、制御装置２０には流量計５２の流量データが入力されると共に、流量計５２には流量を調整するための制御指令信号が制御装置２０から出力される。なお、両発生装置３，５を駆動制御してガスを発生させる制御装置２０により、本発明にかかる発生装置駆動制御手段が構成される。また、本実施形態例にかかる温湿度計８２により、本発明にかかる湿度測定手段が構成され、内圧計８１により、本発明にかかる内圧測定手段が構成される。

次に、上記除染装置１を用いた除染態様を説明する。
まず、未だ除染されていない状態のアイソレータ２について、アイソレータ２の漏れテストを実行する。具体的には、不飽和エアー発生装置５を駆動制御して不飽和エアーを供給し、アイソレータ２を陽圧状態とした後、流量計５２でアイソレータ２への流量変化を測定し、判定する。

次に、湿度調整を実行する。これは、過酸化水素ガスを供給する前に予めアイソレータ２内を可及的に除湿（０％＜Ｗ≦４０％）しておき、除染環境を良好とするものである。なお、アイソレータ２内が除湿されると、後で過酸化水素ガスを供給した際に、過酸化水素ガス濃度を高くすることができる。具体的には、制御装置２０が、流量計５２に制御指令信号を出力し、流量データを管理しつつ、アイソレータ２内にほぼ湿度Ｗが０％の不飽和エアーを供給する。このように不飽和エアー発生装置５を駆動制御して、不飽和エアーを供給すると、アイソレータ２内が除湿されることとなる。

所定時間経過し、除湿が完了すると、次にアイソレータ２内に載置された除染対象物αを除染すべく、過酸化水素ガス投入工程を実行する。本発明にあっては、アイソレータ２内で過酸化水素ガスを飽和させて除染対象物αの表面に凝縮液層を形成することにより、除染対象物αの表面を除染する。

具体的には、制御装置２０が、送液ポンプ３３に制御指令信号を出力し、所定量の過酸化水素水を加熱部３４に供給し得るように駆動させて、過酸化水素ガスをアイソレータ２内に供給開始する。このように除染用ガス発生装置３を駆動制御して、過酸化水素ガスを供給し、供給した過酸化水素ガスをアイソレータ２内で飽和させると、除染対象物αの表面に凝縮液層が形成されて、除染対象物α表面が除染されることとなる。

さらに、本発明にあっては、過酸化水素ガス投入工程時においても前記不飽和エアーを引き続き供給することを特徴としている。すなわち、不飽和エアーを供給しながら、過酸化水素ガスの供給を開始することとなる。そしてさらに、温湿度計８２により室内湿度を管理し、その湿度データに基づいて、凝縮液層を形成するのに最適な室内湿度となるように、不飽和エアー及び／又は過酸化水素ガスの供給量を適宜変更する。例えば、測定された湿度よりも室内を低湿度としたい場合は、湿度の高い過酸化水素ガスの供給量を減ずるように除染用ガス発生装置３を駆動制御したり、湿度の低い不飽和エアーの供給量を増やすように不飽和エアー発生装置５を駆動制御する例が挙げられる。また、その上で、不飽和エアーの放出速度を適宜変更する構成としても良い。すなわち、不飽和エアーの単位時間当りの供給量を変更するものである。本実施形態例では、除湿時、及び後述のエアレーション時には０．４５ｍ／ｓとし、過酸化水素ガス投入工程時は０．２ｍ／ｓとした。このように過酸化水素ガス投入工程時に不飽和エアーの供給速度を下げたのは、凝縮を促進させるためである。

このように、過酸化水素ガスを供給しながらアイソレータ２内の湿度を調整すると、高濃度の凝縮液層を安定して形成することが可能となり、従来構成のように過酸化水素ガス供給中に凝縮液層が希釈化されて高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題が招来しない。さらに、本発明は、従来構成のように除湿する際に触媒によって過酸化水素ガスが分解されてしまう、ということがないため、過酸化水素ガスが無駄に消費されてしまうことがない。

さらに、本発明にあっては、内圧計８１の内圧データに基づき、室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように、バルブ６４によりガス排気量を調整ながら不飽和エアーの供給量を特定することとしている。

かかる構成とすることにより、アイソレータ２内が異常に高圧となって器具、アイソレータ２、配管等が破損するおそれがなくなると共に、外界から汚染物質が侵入してアイソレータ２内が汚染させることがなくなる。なお、このとき、排気ファン６２を駆動する必要はない。

なお、前記過酸化水素ガス投入工程は、凝縮液層を形成するための前期工程と、形成された凝縮液層を除染対象物α表面上に保持するための後期工程とに大別され、各期ごとに両発生装置３，５を駆動制御して所定量のガスの供給量を調整するようにしている。なお、調整の際には、室内湿度が高いほど過酸化水素ガスは凝縮しやすく、室内湿度が低いほど過酸化水素ガス濃度が高まることが考慮される。

その他、制御装置２０は、流量計３３により過酸化水素ガスの供給時間を管理したりする。また、上述の各ファン４１，６２，７３，８３を適宜駆動制御して、適正にアイソレータ２を除染管理する。

除染が完了すると、エアレーションを実行すべく、過酸化水素ガスの供給を中止する。また、分解回路７を開放する一方、不飽和エアーの供給は継続し、室内ガスを循環させて過酸化水素成分を十分に分解する。そして、その後、排気回路６から室内ガスを排気することとなる。

また、上記構成とは別に、図３に示されるような除染装置１’が提案される。すなわち、不飽和エアー案内管５５’が、循環回路８に接続されている構成である。したがって、かかる構成とすることにより、過酸化水素ガスと不飽和エアーとが循環回路８で混合されて、排出口８ｂからアイソレータ２内に放出されることとなる。

ここで、除染用ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、オゾン水等の除染剤をガス化したものが例示される。また、湿度調整用気体として、不飽和エアーに代えて、不活性ガスを用いた構成としても良い。不活性ガスとしては、窒素、又はアルゴンガス等が例示される。かかる構成とすることにより、アイソレータ２内を除湿することが可能となる。

除染装置１の概略図である。除染装置１のブロック回路図である。別構成の除染装置１’を示す概略図である。

符号の説明

１，１’ 除染装置
２アイソレータ
３除染用ガス発生装置
５不飽和エアー発生装置
６排気回路
２０制御装置
３５除染用ガス案内路
８１内圧計
８２温湿度計
α 除染対象物

Claims

除染対象物が内在する除染室と、
除染物質が溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを除染室に供給する除染用ガス発生装置と、
除染用ガス発生装置を駆動制御して除染用ガスを発生させる発生装置駆動制御手段とを備え、
除染室内で除染用ガスを飽和させて除染対象物の表面に凝縮液層を形成することにより、当該除染対象物表面を除染する除染装置において、
湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の範囲にある湿度調整用気体を発生させ、該湿度調整用気体を除染室に供給する湿度調整用気体発生装置と、
除染室内の湿度を測定する湿度測定手段とを備え、
発生装置駆動制御手段が、湿度調整用気体発生装置を駆動制御して湿度調整用気体を発生させるものであり、除染用ガス発生装置及び湿度調整用気体発生装置を駆動制御して、湿度調整用気体を除染用ガスを供給する前に除染室に供給して除染室内を除湿し、その後に、除染用ガスを供給しながら湿度調整用気体を供給すると共に、湿度測定手段が測定した測定値に基づいて、除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する制御内容を備えるものであることを特徴とする除染装置。
除染室内のガスを外界に排気可能とし、かつそのガス排気量を調整可能であるガス排気手段と、
除染室の内圧を測定する内圧測定手段とを備え、
発生装置駆動制御手段が、内圧測定手段が測定した測定値に基づいて、除染室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体発生装置及びガス排気手段を駆動制御して、湿度調整用気体を供給し、かつガス排気量を調整するものであることを特徴とする請求項１記載の除染装置。
湿度調整用気体が、除染室で凝縮しない不飽和エアーであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染装置。
湿度調整用気体が、不活性ガスであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の除染装置。
除染対象物が内在する除染室に、除染物質が溶解した水溶液を蒸発させて発生させた除染用ガスを供給し、除染室内で除染用ガスを飽和させて除染対象物の表面に凝縮液層を形成することにより、当該除染対象物表面を除染する除染方法において、
湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の範囲にある湿度調整用気体を除染用ガスを供給する前に除染室に供給して除染室内を除湿し、その後に、除染用ガス供給中に、前記湿度調整用気体も除染室に供給すると共に、除染室内の湿度を測定しながら、その測定値に基づいて、除染用ガスの供給量及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更することを特徴とする除染方法。
除染室の内圧を測定しながら、その測定値に基づいて除染室内が外界に対して所定の陽圧状態となるように湿度調整用気体を供給することを特徴とする請求項５記載の除染方法。
湿度調整用気体が、除染室で凝縮しない不飽和エアーであることを特徴とする請求項５又は請求項６記載の除染方法。
湿度調整用気体が、不活性ガスであることを特徴とする請求項５又は請求項６記載の除染方法。