JP2005181978A - 半導電性部材及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 半導電性弾性層を有する半導電性部材において、環境による抵抗の変化が小さい半導電性部材及び該半導電性部材を備える画像形成装置を提供する。
【解決手段】 導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であって、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材、及び該半導電性部材を備えてなることを特徴とする画像形成装置。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
【選択図】 なし
【解決手段】 導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であって、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材、及び該半導電性部材を備えてなることを特徴とする画像形成装置。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
【選択図】 なし
Description
本発明は、複写機、プリンター、ファクシミリ等の電子写真方式を利用した電子写真装置等に利用し得る半導電性部材、及び該半導電性部材を備える画像形成装置に関する。
電子写真方式を利用した画像形成装置においては、以下のような方法により画像を得ることができる。まず、像担持体（感光体）上を一様な電位に均一に帯電し、画像信号を変調したレーザー等により静電潜像を形成した後、帯電したトナーで前記静電潜像を現像してトナー像とする。そして、前記トナー像を、中間転写体を介して記録媒体に静電的に転写、或いは直接記録媒体に静電的に転写することにより、記録媒体上にトナー像を形成し、トナー像が形成された記録媒体に熱と圧力を加えることで、記録媒体上に所望の画像を得ることができる。
上述のように電子写真方式を利用した画像形成装置では、像担持体上を一様な電位に均一に帯電する手段や記録媒体等にトナー像を転写する手段としては、従来、コロナ放電を利用した非接触式ものが使用されていた。しかし、高圧電源を必要とし、オゾンが発生する等の問題から、近年ではロールやブレード等の形状をした半導電性部材を像担持体に接触又は近接させて電圧を印加することにより帯電や転写を行う、接触式または近接式のものが用いられている。
上記の半導電性部材は、その所望の電気抵抗値を獲る手段から、電子導電性タイプとイオン伝導性タイプのものがある。
電子伝導性タイプの半導電性部材はカーボンブラックや金属酸化物等の導電性粒子をゴム材料等に配合・分散して所望の抵抗値を獲るが、獲られる抵抗値は導電性粒子の分散状態に大きく依存する。しかし、導電性粒子の分散状態を制御することは難しく、そのため半導電性部材の抵抗の高い部位や低い部位において、画質上に白点や黒点や砂地状の画質欠陥が発生するといった問題や、生産時に不良品が発生しやすく全数の抵抗測定を何箇所も行うことを余儀なくされ、コスト高になるといった問題もある。さらに、導電性粒子により、硬度が高くなるといった問題もある。
電子伝導性タイプの半導電性部材はカーボンブラックや金属酸化物等の導電性粒子をゴム材料等に配合・分散して所望の抵抗値を獲るが、獲られる抵抗値は導電性粒子の分散状態に大きく依存する。しかし、導電性粒子の分散状態を制御することは難しく、そのため半導電性部材の抵抗の高い部位や低い部位において、画質上に白点や黒点や砂地状の画質欠陥が発生するといった問題や、生産時に不良品が発生しやすく全数の抵抗測定を何箇所も行うことを余儀なくされ、コスト高になるといった問題もある。さらに、導電性粒子により、硬度が高くなるといった問題もある。
上記の事情から、一般的にはイオン伝導性タイプのものが使用されていることがほとんどである。イオン伝導性タイプの半導電性部材は、四級アンモニウム塩等のイオン導電剤をゴム材料等に配合するものや、エチレンオキサイドとエピクロルヒドリンの共重合体やアクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）等の電気抵抗が低いポリマーからなるものがあるが、これらイオン伝導性タイプのものは抵抗のバラツキが小さく、所望の抵抗値を安定して獲ることができる。
しかしながら、イオン伝導性タイプの場合、低温低湿時に電気抵抗が高くなり高電圧を出力できる電源が必要になり装置が大きくなるといった問題やコストアップするといった問題がある。また、低温低湿で使用した場合、電気抵抗が上昇していき、如いては使用できなくなるといった問題もある。このような問題を解決する方法として、エピクロルヒドリンゴム及びＮＢＲに、イオン導電剤とカーボンブラックを配合させた組成物も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
前記イオン導電剤とカーボンブラックを配合させた組成物は、イオン伝導性が高いエピクロルヒドリンゴムとイオン伝導性の低いＮＢＲに、イオン導電剤とカーボンブラックとを組み合わせることで、所望の電気抵抗値が得られるものである。
前記イオン導電剤とカーボンブラックを配合させた組成物は、イオン伝導性が高いエピクロルヒドリンゴムとイオン伝導性の低いＮＢＲに、イオン導電剤とカーボンブラックとを組み合わせることで、所望の電気抵抗値が得られるものである。
しかし、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラック（特許文献１の実施例では、ＤＢＰ吸油量３５０ｍｌ／１００ｇのカーボンブラックを使用している）を単独で用いた場合には、カーボンブッラクにより発現する導電性は、前記したカーボンブッラクの分散不良の問題があり、電気抵抗値のバラツキを低減することはできない。また、このイオン導電剤は、低分子成分であるので、微量であっても、イオン導電剤が分散されている半導電性部材に用いた場合には、像担持体や中間転写体への押圧、長期の放置により帯電ローラの表面上へイオン導電剤がブリードするなどの問題が発生する場合がある。このブリードは像担持体や中間転写体を汚染し、像担持体や中間転写体の変質、画像不良を引き起こす。 また、半導電性部材の表面にもトナーが付着してしまうので、そのトナーの堆積による画質不良を引き起こす等の問題が生じる場合がある。
かかるイオン導電剤のブリードの問題を解決するための手段として、半導電性部材の表面にバリア機能を有する保護層を設けることが考えられる。この保護層は半導電性部材の機能を損なわないよう、薄肉かつ均一で、表面性が良好であることが必要とされる。そのため保護層の形成は、一般的に樹脂を溶剤に希釈し、スプレー塗装やディッピング処理により行われる。
しかしながら、このような手段で保護層を形成した半導電性部材においても、保護層表面からイオン導電剤がブリードし、感光体表面が汚染されてしまうことがあった。この現象は、イオン導電剤の配合量を多くした際に顕著であった。
また、該半導電性部材が転写部材の場合は、紙の裏面汚れを防止するため、最表面に発泡セルが剥き出しになっているものがよく、保護層を形成できないといった問題がある。さらに、コストの面を考慮しても保護層のない半導電性部材が好ましい。
特開２００１−２１４９２５号公報
しかしながら、このような手段で保護層を形成した半導電性部材においても、保護層表面からイオン導電剤がブリードし、感光体表面が汚染されてしまうことがあった。この現象は、イオン導電剤の配合量を多くした際に顕著であった。
また、該半導電性部材が転写部材の場合は、紙の裏面汚れを防止するため、最表面に発泡セルが剥き出しになっているものがよく、保護層を形成できないといった問題がある。さらに、コストの面を考慮しても保護層のない半導電性部材が好ましい。
そこで、本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、半導電性弾性層を有する半導電性部材において、環境による抵抗の変化が小さい半導電性部材及び該半導電性部材を備える画像形成装置を提供することである。
本発明者は、半導電性弾性層を構成するゴム組成物を限定することで、前記課題を解決することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
前記目的は、以下の本発明により達成される。すなわち本発明は、
＜１＞ 導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であって、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材である。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
＜２＞ 前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が４０以下であることを特徴とする＜１＞に記載の半導電性部材である。
前記目的は、以下の本発明により達成される。すなわち本発明は、
＜１＞ 導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であって、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材である。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
＜２＞ 前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が４０以下であることを特徴とする＜１＞に記載の半導電性部材である。
＜３＞ 前記半導電性弾性体層が、発泡体であることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の半導電性部材である。
＜４＞ 前記ゴム組成物が、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、前記（Ｃ）成分を３０〜７０質量部の範囲で含有することを特徴とする＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜４＞ 前記ゴム組成物が、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、前記（Ｃ）成分を３０〜７０質量部の範囲で含有することを特徴とする＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜５＞ 前記ゴム組成物における前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との配合比が、質量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝８０／２０〜２０／８０の範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜６＞ 前記ゴム組成物における前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との配合比が、質量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝６０／４０〜４０／６０の範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜５＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜６＞ 前記ゴム組成物における前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との配合比が、質量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝６０／４０〜４０／６０の範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜５＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜７＞ 前記（Ｃ）成分がカーボンブラックであることを特徴とする＜１＞〜＜６＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜８＞ 前記（Ｃ）成分が２種類以上の電子伝導性の導電剤からなることを特徴とする＜１＞〜＜７＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜８＞ 前記（Ｃ）成分が２種類以上の電子伝導性の導電剤からなることを特徴とする＜１＞〜＜７＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜９＞ 前記（Ｃ）成分がＤＢＰ吸油量の異なる２種類以上のカーボンブラックからなることを特徴とする＜１＞〜＜８＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜１０＞ 前記ＤＢＰ吸油量の異なる２種類以上のカーボンブラックのうち、少なくとも、１種がＤＢＰ吸油量が２５０ｍｌ／１００ｇ以上のカーボンブラックであり、他の１種がＤＢＰ吸油量が１００ｍｌ／１００ｇ以下のカーボンブラックであることを特徴とする＜１＞〜＜９＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜１０＞ 前記ＤＢＰ吸油量の異なる２種類以上のカーボンブラックのうち、少なくとも、１種がＤＢＰ吸油量が２５０ｍｌ／１００ｇ以上のカーボンブラックであり、他の１種がＤＢＰ吸油量が１００ｍｌ／１００ｇ以下のカーボンブラックであることを特徴とする＜１＞〜＜９＞の何れか１つに記載の半導電性部材である。
＜１１＞ ＜１＞〜＜１０＞の何れか１つに記載の半導電性部材を備えてなることを特徴とする画像形成装置である。
本発明は、半導電性弾性層を有する半導電性部材において、環境による抵抗の変化が小さい半導電性部材及び該半導電性部材を備える画像形成装置を提供することができる。
以下、本発明の半導電性部材及び該半導電性部材を備える画像形成装置について説明する。
ここで、本発明における半導電性部材とは、例えば、帯電手段、転写手段、中間転写方式における１次転写手段及び２次転写手段、クリーニング手段、除電手段等として用いられる導電性乃至半導電性の部材（以下、半導電性部材と称する。）であり、その形状は、特に限定されることがなく、例えば、ローラ状であってもよいし、ブレード状であってもよい。
ここで、本発明における半導電性部材とは、例えば、帯電手段、転写手段、中間転写方式における１次転写手段及び２次転写手段、クリーニング手段、除電手段等として用いられる導電性乃至半導電性の部材（以下、半導電性部材と称する。）であり、その形状は、特に限定されることがなく、例えば、ローラ状であってもよいし、ブレード状であってもよい。
＜半導電性部材＞
本発明の半導電性部材は、導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であり、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材である。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
本発明の半導電性部材は、導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であり、前記ゴム組成物が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材である。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤
このように、本発明の半導電性部材は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むゴム組成物で構成される半導電性弾性体層を有することを必須とする。
本発明のように、イオン伝導性が高いエピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）と、イオン伝導性の低いＮＢＲ（Ｂ成分）とを組み合わせを含有するゴム組成物で半導電性弾性体層を構成されていることにより、半導電性弾性体層の導電性は、イオン伝導に支配されており、電気抵抗の電圧依存性が低くなる。そして、このゴム組成物に、電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）を所定量配合することにより、低温低湿下における電気抵抗が低くなって高温高湿下における電気抵抗に近くなる。その結果、高温高湿下でも低温低湿下でも電気抵抗値が大きく変動しないようになり、温度や湿度等の環境の影響を受けにくくなる、つまり、電気抵抗の環境依存性が小さくなる。
本発明のように、イオン伝導性が高いエピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）と、イオン伝導性の低いＮＢＲ（Ｂ成分）とを組み合わせを含有するゴム組成物で半導電性弾性体層を構成されていることにより、半導電性弾性体層の導電性は、イオン伝導に支配されており、電気抵抗の電圧依存性が低くなる。そして、このゴム組成物に、電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）を所定量配合することにより、低温低湿下における電気抵抗が低くなって高温高湿下における電気抵抗に近くなる。その結果、高温高湿下でも低温低湿下でも電気抵抗値が大きく変動しないようになり、温度や湿度等の環境の影響を受けにくくなる、つまり、電気抵抗の環境依存性が小さくなる。
また、本発明の半導電性部材は、（Ｂ）成分のムーニー粘度が４０以下であることが好ましい。（Ｂ）成分のムーニー粘度が４０以下であると、電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）による硬度の上昇を抑えることができる。
一方、前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が２５以上であることがより好ましい。前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が２５以上であると、押出成形等において、押出圧力低減、押出肌の改良効果が期待でき好ましい
ここてムーニー粘度とはＪＩＳ Ｋ６３００−１に規定されている粘度で、本発明においてはＭＬ（１＋４）１００℃の条件で測定したものである。
一方、前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が２５以上であることがより好ましい。前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が２５以上であると、押出成形等において、押出圧力低減、押出肌の改良効果が期待でき好ましい
ここてムーニー粘度とはＪＩＳ Ｋ６３００−１に規定されている粘度で、本発明においてはＭＬ（１＋４）１００℃の条件で測定したものである。
また、本発明における半導電性弾性体層は発泡体であることが好ましい。一般的に、半導電性弾性体層を発泡体とすることは、硬度が低くなり、像担持体や転写ベルト等とのニップを安定して形成できる点で好ましいが、半導電性弾性体層を発泡体とすることで電気抵抗の環境依存性が大きくなる傾向がある。しかし、本発明におけるゴム組成物に発泡剤を添加して、発泡体の半導電性弾性体層を形成することにより、電気抵抗の環境依存性が小さい発泡体の半導電性弾性体層が得られる。
前記発泡剤としては、ベンゼンスルホニルヒドラジド、アゾジカルボンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミンやこれらの混合物等が挙げられる。
前記発泡剤としては、ベンゼンスルホニルヒドラジド、アゾジカルボンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミンやこれらの混合物等が挙げられる。
本発明におけるゴム組成物は、既述のようにエピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）とＮＢＲ（Ｂ成分）を含有するが、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）とＮＢＲ（Ｂ成分）とは相溶性が高く、ブレンドした場合均一に分散する。その結果、抵抗ばらつきの小さいゴム組成物となる。
前記エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）としては、下記構造式で示されるエピクロルヒドリンユニットと下記構造式で示されるアリルグリシジルエーテルユニットを共重合させたものが挙げられ、具体的には、ゼクロン１１００（日本ゼオン株式会社製）等が挙げられる。
一方、前記ＮＢＲ（Ｂ成分）としては、Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１１（ムーニー粘度：４６、日本ゼオン株式会社製）、Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１２（ムーニー粘度：７８、日本ゼオン株式会社製）、Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１５（ムーニー粘度：５８、日本ゼオン株式会社製）、Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９（ムーニー粘度：２７、日本ゼオン株式会社製）、Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３（ムーニー粘度：３５、日本ゼオン株式会社製）等が挙げられる。
前記ゴム組成物におけるエピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）とＮＢＲ（Ｂ成分）の配合比は、質量比で、（Ａ成分）／（Ｂ成分）＝８０／２０〜２０／８０の範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、（Ａ成分）／（Ｂ成分）＝６０／４０〜４０／６０の範囲である。
前記（Ａ成分）／（Ｂ成分）が、２０／８０未満となると、得られた半導電性部材の初期の電気抵抗が高くなる場合がある、また、前記（Ａ成分）／（Ｂ成分）が、８０／２０を超えると、イオン伝導性が強くなり、電気抵抗の環境依存性が高くなる場合がある。そのため、後述する電子伝導性の導電剤の添加量を多くする必要があり、半導電性部材のロール硬度が高くなるなどの問題が生じる場合がある。
前記（Ａ成分）／（Ｂ成分）が、２０／８０未満となると、得られた半導電性部材の初期の電気抵抗が高くなる場合がある、また、前記（Ａ成分）／（Ｂ成分）が、８０／２０を超えると、イオン伝導性が強くなり、電気抵抗の環境依存性が高くなる場合がある。そのため、後述する電子伝導性の導電剤の添加量を多くする必要があり、半導電性部材のロール硬度が高くなるなどの問題が生じる場合がある。
前記ゴム組成物は、構成する素材として、先に述べたように、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（Ａ成分）、ＮＢＲ（Ｂ成分）の他に、後述する電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）を必須成分とし、かつ、電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）の含有量は、ゴム成分である前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部（以下、適宜、「部」と略す。）に対して、１０〜８０部の範囲に設定される。好ましくは、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）は３０〜７０部の範囲である。電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）の含有量が１０〜８０部であると、得られる半導電性部材の、環境変化及び電圧の変化等に起因する電気抵抗の変動幅を効果的に小さくすることができる。
すなわち、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）の配合量が１０部未満では、前記変動幅に影響を与えるような電子伝導の効果がみられない。一方、８０部を超えると、前記半導電性ローラの硬度が硬くなり、転写部でのニップ圧が大きくなる問題が生じてしまう。
すなわち、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）の配合量が１０部未満では、前記変動幅に影響を与えるような電子伝導の効果がみられない。一方、８０部を超えると、前記半導電性ローラの硬度が硬くなり、転写部でのニップ圧が大きくなる問題が生じてしまう。
前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）としては、カーボンブラック、グラファイト、アルミニウム、ニッケル、銅合金などの金属または合金、酸化錫、酸化亜鉛、チタン酸カリム、酸化錫−酸化インジウムまたは酸化錫−酸化アンチモン複合酸化物などの金属酸化物などが挙げられるが、これらの中でも、カーボンブラックが好ましい。
電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）として好適なカーボンブラックは、これを添加したゴム組成物中において連鎖状に結合する性質があり、かかる連鎖結合の長さに応じてゴム組成物の抵抗値が異なったものになる。この連鎖結合が長ければ、半導電性弾性体層の導電性は向上しその抵抗値は低下する。一方、連鎖結合が短ければ、半導電性弾性体層の導電性は低下しその抵抗値は高くなる。すなわち、長い連鎖結合を形成するカーボンブラックを添加した場合は、所望の抵抗値を発現されるためのカーボンブラックの添加量は、短い連鎖結合を形成するカーボンブラックに比べて少なくすることができるが、抵抗値が大きく変化することになるので、半導電性弾性体層内の抵抗値のバラツキを低減することができない場合がある。
電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）として好適なカーボンブラックは、これを添加したゴム組成物中において連鎖状に結合する性質があり、かかる連鎖結合の長さに応じてゴム組成物の抵抗値が異なったものになる。この連鎖結合が長ければ、半導電性弾性体層の導電性は向上しその抵抗値は低下する。一方、連鎖結合が短ければ、半導電性弾性体層の導電性は低下しその抵抗値は高くなる。すなわち、長い連鎖結合を形成するカーボンブラックを添加した場合は、所望の抵抗値を発現されるためのカーボンブラックの添加量は、短い連鎖結合を形成するカーボンブラックに比べて少なくすることができるが、抵抗値が大きく変化することになるので、半導電性弾性体層内の抵抗値のバラツキを低減することができない場合がある。
また、本発明においては、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）が２種類以上の電子伝導性の導電剤からなることが好ましい。
更に、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）としては、２種類以上のカーボンブラックであることがより好ましい。この場合、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）としては、表面特性等の特性が異なる２種類のカーボンブラックを併用することが更に好ましい。
前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）を用いる場合、上述した連鎖結合の長さは、カーボンブラックの個々の粒子の粒径や表面活性度に依存しているが、これを示す指標の１つとして、ＤＢＰ（ジブチルフタレート）吸油量がある。本発明におけるＤＢＰ吸油量は、ＡＳＴＭ Ｄ２４１４−６ＴＴに定義されたＤＢＰ吸油量である。このＤＢＰ吸油量は、カーボンブラック１００ｇに吸収されるＤＢＰ量（ｍｌ）が多いか少ないかを表すものである。このＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックほど、長い連鎖結合を形成するものとされている。
本発明においては、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）に、１種類のカーボンブラックを用いる場合のＤＢＰ吸油量は５０〜２５０ｍｌ／１００ｇであることが好ましい。
更に、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）としては、２種類以上のカーボンブラックであることがより好ましい。この場合、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）としては、表面特性等の特性が異なる２種類のカーボンブラックを併用することが更に好ましい。
前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）を用いる場合、上述した連鎖結合の長さは、カーボンブラックの個々の粒子の粒径や表面活性度に依存しているが、これを示す指標の１つとして、ＤＢＰ（ジブチルフタレート）吸油量がある。本発明におけるＤＢＰ吸油量は、ＡＳＴＭ Ｄ２４１４−６ＴＴに定義されたＤＢＰ吸油量である。このＤＢＰ吸油量は、カーボンブラック１００ｇに吸収されるＤＢＰ量（ｍｌ）が多いか少ないかを表すものである。このＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックほど、長い連鎖結合を形成するものとされている。
本発明においては、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）に、１種類のカーボンブラックを用いる場合のＤＢＰ吸油量は５０〜２５０ｍｌ／１００ｇであることが好ましい。
また、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックのみをゴム組成物に添加して、弾性層の抵抗値を調整しようとすると、添加量の僅かな増減でも抵抗値が大きく変化することになる。そのため、カーボンブラックの添加量及び分散状態を厳密に規定しなくては、所定の抵抗値を弾性層に付与することができない場合がある。一方、ＤＢＰ吸油量の少ないカーボンブラックのみを添加して、弾性層の抵抗値を調整しようとすれば、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックのみを添加した場合よりも、カーボンブラックがゴム組成物中に略均一に分散するので、添加量の増減に伴う抵抗値の変化の割合は小さくなる。しかし、所定の抵抗値を弾性層に付与するためには、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックのみを添加する場合よりも、多量のカーボンブラックを添加する必要となる場合がある。その結果、ゴム組成物中のカーボンブラックの配合割合が高まることから、ゴム組成物をバンバリーミキサー、ニーダー等で混練する際に高粘度となるため加工が困難になる場合がある。また、得られた半導電性弾性体層が高硬度になる問題が発生する場合がある。
したがって、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）には、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックと、ＤＢＰ吸油量の少ないカーボンブラック、つまりＤＢＰ吸油量の異なる２種以上のカーボンブラックを併用することが特に好ましい。
したがって、前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）には、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックと、ＤＢＰ吸油量の少ないカーボンブラック、つまりＤＢＰ吸油量の異なる２種以上のカーボンブラックを併用することが特に好ましい。
前記電子伝導性の導電剤（Ｃ成分）に用いる吸油量の異なる２種以上のカーボンブラックは、ＤＢＰ吸油量に差があるものが好ましいが、この差があまりに小さいと、１種類のカーボンブラックを添加した場合と同じような結果を生じることになる。したがって、吸油量の異なる２種以上のカーボンブラックとしては、ある程度ＤＢＰ吸油量に差のあるものが好ましく、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックとしてＤＢＰ吸油量が２５０ｍｌ／１００ｇ以上であるカーボンブラックと、吸油量の少ないカーボンブラックとしてＤＢＰ吸油量が１００ｍｌ／１００ｇ以下のものを組み合せることが好ましい。また、ＤＢＰ吸油量の多いカーボンブラックとしては、ＤＢＰ吸油量が２５０ｍｌ／１００ｇ以上であることがより好ましく、吸油量の少ないカーボンブラックとしては、ＤＢＰ吸油量が１００ｍｌ／１００ｇ以下であることがより好ましい。
具体的には、前記吸油量の多いカーボンブラックとしては、例えば、吸油量４４７ｍｌ／１００ｇのＨＳ−５００（旭カーボン（株）製）、吸油量３６０ｍｌ／１００ｇのケッチェンブラック（ライオンアグゾ（株）製）、吸油量２８８ｍｌ／１００ｇの粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製）、吸油量２６５ｍｌ／１００ｇのバルカンＸＣ−７２（キャボット社製）等のカーボンブラックなどが挙げられる。また、前記吸油量の少ないカーボンブラックとしては、例えば、吸油量２８ｍｌ／１００ｇのアサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製）、吸油量３５ｍｌ／１００ｇのアサヒサーマルＭＴ（旭カーボン（株）製）等のサーマルブラックなどが挙げられる。
前記ゴム組成物には、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、架橋剤、充填剤、更に既述のように発泡剤等が、必要に応じて、適宜、配合される。本発明における半導電性弾性体層を構成する成分としては、イオン伝導性の導電剤を含まないことが好ましい。
前記架橋剤としては、特に限定するものではなく、従来公知のもの、例えばチオウレア、トリアジン、イオウ等が挙げられる。前記充填剤としては、シリカ、タルク、クレー、酸化チタン等の絶縁性の充填剤が挙げられ、これらは単独で若しくは併せて用いられる。
前記架橋剤としては、特に限定するものではなく、従来公知のもの、例えばチオウレア、トリアジン、イオウ等が挙げられる。前記充填剤としては、シリカ、タルク、クレー、酸化チタン等の絶縁性の充填剤が挙げられ、これらは単独で若しくは併せて用いられる。
本発明の半導電性部材における半導電性弾性体層は、例えば、前記ゴム組成物を構成する各成分を押出機によって均一に溶融混合して製造することができる。この際、予めタンブラー、Ｖ型ブレンダー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練ローラ等により、予め各成分を混合してから押出機により製造することができる。本発明における半導電性弾性体層の製造においては前記各成分の混合方法、混合の順序は特に限定されることはなく、成分の形状に応じてこれらの成分中の２種以上の溶融混合物に残りの成分を溶融混合する方法を用いることもできる。
以下、本発明の半導電性部材について、詳細に説明する。
本発明の半導電性部材における導電性支持体は、例えば、ＳＵＳ、ＳＵＭ等の金属からなることが好ましい。ローラ状の構造を有する半導電性部材であれば、導電性支持体は半導電性部材の軸方向を貫くように配され、半導電性部材の回転軸として機能することも可能である。また、導電性支持体には、外部電源が接続され、所望のバイアスが印加されるため、外部電源と共に半導電性部材への電圧印加手段としても機能する。
本発明の半導電性部材における導電性支持体は、例えば、ＳＵＳ、ＳＵＭ等の金属からなることが好ましい。ローラ状の構造を有する半導電性部材であれば、導電性支持体は半導電性部材の軸方向を貫くように配され、半導電性部材の回転軸として機能することも可能である。また、導電性支持体には、外部電源が接続され、所望のバイアスが印加されるため、外部電源と共に半導電性部材への電圧印加手段としても機能する。
前記半導電性弾性体層は、導電性支持体上に形成され、上述のように、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むゴム組成物で構成され、半導電性部材の用途により合わせ、硬度、表面特性（表面粗さ、摩擦係数）や電気特性（電気抵抗）等が調整される。かかる半導電性弾性体層の電気特性や表面特性等の諸条件を、適宜、調整することで、帯電手段、転写手段（中間転写方式における１次、２次の双方の転写手段も含む）、更には、除電手段等にも好適に用いることができる。
本発明の半導電性部材の好ましい表面特性としては、表面硬度がＪＩＳ Ｋ−７３１２に記載されているアスカＣ硬度で、１０°〜７０°の範囲に調整されることが好ましく、より好ましくは、帯電手段として用いる場合には、２０°〜７０°の範囲であり、転写手段として用いる場合には、１０°〜５０°の範囲である。
電気特性としては、半導電性弾性体層の体積抵抗値が１０3〜１０10Ωの範囲に調整されていることが好ましく、より好ましくは、帯電手段として用いる場合１０5〜１０8Ωの範囲に調整されていることであり、転写手段として用いる場合１０6〜１０10Ωの範囲に調整されていることである。
なお、半導電性弾性体層の体積抵抗値（Ｒ）は、ローラ状の半導電性部材を金属板などの上において、半導電性部材の両端部に各５００ｇの荷重をかけて、半導電性部材に１．０ｋＶ（Ｖ）の電圧を印加して、１０秒後の電流値Ｉ（Ａ）を読み取り、以下の式により計算することにより求められる。
Ｒ＝Ｖ／Ｉ
なお、半導電性弾性体層の体積抵抗値（Ｒ）は、ローラ状の半導電性部材を金属板などの上において、半導電性部材の両端部に各５００ｇの荷重をかけて、半導電性部材に１．０ｋＶ（Ｖ）の電圧を印加して、１０秒後の電流値Ｉ（Ａ）を読み取り、以下の式により計算することにより求められる。
Ｒ＝Ｖ／Ｉ
また、半導電性弾性体層の厚みとしては、一般的に、およそ２〜１２ｍｍに設定されることが好ましく、より好適な範囲は３〜５ｍｍである。
更に、半導電性弾性体層は、用途に応じて、表面特性や電気特性等が調整されていれば、その構成は限定されず、単層からなってもよいし、複数層からなってもよい。
更に、半導電性弾性体層は、用途に応じて、表面特性や電気特性等が調整されていれば、その構成は限定されず、単層からなってもよいし、複数層からなってもよい。
＜画像形成装置＞
以下、本発明の導電性部材を備える画像形成装置（本発明の画像形成装置）の１例を図を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。図１は、本発明の画像形成装置の１例を示す概略構成図である。図１に示すように、画像形成装置１１０は、静電潜像が形成される感光体ドラム（像担持体）１０１と、帯電手段としての帯電ローラ１０２と、レーザー光或いは原稿の反射光等の露光１０３と、感光体ドラム１０１の静電潜像にトナーを付着させる現像ローラ１０４と、帯電ローラ１０２に電圧を印加するための電源１０５と、感光体ドラム１０１上のトナー像を記録紙１０７に転写処理する、転写手段としての転写ローラ１０６と、給紙部から搬送されてきた記録紙１０７と、感光体ドラムをクリーニングするクリーニング装置１０８とからなる。帯電ローラ１０２や転写ローラ１０６は、画像形成装置に使用される帯電手段、転写手段として最も一般的なものであり、これらのローラ１０２及び１０６として上述した本発明の半導電性部材が好適に用いられる。
以下、本発明の導電性部材を備える画像形成装置（本発明の画像形成装置）の１例を図を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。図１は、本発明の画像形成装置の１例を示す概略構成図である。図１に示すように、画像形成装置１１０は、静電潜像が形成される感光体ドラム（像担持体）１０１と、帯電手段としての帯電ローラ１０２と、レーザー光或いは原稿の反射光等の露光１０３と、感光体ドラム１０１の静電潜像にトナーを付着させる現像ローラ１０４と、帯電ローラ１０２に電圧を印加するための電源１０５と、感光体ドラム１０１上のトナー像を記録紙１０７に転写処理する、転写手段としての転写ローラ１０６と、給紙部から搬送されてきた記録紙１０７と、感光体ドラムをクリーニングするクリーニング装置１０８とからなる。帯電ローラ１０２や転写ローラ１０６は、画像形成装置に使用される帯電手段、転写手段として最も一般的なものであり、これらのローラ１０２及び１０６として上述した本発明の半導電性部材が好適に用いられる。
以上のように構成された画像形成装置における基本的な作像動作について説明する。
まず、感光体ドラム１０１の表面を、該感光体ドラム１０１に接触し、かつ、所定の電圧を高圧電源１０５から給電されている帯電ローラ１０２によって一様に高電位に帯電させる。
その直後、感光体ドラム１０１の表面に画像光（露光１０３）が照射されると、照射された部分は電位が低下することになる。画像光は画像の黒／白に応じた光量の分布であるため、画像光の照射によって感光体ドラム１０１の表面に記録画像に対応する電位分布、すなわち静電潜像が形成される。
そして、静電潜像が形成された部分が、現像ローラ１０４との接触部分を通過すると、その電位の高低に応じてトナーが付着し、静電潜像を可視像化したトナー像が形成される。
まず、感光体ドラム１０１の表面を、該感光体ドラム１０１に接触し、かつ、所定の電圧を高圧電源１０５から給電されている帯電ローラ１０２によって一様に高電位に帯電させる。
その直後、感光体ドラム１０１の表面に画像光（露光１０３）が照射されると、照射された部分は電位が低下することになる。画像光は画像の黒／白に応じた光量の分布であるため、画像光の照射によって感光体ドラム１０１の表面に記録画像に対応する電位分布、すなわち静電潜像が形成される。
そして、静電潜像が形成された部分が、現像ローラ１０４との接触部分を通過すると、その電位の高低に応じてトナーが付着し、静電潜像を可視像化したトナー像が形成される。
更に、トナー像が形成された部分に、所定のタイミングでレジストローラにより記録紙１０７が搬送され、前記トナー像に重なる。
このトナー像が、転写ローラ１０６によって記録紙１０７に転写された後、該記録紙１０７は、感光体ドラム１０１から分離される。分離された記録紙は搬送経路を通って搬送され、定着ユニットによって、熱加圧定着されたあと、機外へ排出される。
また、前記転写終了後、感光体ドラム１０１の表面は、クリーニング装置１０８によりクリーニング処理され、次回の作像処理に備える。
このトナー像が、転写ローラ１０６によって記録紙１０７に転写された後、該記録紙１０７は、感光体ドラム１０１から分離される。分離された記録紙は搬送経路を通って搬送され、定着ユニットによって、熱加圧定着されたあと、機外へ排出される。
また、前記転写終了後、感光体ドラム１０１の表面は、クリーニング装置１０８によりクリーニング処理され、次回の作像処理に備える。
このような画像形成装置において、上述した本発明の半導電性部材を帯電ローラ及び／又は転写ローラとして用いると、電界依存性や環境依存性の少ない、優れた電気的特性のため、高品質な画像を安定して供給することが可能となる。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はその要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はその要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１を得た。
［実施例１］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１の硬度について測定した結果、前記ＪＩＳ Ｋ−７３１２に記載されるアスカＣ硬度は３５°であった。また、半導電性部材Ｒ−１の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を既述の方法で測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めたところ８．４０（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１について、（１）実機評価（転写性）、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
（１）転写性評価
転写性は、図１に示す画像形成装置を作製（転写ローラ１０６に得られた半導電性部材を用いた）し、実際に印刷を行って評価した。高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）、常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）、及び低温低湿環境（１０℃、１５％ＲＨ）のそれぞれの環境で、転写ローラに印加する電圧を上げていき、トナーを転写することができる電流の下限を下限の電流値とし、リトランスファーや異常放電等によるディフェクトの発生がない電流の上限を上限の電流値とし、その差を求め転写電流の範囲とした。評価指標は以下の通りである。
◎：転写電流の範囲が７μＡ以上（転写性あり）
○：転写電流の範囲が５μＡ以上７μＡ未満（転写性あり）
△：転写電流の範囲が２．５μＡ以上５μＡ未満（転写性あり）
×：転写電流の範囲が２．５μＡ未満
得られた半導電性部材Ｒ−１について、（１）実機評価（転写性）、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
（１）転写性評価
転写性は、図１に示す画像形成装置を作製（転写ローラ１０６に得られた半導電性部材を用いた）し、実際に印刷を行って評価した。高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）、常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）、及び低温低湿環境（１０℃、１５％ＲＨ）のそれぞれの環境で、転写ローラに印加する電圧を上げていき、トナーを転写することができる電流の下限を下限の電流値とし、リトランスファーや異常放電等によるディフェクトの発生がない電流の上限を上限の電流値とし、その差を求め転写電流の範囲とした。評価指標は以下の通りである。
◎：転写電流の範囲が７μＡ以上（転写性あり）
○：転写電流の範囲が５μＡ以上７μＡ未満（転写性あり）
△：転写電流の範囲が２．５μＡ以上５μＡ未満（転写性あり）
×：転写電流の範囲が２．５μＡ未満
（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）
半導電性部材Ｒ−１の体積抵抗値（Ｒ）の面内バラツキは以下の方法により求めた。
まず、ローラ状の半導電性部材Ｒ−１を周方向に６０分割、軸方向に１０分割して、計６００ポイントに体積抵抗値を測定した。具体的には、半導電性部材１００を３０ｒｐｍで回転させながら、荷重５０ｇで、幅３．５ｍｍ、外径１０ｍｍの電極５０と半導電性部材１００の導電性支持体１０との間に電圧５００Ｖ（Ｖ）を印加しながら、電流値（Ｉ）を読み取り、Ｒ＝Ｖ／Ｉの関係より、体積抵抗値を求めた。そして、求められた体積抵抗値の常用対数値の最大値と最小値の差を面内バラツキの指標とした。なお、面内バラツキは、１．０（ｌｏｇΩ）以内であることが好ましい。
半導電性部材Ｒ−１の体積抵抗値（Ｒ）の面内バラツキは以下の方法により求めた。
まず、ローラ状の半導電性部材Ｒ−１を周方向に６０分割、軸方向に１０分割して、計６００ポイントに体積抵抗値を測定した。具体的には、半導電性部材１００を３０ｒｐｍで回転させながら、荷重５０ｇで、幅３．５ｍｍ、外径１０ｍｍの電極５０と半導電性部材１００の導電性支持体１０との間に電圧５００Ｖ（Ｖ）を印加しながら、電流値（Ｉ）を読み取り、Ｒ＝Ｖ／Ｉの関係より、体積抵抗値を求めた。そして、求められた体積抵抗値の常用対数値の最大値と最小値の差を面内バラツキの指標とした。なお、面内バラツキは、１．０（ｌｏｇΩ）以内であることが好ましい。
（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）
半導電性部材Ｒ−１の低温低湿環境（１０℃、１０％ＲＨ）及び高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）における体積抵抗値を、上述した測定方法により測定し、その体積抵抗値の常用対数値の差を求め、環境変動幅の指標とした。なお、環境変動幅が１．０（ｌｏｇΩ）以内であることが好ましい。
半導電性部材Ｒ−１の低温低湿環境（１０℃、１０％ＲＨ）及び高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）における体積抵抗値を、上述した測定方法により測定し、その体積抵抗値の常用対数値の差を求め、環境変動幅の指標とした。なお、環境変動幅が１．０（ｌｏｇΩ）以内であることが好ましい。
［実施例２］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−２の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−２を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）４２質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−２を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−２の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−２を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）４２質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−２を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−２の硬度について実施例１と同様の方法により測定した。その結果、アスカＣ硬度は３６°であった。また、半導電性部材Ｒ−２の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様の方法により測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めたところ８．２１（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−２について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−２について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例３］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−３の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−３を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−３を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−３の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−３を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−３を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−３の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３７°であった。また、半導電性部材Ｒ−３の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．３９（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−３について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−３について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例４］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−４の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−４を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）４０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）６０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−４を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−４の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−４を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）４０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）６０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−４を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−４の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３２°であった。また、半導電性部材Ｒ−４の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．０６（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−４について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−４について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例５］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−５の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−５を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１３質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）１４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−５を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−５の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−５を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１３質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）１４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−５を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−５の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３７°であった。また、半導電性部材Ｒ−５の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．４２（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−５について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−５について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例６］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−６の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−６を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９、ムーニー粘度：２７）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）５質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）７０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−６を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−６の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−６を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９、ムーニー粘度：２７）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）５質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）７０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−６を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−６の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３９°であった。また、半導電性部材Ｒ−６の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．３６（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−６について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−６について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例７］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−７の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−７を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーを用いて混練した。その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−７を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−７の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−７を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーを用いて混練した。その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−７を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−７の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は５５°であった。また、半導電性部材Ｒ−７の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．１０（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−７について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−７について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例８］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−８の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−８を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３３質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−８を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−８の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−８を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３３質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−８を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−８の硬度について測定した結果、前記アスカＣ硬度は４０°であった。また、半導電性部材Ｒ−８の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を既述の方法で測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めたところ、８．４６（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−８について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−８について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。結果を表１に示す。
［実施例９］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−９の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−９を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）４７質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−９を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−９の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−９を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）４７質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−９を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−９の硬度について実施例１と同様の方法により測定した。その結果、アスカＣ硬度は４４°であった。また、半導電性部材Ｒ−９の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様の方法により測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めたところ、８．２８（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−９について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値のの環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−９について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値のの環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例１０］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１０の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１０を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径は１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１０を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１０の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１０を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）８質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３４質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径は１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１０を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１０の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は４２°であった。また、半導電性部材Ｒ−１０の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．３９（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１０について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１０について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例１１］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１１の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１１を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）４０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）６０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１１を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１１の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１１を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）４０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）６０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）５０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１１を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１１の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は４３°であった。また、半導電性部材Ｒ−１１の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．０１（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１１について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１１について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［実施例１２］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１２の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１２を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１３質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）１５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１２を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１２の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１２を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１３質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）１５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１２を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１２の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は４１°であった。また、半導電性部材Ｒ−１２の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．４０（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１２について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１２について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［実施例１３］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１３の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１３を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）５質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）７０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１３を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１３の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１３を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製ＤＮ２１１、ムーニー粘度：４６）５０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）５質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）７０質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１３を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１３の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は５５°であった。また、半導電性部材Ｒ−１３の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を、実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．３６（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１３について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１３について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［比較例１］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１４の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１４を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、アサヒサーマルＭＴ（旭カーボン（株）製：吸油量３５ｍｌ／１００ｇ）１００質量部と、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーで混練した。その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−１４を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１４の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１４を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、アサヒサーマルＭＴ（旭カーボン（株）製：吸油量３５ｍｌ／１００ｇ）１００質量部と、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加え、オープンローラーで混練した。その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−１４を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１４の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は６０°であった。また、半導電性部材Ｒ−１４の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．４４（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１４について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１４について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［比較例２］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１５の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した。転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１５を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、イオン伝導性の導電剤として、過塩素酸アンモニウム５．５質量部と、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−１５を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１５の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に半導電性発泡弾性層を形成した。転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１５を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）５０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）５０質量部とを混合し、イオン伝導性の導電剤として、過塩素酸アンモニウム５．５質量部と、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの導電性部材Ｒ−１５を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１５の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３０°であった。また、半導電性部材Ｒ−１５の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．００（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１５について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１５について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［比較例３］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１６の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上にを半導電性発泡弾性層を形成し、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１６を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン３１０１）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１６を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１６の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上にを半導電性発泡弾性層を形成し、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１６を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン３１０１）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、電子伝導性の導電剤として、粒状アセチレンブラック（電気化学（株）製：吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）１０質量部、及び、アサヒサーマルＦＴ（旭カーボン（株）製：吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）３５質量部を併用し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で加硫・発泡させた後研磨し、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径が１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１６を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１６の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３４°であった。また、半導電性部材Ｒ−１６の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、７．８０（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１６について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１６について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
［比較例４］
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１７の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に、半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１７を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、ケッチェンブラック（ライオンアグゾ（株）製：吸油量３６０ｍｌ／１００ｇ）４質量部を添加し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させ、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径は１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１７を得た。
（転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１７の作製）
ステンレススチール製の芯軸（８ｍｍφの導電性支持体）上に、半導電性発泡弾性層を形成した、転写ローラとしての半導電性部材Ｒ−１７を作製した。
具体的には、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体（日本ゼオン株式会社製ゼクロン１１００）６０質量部とアクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２２３、ムーニー粘度：３５）４０質量部とを混合し、電子伝導性の導電剤として、ケッチェンブラック（ライオンアグゾ（株）製：吸油量３６０ｍｌ／１００ｇ）４質量部を添加し、更に、加硫剤として、硫黄（鶴見化学工業社製、２００メッシュ）１質量部と、加硫促進剤（大内新興化学工業社製、ノクセラ−Ｍ）１．５質量部と、発泡剤として、ベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部とを加えオープンローラーを用いて混練し、その混練した混合物を芯軸に巻き付け、１６０℃で２０分間加硫缶で、加硫・発泡させ、５．５ｍｍ厚の半導電性弾性体層を形成し、外径は１９ｍｍの半導電性部材Ｒ−１７を得た。
得られた半導電性部材Ｒ−１７の硬度について実施例１と同様に測定した。その結果、アスカＣ硬度は３１°であった。また、半導電性部材Ｒ−１７の常温・常湿環境（２２℃、５５％ＲＨ）での体積抵抗値を実施例１と同様に測定し、体積抵抗値の常用対数値を求めた。その結果、８．０９（ｌｏｇΩ）であった。
（評価）
得られた半導電性部材Ｒ−１７について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
得られた半導電性部材Ｒ−１７について、実施例１と同様の方法及び条件で、（１）転写性評価、（２）体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキの幅（ｌｏｇΩ）、（３）体積抵抗値の常用対数値の環境変動幅（ｌｏｇΩ）の評価を行った。その結果を表２に示す。
表１及び２から明らかなように、実施例１〜１３の半導電性部材Ｒ−１〜Ｒ−１３は、転写ロ−ラとして用いた場合に、アスカＣ硬度が低く、転写部で安定したニップ幅を確保することができるため、転写性が良好であるものと推測される。また、常温・常湿環境（Ｎ／Ｎ環境）での体積抵抗値も転写ローラとして好ましい範囲である。更に、体積抵抗値の常用対数値の環境変動が１．０（ｌｏｇ値）以内と少なく、面内バラツキは、１．０（ｌｏｇ値）以内であり、良好な結果が得られた。一方、比較例１の導電性部材Ｒ−１４は、ローラ硬度（アスカＣ硬度）が硬いために転写部で安定したニップ幅を確保することができず、いずれの環境においても転写性が悪いと推測される。比較例２の半導電性部材Ｒ−１５、及び比較例３の半導電性部材Ｒ−１６は、体積抵抗値の常用対数値の環境変動が大きく、低温・低湿環境下での安定した転写性が得られなかった。また、比較例４の半導電性部材Ｒ−１７は、体積抵抗値の常用対数値の面内バラツキが大きいために転写性が悪いと推測される。
１０１ 感光体ドラム（像担持体）
１０２ 帯電ローラ（帯電手段）
１０３ 露光
１０４ 現像ローラ
１０５ 電源
１０６ 転写ローラ（転写手段）
１０７ 記録紙（転写材）
１０８ クリーニング装置
１１０ 画像形成装置
１０２ 帯電ローラ（帯電手段）
１０３ 露光
１０４ 現像ローラ
１０５ 電源
１０６ 転写ローラ（転写手段）
１０７ 記録紙（転写材）
１０８ クリーニング装置
１１０ 画像形成装置
Claims (6)
- 導電性支持体の外周に少なくともゴム組成物で構成される半導電性弾性体層が形成されてなる半導電性部材であって、
前記ゴム組成物が、下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分とし、かつ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を１０〜８０質量部の範囲で含有することを特徴とする半導電性部材。
（Ａ）エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル２元系共重合体
（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）
（Ｃ）電子伝導性の導電剤 - 前記（Ｂ）成分のムーニー粘度が４０以下であることを特徴とする請求項１に記載の半導電性部材。
- 前記半導電性弾性体層が、発泡体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導電性部材。
- 前記ゴム組成物が、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量１００質量部に対して、前記（Ｃ）成分を３０〜７０質量部の範囲で含有することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の半導電性部材。
- 前記ゴム組成物における前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との配合比が、質量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝８０／２０〜２０／８０の範囲であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の半導電性部材。
- 請求項１〜５の何れか１項に記載の半導電性部材を備えてなることを特徴とする画像形成装置。
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