JP2005175255A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光光源から被露光基板に至る露光光の光路上に位置する反射ミラーまたは原版への露光光の非入射時に、反射ミラーまたは原版面を、輻射温調ヒーターでプリヒート温調することで、露光開始時の反射ミラーまたは原版面の温度変化を抑制し、反射ミラーまたは原版面パターンの歪発生を抑制し、露光開始時のミラー温度変化に伴う収差悪化および原版のパターン歪発生を抑制する。
また、投影光学系の光軸調整時または反射ミラー収差調整時に、反射ミラーを輻射温調ヒーターでプリヒート温調することで、露光動作時と均等な状態での光軸調整または収差調整を可能とし、露光開始時のミラー温度変化に伴う収差悪化および原版のパターン歪発生を抑制する。
【選択図】図2
Description
3は露光装置全体を格納する真空チャンバーで、真空ポンプ4により真空状態を維持することが可能である。5は光源発光部2からの露光光を導入して成形する露光光導入部で、ミラー5A〜5Dにより構成され、露光光を均質化し、かつ整形する。
また、レチクルステージ支持体9と投影系支持体10とウエハステージ支持体11には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント(不図示)が設けられている。
このようにミラー面精度が悪化すると、投影系の場合ウエハへの結像性能の悪化および照度低下を招く。さらに照明系の場合マスクへの目標照度低下および照度ムラ悪化を招き、光源ミラーの場合は光源の集光不良等照度悪化を招く結果となる。これらは、総じて露光装置の露光精度およびスループット等の基本性能の劣化につながる
本発明は、上述の従来例における問題点を解消することを課題とする。
上記第1〜3の露光装置は、互いに相違する部分を適宜組み合わせて用いることも可能である。
[実施態様1]原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、投影光学系あるいは投影光学系に露光光を供給する照明光学系あるいは露光光源部に設けられた反射ミラーに対し離間した位置に輻射温調手段を設け、非露光時と露光時の該反射ミラー温度変化に略同期して輻射温調手段の温度を可変とすることを特徴とする露光装置。
[実施態様2]原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、原版面から離間した位置に輻射温調手段を設け、非露光時と露光時の該原版温度変化に略同期して、輻射温調手段の温度を可変とすることを特徴とする露光装置。
[実施態様3]実施態様1または2に示す露光装置で、該輻射温調手段の設定温度を、露光量あるいは露光画角あるいは露光時間あるいはその他の該反射ミラーまたは原版の温度を変える露光条件変数により、可変としたことを特徴とする露光装置。
[実施態様4]実施態様2に示す露光装置で、原版ステージの露光光導入部位以外の原版から離間した位置に該輻射温調手段を設け、非露光時に原版ステージにより原版を該輻射手段に対向した位置に移動させ、輻射温調することを特徴とする露光装置。
[実施態様5]実施態様4に示す露光装置で、非露光時に原版を該輻射手段に対向した位置に移動させ温調する際に、原版ステージを該輻射温調手段に対して略原版面内で移動動作させることを特徴とする露光装置。
[実施態様7]実施態様6に記載の露光装置で、該輻射温調手段と該光軸計測手段あるいは該波面収差計測手段の計測値から、反射ミラー位置補正駆動手段あるいは反射ミラー形状補正手段の補正駆動量を算出制御することを特徴とする露光装置。
また、投影光学系の光軸調整時あるいは反射ミラー収差調整時に、反射ミラーを例えば輻射温調ヒーターでプリヒート温調することで、露光動作時と均等な状態での光軸調整あるいは収差調整を可能とし、露光開始時のミラー温度変化に伴う収差悪化および原版のパターン歪発生を抑制することができる。
[第1の実施例]
図1は、本発明の一実施例に係るEUV露光装置の全体構成を示す概略図である。この露光装置は、上記した従来例に対し、図2に示すように、投影系ミラー7Cに対して離間した位置で輻射温調するミラー温調手段23、投影系ミラー7Eに対して離間した位置で輻射温調するミラー温調手段24、ミラー7Cの温度を計測するミラー温度検出手段25、ミラー7Eの温度を計測するミラー温度検出手段26およびミラー温度検出手段25、26からの温度計測値に従いミラー温調手段23、24の設定温度を決める温度制御手段を設けたものである。他の部分は上記従来例と同様に構成される。以下、主に上記従来例と異なる部分について説明する。
それぞれのミラーへの単位時間あたりの露光時入射光量予測から、各ミラーの温度上昇予測値を算出し、非露光時に、ミラー温調手段23および24の設定温度を、T7およびT6に設定する。このとき、各ミラーの温度は、それぞれミラー温度検知手段25により温度T5、ミラー温度検出手段26により温度T4で示される。ミラー7Cおよび7Eの非露光時の温度が露光時の温度T5およびT4とならないときは、ミラー温度検知手段25および26の計測値温度に基づいて、ミラー温調手段23および24の設定温度を、負帰還制御する。または、過去の露光履歴と温度履歴に基づいてミラー温調手段23および24の設定温度をT7およびT6から補正してもよい。
第2の実施例を図3に示す。ここでは、露光装置本体上で、縮小投影ミラー光学系7の光軸調整あるいは反射ミラーの収差調整を行う際に、各ミラーの輻射温調を行う例を示す。図3において、ミラー7Aと7Dに対しては、ミラー温調手段28が離間して設けられている。ミラー7Bに対しては、ミラー温調手段37Bが離間して設けられている。ミラー7Cに対しては、ミラー温調手段23が離間して設けられている。ミラー7Eに対してはミラー温調手段24が離間して設けられている。
また、各ミラー7A〜7Eには、それぞれミラー温度検知手段29A、37A、25、29Dおよび26が設けられ、各ミラー温度検知手段からの温度計測値は、温度制御手段27に集められる。
33は光軸&波面計測受光センサー32からの信号から光軸および波面収差を演算する波面計測値演算回路、34は波面計測値演算回路33にて算出された光軸ずれおよび収差残差からミラー補正駆動量を演算するミラー補正駆動テーブル演算回路、35はミラー補正駆動テーブル演算回路34からの補正駆動信号からミラーに対して補正駆動するミラー補正駆動手段で、ミラー支持アクチュエーター(不図示)をXYZ方向に微動させることにより、ミラー面の面内並進シフト方向の補正ならびに微小変位および回転軸倒れの補正を可能にする。36はミラー補正駆動量を検出するミラー計測手段である。
上記のように、各ミラー温度を露光時と同等状態で、光軸および収差調整を行うことにより、露光時の状態で安定した光軸および収差を満たすことができる。すなわち、本実施例によれば、投影光学系の光軸調整時あるいは反射ミラー収差調整時に、反射ミラーを輻射温調ヒーターでプリヒート温調することで、露光動作時状態での光軸調整あるいは収差調整が可能になり、露光時の収差発生および変化の少ない露光装置を実現する効果がある。
本発明の第3の実施例を図4〜図7に示す。上記第1および第2の実施例では、投影系ミラーの非露光時温調に関して本発明を実施したが、本発明は原版に対しても適用可能である。本実施例では、図4(1)に示すように、レチクルステージ6のレチクルアライメントスコープ15の設けられている方向の退避位置に対向する部分に離間して、温調輻射板38を設ける。
図4を参照して、原版(レチクル)6Aと原版(レチクル)6Dを交換する際、図4(1)に示すように、レチクルアライメントハンド14上に原版(レチクル)6Dが保持され、原版(レチクル)6Aを搭載したレチクルチャックスライダー6Bが交換位置に移動する。
レチクルアライメントハンド14Aは、レチクルアライメントユニット14により、図4(1)の状態から図4(2)に示すように、上方へ移動した後、原版(レチクル)6Aをレチクルチャックスライダー6Bのレチクルチャック6Eから受け渡され、下方へ退避後回転動作を行い、図4(3)に示すように、原版の交換作業が完了する。
図5(1)に示すように、レチクルアライメントハンド14Aに設けられたレチクルアライメント静電チャック(不図示)により吸着搬送された、原版(レチクル)6Dのアライメント動作を行う。すなわち、原版(レチクル)6Dの位置誤差を、レチクルアライメントマーク15Aとの相対位置合わせ誤差からレチクルアライメントスコープ15で計測検出して、原版アライメント制御回路37により、レチクルアライメントユニット14が駆動制御され、レチクルアライメントハンド14AによりXY(面内方向)およびωZ(Z軸回転方向)にアライメント動作が行われることにより、原版(レチクル)6Dのアライメントが行われる。原版(レチクル)6Dのアライメントが終了した時点で、レチクルチャックスライダー6Bのレチクルチャック(静電チャック)6Eにより、原版(レチクル)6Dの裏面(上面)をクーロン力あるいはジョンソンラーベック力により吸着クランプする。
また、原版(レチクル)6Dがレチクルチャックスライダー6Bに吸着クランプされた状態で、原版(レチクル)6Dの温度を検知する手段として、レチクルチャックスライダー6B部にレチクル&レチクルチャックスライダー温度検出手段6G(図6(1)参照)が設けられている。
原版(レチクル)6Dを温調輻射板38に対向する位置に移動させ、レチクルチャックスライダー6Bに設けられたレチクル&レチクルチャックスライダー温度検出手段6Gにて原版(レチクル)6Dの温度を計測し、その計測値をレチクル&レチクルチャックスライダー温度検知回路39に伝送して補正温度量を算出する。同時に露光制御手段41の有する、原版(レチクル)に入射する露光量情報から原版(レチクル)への入射熱量情報を予測し、両情報から非露光時の原版(レチクル)6Dの温調設定温度をレチクル輻射温調制御手段40にて決定し、レチクル輻射温調手段42にて温調輻射板38の温度を制御する。
温調輻射板38から原版(レチクル)6Dの露光光入射領域となる有効パターン領域への輻射温調を均一に行うために、レチクルチャックスライダー6Bを温調輻射板38に対して往復移動させる。
結果として、原版(レチクル)の歪および形状変化が非露光時から露光開始時にかけて過渡的に発生する現象を防ぐことができ、原版(レチクル)パターンの倍率変動等の発生を防ぐことができる。
上記した第3の実施例では、比較的小型の温調輻射板38に対し、原版(レチクル)を往復移動させて均一温調を行ったが、図8(1)に示すように、原版(レチクル)退避位置の離間対向位置に、原版(レチクル)パターン有効面積に対応した比較的大型の温調輻射板43を設けることにより、原版(レチクル)6Dを静止させながら温調することも可能である。
上記した第1〜第4の実施例では、ミラー温度およびマスク温度をプリヒートする手段として、輻射温調手段を用いているが、他にミラー温度およびマスク温度を一定に保つ手段として、基板(ウエハ)が無い非露光時に露光光を空打ちすることにより、ミラー温度およびマスク温度を露光時相当にプリヒートすることも可能である。その際には、原版(レチクル)ステージも、露光時と略同一動作を行うことにより、原版(レチクル)のプリヒート温調を行うことが可能となる。
次に上記説明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図9は微小デバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行う。ステップ2(マスク製作)では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
Claims (7)
- 露光光源と、該露光光源からの露光光により原版を照明する照明光学系と、原版面に描かれたパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、
前記露光光源から前記基板に至る露光光の光路上に配置された光学素子または原版のうち少なくとも1つに対して離間した位置からその光学素子または原版を温調する輻射温調手段と、該温調対象の光学素子または原版への前記露光光の入射および非入射のタイミングに応じて前記輻射温調手段の温度を可変する温調制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記温調制御手段は、露光量、露光画角および露光時間を含む前記温調対象光学素子または原版の温度を変える露光条件変数の少なくとも1つに基づいて前記輻射温調手段の設定温度を可変制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 原版を搭載して移動可能な原版ステージと、露光光源と、該露光光源からの露光光により露光位置における原版ステージ上の原版を照明する照明光学系と、原版面に描かれたパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、
前記原版ステージ上の原版が露光位置以外の所定位置に位置したとき、該原版に対して離間した位置から該原版を温調する輻射温調手段を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記原版ステージは、前記原版を前記所定位置で輻射温調する際に、該原版と前記輻射温調手段とを該原版のパターン面と実質平行に相対移動させることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 露光光源と、該露光光源からの露光光により原版を照明する照明光学系と、原版面に描かれたパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、
前記露光光源から前記基板に至る露光光の光路上に配置された光学素子のうち少なくとも1つに対して離間した位置からその光学素子を温調可能な輻射温調手段と、該温調対象素子の光軸または波面収差を計測する手段と、非露光時に該温調対象素子の光軸または波面収差の調整を行う際に前記輻射温調手段による該温調対象素子の温調を行わせる温調制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記温調制御手段は、前記光軸または波面収差を計測する手段の計測値から、前記温調対象素子の位置を補正駆動する手段または該温調対象素子の形状を補正する手段と、その補正量を算出制御する手段とを備えることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 請求項1〜6のいずれか1つに記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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