JP2005175120A - コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 コンデンサとして、優れた耐熱性を有し、薄型で、高い静電容量を持たせるようにする。
【解決手段】 ガラス、セラミック等の電気絶縁性を有し、耐熱性のある基板1上に、真空蒸着手段によって、第1の導電膜2、誘電体膜3、第2の導電膜4を成膜するが、第1,第2の導電膜2,4は広い面積を有する電極板部2a,4aと、端子部2b,4bとを有するものであり、誘電体膜3は少なくとも第1の導電膜2の電極板部2a,4aを完全に覆うようになし、誘電体膜3は前述した端子部2b,4bが形成されている部位を露出するようにして積層される。
【選択図】 図2
【解決手段】 ガラス、セラミック等の電気絶縁性を有し、耐熱性のある基板1上に、真空蒸着手段によって、第1の導電膜2、誘電体膜3、第2の導電膜4を成膜するが、第1,第2の導電膜2,4は広い面積を有する電極板部2a,4aと、端子部2b,4bとを有するものであり、誘電体膜3は少なくとも第1の導電膜2の電極板部2a,4aを完全に覆うようになし、誘電体膜3は前述した端子部2b,4bが形成されている部位を露出するようにして積層される。
【選択図】 図2
Description
本発明は、コンデンサ及びその製造方法に関し、特に耐熱性が良好で、しかも薄型で大容量のコンデンサ及びその製造方法に関するものである。
コンデンサは、電極板を誘電体で挟むように構成した電子部品であり、その静電容量(C)は、周知のように、C=ε0×ε×S÷d(ε0=真空の誘電率、ε=誘電体の比誘電率、S=電極板の面積、d=電極間の距離)という式で表される。ここで、ε0は一定であるから、静電容量(C)を大きくするには、εまたはSを大きくするか、若しくはdを小さくすれば良い。そして、大きな静電容量を有するコンデンサとしては、薄いプラスチックフィルムの表面にアルミニウムを蒸着し、これを巻回させて円筒状の容器に油と共に封入するように構成したものが従来から広く用いられている。
小型でコンパクトな構成により高い静電容量を持つコンデンサとして、例えば電気二重層コンデンサが従来から知られている(例えば、特許文献1参照)。この電気二重層コンデンサは、正極積層帯と負極積層帯との間に電解液に含浸保持されたセパレータが設けられ、これら正極積層帯、セパレータおよび負極積層帯が巻回されて電極巻回体を構成する。このように、正極積層帯、セパレータおよび負極積層帯から構成される電極巻回帯を巻回することにより、高い静電容量の確保およびコンデンサの小型化を行っている。
特開2002−134370号公報
しかしながら、以上のような電気二重層コンデンサに用いられるセパレータとしては、一般にプラスチックフィルムや油などを用いているため、耐熱性に劣り、高温状態で使用されると焼損のおそれがあり、また一度焼損してしまったものは、常温状態に戻ってもコンデンサとしての機能を果たすことができないという問題点がある。また、誘電体としてフィルムを用いていることから、ある程度の厚みを有し、電極間距離を短縮するのに限界がある等といった課題もある。さらに、前述したように、ウエットタイプのコンデンサとして構成する場合には、液漏れを防止するために、シール機構を設けなければならず、このためにコンデンサの構成が複雑になる等といった不都合もある。
本発明では、以上のような問題点に鑑み、基板上にコンデンサを構成する誘電体及び電極部材を真空蒸着による成膜手段により順次積層するようにしてコンデンサを形成することにより、コンデンサに優れた耐熱性を付与し、またその容積の小型化が図られ、さらに高い静電容量の確保を実現するコンデンサを提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために、本発明によるコンデンサは、耐熱性に優れ、電気絶縁性を有する基板と、真空蒸着手段によって基板上に形成され、電極板部と端子部とからなる第1の導電膜と、前記第1の導電膜の電極板部全体を覆い、かつ前記端子部を露出させるようにして真空蒸着手段によって、この第1の導電膜上に積層される誘電体膜と、前記誘電体膜上に真空蒸着手段により積層され、前記第1の導電膜における電極板部と短絡しないようにして対向配設される電極板部と、前記第1の導電膜に形成した端子部とは異なる位置に配置された端子部とからなる第2の導電膜とから構成したことをその特徴としている。
要するに、本発明においては、コンデンサを構成する相対向する電極板及びその間の距離を形成するための誘電体を、いずれも真空蒸着による成膜手段で構成している。そして、最外層を構成する第2の導電膜は露出させたままにするのではなく、この第2の導電膜上に、さらにこの第2の導電膜の電極板部全体を覆い、かつ第1,第2の導電膜の端子部を露出させるようにして誘電体膜を真空蒸着手段により積層する構成とするのが望ましい。そして、静電容量を大きくするには、第1の導電膜と、この第1の導電膜に積層される誘電体膜と、第2の導電膜と、この第2の導電膜に積層される誘電体膜とを1つの蒸着膜積層ユニットとして、基板上に複数の蒸着膜積層ユニットを形成することができ、さらにこの複数の蒸着膜積層ユニットは、基板の片面だけでなく、両面に形成すると、さらに静電容量を大きくすることができる。そして、これらにおいて、基板の表面に直接第1の導電膜を形成するようにしても良いが、コンデンサと、その基板との間を隔離した状態に保持するために、下地となる誘電体膜を形成する構成とすることもできる。
また、本発明におけるコンデンサの製造方法としては、耐熱性に優れ、電気絶縁性を有する基板上に、真空蒸着手段を用いて、電極板部と端子部とを有するように第1の導電膜を形成し、この第1の導電膜上には、真空蒸着手段によって、その電極板部全体を覆い、かつ前記端子部を露出させるように誘電体膜を積層し、さらにこの誘電体膜上に真空蒸着を行うことによって、前記第1の導電膜における電極板部と短絡しないようにして対向配設される電極板部と、前記第1の導電膜に形成した端子部とは異なる位置に配置された端子部とが形成されるようにして第2の導電膜を積層させることをその特徴としている。そして、これら第1の導電膜、誘電体膜及び第2の導電膜を蒸着する際には、蒸着領域を限定するためにマスク手段を用いるのが望ましい。
このコンデンサの製造方法において、基板に下地用の誘電体膜を真空蒸着手段で形成し、次いで順次前記第1の導電膜と、この第1の導電膜に積層される誘電体膜と、第2の導電膜と、この第2の導電膜に積層される誘電体膜とを積層させることにより1つの蒸着膜積層ユニットとなし、この蒸着膜積層ユニットを複数ユニット形成することもでき、また基板の両面にこれら複数の蒸着膜積層ユニットを形成しても良い。そして、基板の両面に複数の蒸着膜ユニットを形成する場合には、真空蒸着による成膜は、基板の一側面と他側面とに交互に行うようにすれば、基板に対する応力が増大するのを防止できるようになる。
基板の材料としては、ガラス,セラミック,合成樹脂等、電気絶縁性を有する部材が望ましいが、表面に絶縁処理が施されておれば、例えば金属等の導電部材で形成することもできる。また、第1,第2の導電膜は、蒸着可能な金属であれば良く、例えば白金,金,銀,パラジウム及びそれらの合金、銅,アルミニウム,ニッケル及びそれらの合金等が好適である。また、透明なコンデンサを形成するには、ITO(Indium Tin Oxide)を用いることができる。一方、下地を含めた誘電体膜としては、Ta2O5,SiO2,TiO2,Al2O3,MgF等を用いることができる。
本発明によるコンデンサは、高い静電容量が確保され、コンデンサの高性能化を実現することができる。また、コンデンサの各部材を成膜により形成することにより、薄型化及び小型化を実現することができ、また任意のパターン形状とすることもできる。さらに、基板とそれに積層される蒸着膜は共に高い耐熱性を有しているので、高耐熱性を有するコンデンサを得ることができる。
本発明のコンデンサは、図1及び図2に示したように、ガラス、セラミック等のように、電気絶縁性を有し、耐熱性のある基板1の上に第1の導電膜2を蒸着し、その上に誘電体膜3を蒸着し、また誘電体膜3の上に第2の導電膜4を蒸着することにより構成される。第1,第2の導電膜2,4は広い面積を有する電極板部2a,4aと、端子部2b,4bとを有するものであり、また誘電体膜3は少なくとも第1の導電膜2の電極板部2a,4aを完全に覆う面積を有するものである。ただし、誘電体膜3は前述した端子部2b,4bが形成されている部位を露出するようにして積層される。そして、好ましくは、上部側の電極となる第2の導電膜4上に、図示はしないが、誘電体膜3と実質的に同じサイズの誘電体膜が積層されている。この最外層の誘電体膜は製造されたコンデンサが樹脂等でパッケージングされる場合は必ずしも必要はないが、保護膜として機能させるために形成するのが望ましい。
第1,第2の導電膜2,4は異なる材料を用いても良いが、製造工程を簡略化するために、同じ材料のものを用いる方が望ましい。その材料としては、例えば導電性を有する金属、特にアルミニウム等の真空蒸着に適した金属材を用いるが、コンデンサに透明性が要求される場合には、ITO膜で形成することができる。一方、誘電体膜3は、二酸化珪素(SiO2)等も用いることができるが、誘電率が高く、しかも絶縁率の大きな材料として酸化タンタル(Ta2O5)が好適に用いられる。
前述した電極間距離(d)を小さくするためには、誘電体膜3はできるだけ薄膜化することが望ましいが、誘電体膜3を極端に薄膜化すると、耐電圧特性が低下して、部分的に短絡が発生する等、絶縁破壊が生じる可能性が高くなる。従って、ある程度の厚み、即ち500nm乃至それ以上の厚みを持たせるようにする方が望ましい。これに対して、第1,第2の導電膜2,4は、誘電体膜3より薄膜化が可能であり、例えば200nm乃至それ以下の厚みであっても良い。さらに、基板1の厚みは、成膜時に発生する応力で変形しない程度の厚みを持たせれば良く、その範囲でできるだけ薄いものとすることができる。
第1の導電膜2,誘電体膜3及び第2の導電膜4が真空蒸着により順次積層されるが、第1,第2の導電膜2,4の電極板部2a,4aは、誘電体膜3より面積が小さいものであり、誘電体膜3を間に介在させることによって、これらの電極板部2a,4a間が短絡しないようになし、かつ相対向するように配設される。また、第1,第2の導電膜2,4には、それぞれ端子部2b,4bが形成されている。従って、真空蒸着を行う際には、マスクを行う必要がある。そこで、図3に示したように、基板1よりサイズの大きく、しかも成膜される部位に打ち抜き部5aを形成したマスク板5を用いて成膜を行う。ここで、第1の導電膜2と第2の導電膜4とを形成するに当って、それぞれ異なる位置に端子部2b,4bを形成する領域を必要とするが、マスク板5を反転させるようにして用いることができる。従って、実際上では、1種類のマスク板5を用意すれば良い。また、誘電体膜3を形成する際にも、第1の導電膜2における電極板部2aを完全に覆い、端子部2bを覆わないようにするために、図4に示したような打ち抜き部6aを有するマスク板6を用いる。このマスク板6は単純な枠状のものとすることができる。以上のようにして第1,第2の導電膜2,4及び誘電体膜3を蒸着するが、マスク板5,6による基板1におけるマスクパターンは図3及び図4に斜線で示されている。ここで、第1,第2の導電膜2,4は電極板を構成し、また誘電体膜3は第1,第2の導電膜2,4間に短絡を生じさせないようにするために、前述した蒸着を行うに当っては、高密度の成膜が必要となるので、真空度を高めるようにする。また、第2の誘電体膜4上に積層される誘電体膜も、誘電体膜3の形成時に使用したマスク板6を用いて蒸着することができる。
基板1の表面に第1の導電膜2として、アルミニウムを真空蒸着した。この蒸着時には、マスク板を用いて、第1の導電膜2の厚みが約200nmとし、また端子部2bを形成した。そして、この第1の導電膜2上を完全に覆うようになし、かつ端子部2bは覆わないようにして、酸化タンタルからなる誘電体膜3を積層させた。この導電膜3の厚みは500nmとした。さらに、この導電膜3の上に第2の導電膜4として、第1の導電膜2と同じパターンで、同じ厚みとし、端子部4bの引き出し位置が第1の導電膜2の端子部2bと重なり合わないように、つまり基板1上において、端子部2bと端子部4bとが左右に分かれるようにして蒸着した。さらに、この第2の導電膜4の上に、誘電体膜3と同じ材質で、同じパターン、同じ厚みとなるように、蒸着手段によって誘電体の膜を形成した。
このようにして形成したコンデンサには、その端子部2b,4b間に直流電源から電圧を印加した後にこの電源との接続を遮断して、端子2b,4b間の電圧を測定したところ、直流電源の電圧とほぼ同じ電圧が残っていることが確認され、コンデンサとしての蓄電効果が得られた。
このように、誘電体の厚みを薄くしているので、その分だけ静電容量(C)を大きくすることができる。また、蒸着膜は、その表面に微小凹凸があり、この凹凸分だけ表面積が実質的に大きくなるので、導電膜2,4の表面積(S)は見かけの面積より大きくなる。従って、この点からも、静電容量(C)が大きくなる。しかも、このコンデンサは導電膜と誘電体層とを成膜手段により形成されているので、基板1の厚みを実質的に増大させることがなく、従って薄型でコンパクトなコンデンサが形成される。
そして、このようにして形成したコンデンサは、ガラス製の基板1に真空蒸着により電極部と誘電体層とを積層する構成となっているので、耐熱性が極めて高くなり、高温条件下で使用しても、焼損等が発生するおそれがなく、物理的特性を極めて安定した状態に保持でき、長期間にわたって使用しても、静電容量を安定的に保持できる。そして、このようにして形成されるコンデンサは液体を用いないドライタイプのものであり、従ってシール機構を設ける必要はない。
ここで、実際にコンデンサとして製造するに当って、静電容量を大きくすることが望まれるために、導電膜及び誘電体膜の積層数を多くして、図5に等価回路として示したような平行板コンデンサを形成するように構成することができる。このように構成すると、導電膜の両面が電極として機能するようになるので、静電容量をより大きくすることができる。
即ち、図6に模式的に示したように、基板1には、まず誘電体膜3を積層する。この誘電体膜3の上に第1の導電膜2を、またこの第1の導電膜2の上に誘電体膜3を、さらに第2の導電膜4を、さらにまたこの第2の導電膜4の上に誘電体膜3を積層させる。このように交互に導電膜と誘電体膜とを積層した4層の積層体を1つの蒸着膜積層ユニット10として、順次8つの蒸着膜積層ユニット10を形成することによって、8対の平行板からなるコンデンサが形成される。
ここで、各ユニットにおける第1の導電膜2の各端子部2b間、及び第2の導電膜4における各端子部4b間は相互に電気的に導通していなければならないが、真空蒸着を行うに当って、電極板として機能する導電膜2,4の部位だけでなく、端子部2b,4bの部位も打ち抜いたマスク板5を用いるようにしている。そこで、このマスク板5を位置決めした状態で蒸着することによって、成膜時において上下に配置される端子部2b,2b間、及び端子部4b,4b間が電気的に確実に導通するように積層されることになる。また、第1,第2の導電膜2,4間に介装される誘電体膜3を形成する際には、マスク板6を用いて、その下層を構成する第1,第2の導電膜2,4の電極板部2a,4aより広い打ち抜き部6aを有するものであるから、正確に位置決めすることにより、第1,第2の導電膜2,4間に短絡が生じるおそれがない。
以上のように、誘電体膜と導電膜とを順次交互に真空蒸着により積層することによって、所定の静電容量を有するコンデンサを形成することができるが、真空蒸着により膜付けすると、膜総数が多くなればなるほど、基板1に作用する応力によって歪みや反り等が発生する。従って、基板1の片面における積層数は無制限に多くすることはできない。そこで、図7に示したように、基板1の両面に蒸着膜を形成するようになし、しかも両面に交互に1層乃至複数層ずつ積層していくことによって、基板1への応力が作用するのを抑制できるようになり、基板1の歪みや反り等の変形を抑制することができる。そして、基板1の両面にそれぞれ蒸着膜積層ユニット10が8ユニットとなった積層体のコンデンサが形成される。そして、最後に一側面と他側面との第1の導電膜2の端子部2b同士及び第2の導電膜4の端子部4b同士を電気的に接続することによって、所定の機器に組み込むことができる。
1 基板
2 第1の導電膜
2a 電極板部
2b 端子部
3 誘電体膜
4 第2の導電膜
4a 電極板部
4b 端子部
5,6 マスク板
10 蒸着膜積層ユニット
2 第1の導電膜
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10 蒸着膜積層ユニット
Claims (12)
- 耐熱性に優れ、電気絶縁性を有する基板と、
真空蒸着手段によって基板上に形成され、電極板部と端子部とからなる第1の導電膜と、
前記第1の導電膜の電極板部全体を覆い、かつ前記端子部を露出させるようにして真空蒸着手段によって、この第1の導電膜上に積層される誘電体膜と、
前記誘電体膜上に真空蒸着手段により積層され、前記第1の導電膜における電極板部と短絡しないようにして対向配設される電極板部と、前記第1の導電膜に形成した端子部とは異なる位置に配置された端子部とからなる第2の導電膜と
から構成したことを特徴とするコンデンサ。 - 前記第2の導電膜上には、さらにこの第2の導電膜の電極板部全体を覆い、前記第1,第2の導電膜の端子部を露出させるようにして電気絶縁部材からなる保護膜を積層する構成としたことを特徴とする請求項1記載のコンデンサ。
- 前記第1の導電膜と、この第1の導電膜に積層される誘電体膜と、第2の導電膜と、この第2の導電膜に積層される誘電体膜とを1つの蒸着膜積層ユニットとして、前記基板上には複数の蒸着膜積層ユニットを積層するようにして形成する構成としたことを特徴とする請求項1記載のコンデンサ。
- 前記基板には、その両面に複数の蒸着膜積層ユニットを形成する構成としたことを特徴とする請求項3記載のコンデンサ。
- 前記基板の両側に形成した複数の蒸着膜積層ユニットにおける第1の端子部同士と、第2の端子部同士とを電気的に接続する構成としたことを特徴とする請求項4記載のコンデンサ。
- 前記基板と、前記第1の導電膜との間に、真空蒸着手段によって、下地用の誘電体膜を介装する構成としたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のコンデンサ。
- 前記基板を透明部材で形成し、また前記蒸着膜積層ユニットを透明部材で形成したことを特徴とする請求項3記載のコンデンサ。
- 耐熱性に優れ、電気絶縁性を有する基板上に、真空蒸着手段を用いて、電極板部と端子部とを有する第1の導電膜を形成し、
この第1の導電膜上には、その電極板部全体を覆い、かつ前記端子部を露出させるようにして真空蒸着手段により誘電体膜を積層し、
さらにこの誘電体膜上に真空蒸着を行うことによって、前記第1の導電膜における電極板部と短絡しないようにして対向配設される電極板部と、前記第1の導電膜に形成した端子部とは異なる位置に配置された端子部とが形成されるようにして第2の導電膜を積層させる
ことを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 前記第2の導電膜上には、その電極板部を覆い、前記第1の導電膜及び第2の導電膜の前記端子部を露出させるようにして電気絶縁部材からなる保護膜を積層させることを特徴とする請求項8記載のコンデンサの製造方法。
- 前記基板に下地用の誘電体膜を真空蒸着手段で形成し、
次いで順次前記第1の導電膜と、この第1の導電膜に積層される誘電体膜と、第2の導電膜と、この第2の導電膜に積層される誘電体膜とを積層させることにより1つの蒸着膜積層ユニットとなし、この蒸着膜積層ユニットを複数ユニット形成することを特徴とする請求項8記載のコンデンサの製造方法。 - 前記基板両面に、それぞれ下地用の誘電体膜を真空蒸着手段で形成して、
順次前記第1の導電膜と、この第1の導電膜に積層される誘電体膜と、第2の導電膜と、この第2の導電膜に積層される誘電体膜とを積層させることにより1つの蒸着膜積層ユニットとして、基板の両面にこの蒸着膜積層ユニットを順次複数ユニット形成することを特徴とするコンデンサの製造方法。 - 前記基板の両面に蒸着膜積層ユニットを形成するに当って、その一側面と他側面とが交互に1または複数層ずつ成膜することを特徴とする請求項11記載のコンデンサの製造方法。
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