JP2005109292A - ウェーハ周辺部の被測定物を回収する方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ウェーハ1を水平に回転させながら、回収液保持台4上の液滴3にウェーハ周辺部1aを接触させて、ウェーハ周辺部1aに存在する被測定物を回収するので、従来のように、ウェーハを縦置きにして浸漬容器内の薬液にウェーハ周辺部を浸漬させるのではなく、ウェーハ1を横置きにして回収液保持台4上の液滴にウェーハ周辺部1aを接触させることから、従来のように、薬液の汚染や、構造およびハンドリングの複雑化の問題がなく、構造が簡単で、容易かつ安定したウェーハ周辺部1aの回収が可能となる。
【選択図】 図1
Description
1a:ウェーハ周辺部
1b:ウェーハ表面
2:ウェーハ台
3:液滴
4:回収液保持台
5:保持具
12:回転機構
14:移動機構
Claims (14)
- ウェーハをウェーハ台に水平に回転可能に保持する第1の工程と、滴下した回収液の液滴を回収液保持台上に保持する第2の工程と、前記回収液の液滴をウェーハ周辺部に接触させる第3の工程と、ウェーハを水平に回転させながら、ウェーハ周辺部に存在する被測定物を前記回収液の液滴に回収する第4の工程とを備えた回収方法。
- 請求項1において、前記第3の工程は、前記回収液の液滴とウェーハ周辺部との接触に際して、前記回収液の液滴と接触するウェーハ周辺部の接触面積を変化させるように、回収液保持台をウェーハ台の方向へ移動させるものである回収方法。
- 請求項1において、被測定物が金属不純物である回収方法。
- 請求項1において、前記第2の工程は、前記回収液の液滴を前記回収液保持台との間で挟む保持具により保持するものである回収方法。
- 請求項4において、さらに、ウェーハ表面に滴下した回収液の液滴をウェーハ表面との間で挟む保持具で保持しながらウェーハ表面上で移動させて、ウェーハ表面に存在する被測定物を回収する工程を備えた回収方法。
- 請求項1から5の回収方法のいずれかにより回収された被測定物を分析する分析方法。
- 請求項6において、被測定物を蛍光X線分析法で分析する分析方法。
- ウェーハを水平に回転可能に保持するウェーハ台と、滴下した回収液の液滴を台上で保持する回収液保持台とを備え、
ウェーハを水平に回転させながら、前記回収液保持台上の回収液の液滴にウェーハ周辺部を接触させて、ウェーハ周辺部に存在する被測定物を回収する回収装置。 - 請求項8において、さらに、前記回収液の液滴と接触するウェーハ周辺部の接触面積を変化させるように、回収液保持台をウェーハ台の方向へ移動させる移動機構を備えた回収装置。
- 請求項8において、被測定物が金属不純物である回収装置。
- 請求項8において、さらに、前記回収液の液滴を前記回収液保持台との間で挟むように保持する保持具を備えている回収装置。
- 請求項11において、ウェーハ表面に滴下した回収液の液滴をウェーハ表面との間で挟む保持具で保持しながらウェーハ表面上で移動させて、ウェーハ表面に存在する被測定物を回収する回収装置。
- 請求項8から12のいずれかに記載の回収装置と、回収された被測定物を分析する分析装置とを備えた分析システム。
- 請求項13において、分析装置が蛍光X線分析装置である分析システム。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006001451A1 (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Komatsu Denshi Kinzoku Kabushiki Kaisha | 半導体ウェーハの薬液回収方法および装置 |
JP2017020992A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | Jsr株式会社 | 分析方法 |
WO2020137173A1 (ja) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 株式会社 イアス | 基板分析方法および基板分析装置 |
WO2023015766A1 (zh) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备 |
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Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006001451A1 (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Komatsu Denshi Kinzoku Kabushiki Kaisha | 半導体ウェーハの薬液回収方法および装置 |
JP2006013234A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 半導体ウェーハの薬液回収方法および装置 |
US7686891B2 (en) | 2004-06-28 | 2010-03-30 | Sumco Techxiv Corporation | Method and apparatus for collecting chemicals from semiconductor wafer |
JP4521861B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2010-08-11 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体ウェーハの薬液回収方法および装置 |
US8080113B2 (en) | 2004-06-28 | 2011-12-20 | Komatsu Denshi Kinzoku Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for collecting chemicals from semiconductor wafer |
JP2017020992A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | Jsr株式会社 | 分析方法 |
WO2020137173A1 (ja) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 株式会社 イアス | 基板分析方法および基板分析装置 |
JP2020106303A (ja) * | 2018-12-26 | 2020-07-09 | 株式会社 イアス | 基板分析方法および基板分析装置 |
KR20210092841A (ko) * | 2018-12-26 | 2021-07-26 | 가부시키가이샤 이아스 | 기판 분석방법 및 기판 분석장치 |
TWI735100B (zh) * | 2018-12-26 | 2021-08-01 | 日商埃耶士股份有限公司 | 基板分析方法及基板分析裝置 |
CN113287193A (zh) * | 2018-12-26 | 2021-08-20 | 埃耶士株式会社 | 基板分析方法及基板分析装置 |
KR102309167B1 (ko) * | 2018-12-26 | 2021-10-05 | 가부시키가이샤 이아스 | 기판 분석방법 및 기판 분석장치 |
US11422071B2 (en) | 2018-12-26 | 2022-08-23 | Ias, Inc. | Substrate analysis method and substrate analyzer |
WO2023015766A1 (zh) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备 |
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