JPH06241959A - 表面汚染物質回収装置 - Google Patents
表面汚染物質回収装置Info
- Publication number
- JPH06241959A JPH06241959A JP5031041A JP3104193A JPH06241959A JP H06241959 A JPH06241959 A JP H06241959A JP 5031041 A JP5031041 A JP 5031041A JP 3104193 A JP3104193 A JP 3104193A JP H06241959 A JPH06241959 A JP H06241959A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical solution
- cylindrical tube
- wafer
- contaminant
- moved
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- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】表面に汚染物質を含むウェーハ８より熟練度を
必要とすることなく薬液１１で溶解して汚染物質を表面
より短時間で遊離させ、この遊離した汚染物質を含む溶
解液１１を確実に回収出来るようにする。 【構成】一端側の開口から薬液１１を入れ管内外の圧力
差でこの薬液を保持する円筒管１と、この円筒管１を介
して薬液に振動を与える振動発生機構２と、円筒管１と
ウェーハ８とを相対的に移動させる移動機構である回転
テーブル３及び円筒管１の移動用の摺動棒１３ａとを設
け、ウェーハ８の表面に薬液１１を接触させ、かつ薬液
を振動させながら表面を移動させて薬液の表面溶解を促
進させ汚染物質の表面がらの遊離を早めている。また、
この薬液１１の回収は、円筒管１を薬液１１を保持した
状態でウェーハ８の外側に移動させて回収容器の上に位
置決めし、円筒管内の圧力を上げることにより薬液１１
を回収容器に入れる。
必要とすることなく薬液１１で溶解して汚染物質を表面
より短時間で遊離させ、この遊離した汚染物質を含む溶
解液１１を確実に回収出来るようにする。 【構成】一端側の開口から薬液１１を入れ管内外の圧力
差でこの薬液を保持する円筒管１と、この円筒管１を介
して薬液に振動を与える振動発生機構２と、円筒管１と
ウェーハ８とを相対的に移動させる移動機構である回転
テーブル３及び円筒管１の移動用の摺動棒１３ａとを設
け、ウェーハ８の表面に薬液１１を接触させ、かつ薬液
を振動させながら表面を移動させて薬液の表面溶解を促
進させ汚染物質の表面がらの遊離を早めている。また、
この薬液１１の回収は、円筒管１を薬液１１を保持した
状態でウェーハ８の外側に移動させて回収容器の上に位
置決めし、円筒管内の圧力を上げることにより薬液１１
を回収容器に入れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、平板状の試供物の表面
に含まれる汚染分質を回収する表面汚染物質回収装置に
関する。
に含まれる汚染分質を回収する表面汚染物質回収装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、平板状の試供物、例えば、半導体
基板の表面に含まれる汚染物質を半導体基板を破壊しな
いで採集する方法は、表面を薬液で溶解して汚染物質を
その表面から遊離させ、そしてこの遊離された汚染物質
を薬液に混在させて薬液を回収するとで採集していた。
そして、この汚染物資の分析には、回収された薬液を蛍
光Ｘ線による分析法や原子吸光分光光度計を用いて汚染
物質の量を測定していた。このため薬液の量を出来るだ
け少なくし、汚染物質の濃度を出来るだけ上げて検出し
易くしていた。
基板の表面に含まれる汚染物質を半導体基板を破壊しな
いで採集する方法は、表面を薬液で溶解して汚染物質を
その表面から遊離させ、そしてこの遊離された汚染物質
を薬液に混在させて薬液を回収するとで採集していた。
そして、この汚染物資の分析には、回収された薬液を蛍
光Ｘ線による分析法や原子吸光分光光度計を用いて汚染
物質の量を測定していた。このため薬液の量を出来るだ
け少なくし、汚染物質の濃度を出来るだけ上げて検出し
易くしていた。
【０００３】図２は従来の表面汚染物質回収装置の一例
を説明するための図である。従来、この種の表面汚染物
質回収装置は特別な専用装置は無く、図２に示すよう
に、単に、半導体基板であるウェーハ８を載置する台１
０と、平板状の回収棒７とを準備し、ウェーハ８に微量
の薬液を滴下し、表面張力で盛上がった薬液溜りである
小量の薬滴９を回収棒７でウェーハ８上を移動させてウ
ェーハ面の薄膜を薬液で溶解し、ウェーハ８の表面より
汚染物質を分離し採集していた。
を説明するための図である。従来、この種の表面汚染物
質回収装置は特別な専用装置は無く、図２に示すよう
に、単に、半導体基板であるウェーハ８を載置する台１
０と、平板状の回収棒７とを準備し、ウェーハ８に微量
の薬液を滴下し、表面張力で盛上がった薬液溜りである
小量の薬滴９を回収棒７でウェーハ８上を移動させてウ
ェーハ面の薄膜を薬液で溶解し、ウェーハ８の表面より
汚染物質を分離し採集していた。
【０００４】この小さい薬滴９の移動には、ウェーハ８
を傾むけて薬滴９がその自重で移動できるようにした
り、あるいはウェーハ８の全面より汚染物質を採集する
ために薬滴９をウェーハ８面にスパイラル軌道に移動さ
せたりして、ウェーハ８の表面膜を溶解し汚染物質をウ
ェーハ８より分離していた。そして、このように汚染物
質を含んだ薬滴９をウェーハ８外に移動させて、ウェー
ハ８より薬滴９を零し、分析装置の容器に薬滴９を移し
回収していた。
を傾むけて薬滴９がその自重で移動できるようにした
り、あるいはウェーハ８の全面より汚染物質を採集する
ために薬滴９をウェーハ８面にスパイラル軌道に移動さ
せたりして、ウェーハ８の表面膜を溶解し汚染物質をウ
ェーハ８より分離していた。そして、このように汚染物
質を含んだ薬滴９をウェーハ８外に移動させて、ウェー
ハ８より薬滴９を零し、分析装置の容器に薬滴９を移し
回収していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の汚染物
質の回収方法では、簡便な治具で済むものの、汚染物質
の回収率を上げるためにウェーハの全面を何回となく薬
滴を繰返して移動させなければならず、溶解・回収に時
間がかかる欠点がある。また、この薬滴を移動させるの
に薬滴をウェーハ外に零さないように慎重に移動させな
ければならず、しかも移動速度を一定にするには熟練度
を必要とする。しかしながら、いかに熟練していても一
部分をオーバーエッチングしたり、あるいは薬滴をウェ
ーハ外に零し、再び得ることの出来ない貴重な試料を失
なうことがしばしば起きる。
質の回収方法では、簡便な治具で済むものの、汚染物質
の回収率を上げるためにウェーハの全面を何回となく薬
滴を繰返して移動させなければならず、溶解・回収に時
間がかかる欠点がある。また、この薬滴を移動させるの
に薬滴をウェーハ外に零さないように慎重に移動させな
ければならず、しかも移動速度を一定にするには熟練度
を必要とする。しかしながら、いかに熟練していても一
部分をオーバーエッチングしたり、あるいは薬滴をウェ
ーハ外に零し、再び得ることの出来ない貴重な試料を失
なうことがしばしば起きる。
【０００６】従って、本発明の目的は、熟練度を必要と
することなく汚染物質を含む表面膜を短時間で溶解して
汚染物質を採集し、この汚染物質を含む溶解液を確実に
回収出来る表面汚染物質回収装置を提供することであ
る。
することなく汚染物質を含む表面膜を短時間で溶解して
汚染物質を採集し、この汚染物質を含む溶解液を確実に
回収出来る表面汚染物質回収装置を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、平板状
の試供物の表面に接触する薬液溜りを一端の開口に入れ
内外圧力差で該薬液溜りを保持する管部材と、この管部
材に取付けられ前記薬液溜りに振動を与える振動発生手
段と、前記管部材と前記試供物とを相対移動させる移動
機構とを備える表面汚染物質回収装置である。
の試供物の表面に接触する薬液溜りを一端の開口に入れ
内外圧力差で該薬液溜りを保持する管部材と、この管部
材に取付けられ前記薬液溜りに振動を与える振動発生手
段と、前記管部材と前記試供物とを相対移動させる移動
機構とを備える表面汚染物質回収装置である。
【０００８】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１は本発明の表面汚染物質回収装置の一
実施例を示す部分断面側面図である。この表面汚染物質
回収装置は、図１に示すように、ウェーハ８の面と接触
する薬液溜りを形成する薬液１１を一端側の開口に入れ
るとともに外圧と内圧との圧力差で薬液１１を保持する
円筒管１と、この円筒管１に取付けられるとともに薬液
１１に振動を与える振動発生機構２と、円筒管１を矢印
に示す一方向に移動させる移動機構と、ウェーハ８を載
置し回転する回転テーブル３とを備えている。
実施例を示す部分断面側面図である。この表面汚染物質
回収装置は、図１に示すように、ウェーハ８の面と接触
する薬液溜りを形成する薬液１１を一端側の開口に入れ
るとともに外圧と内圧との圧力差で薬液１１を保持する
円筒管１と、この円筒管１に取付けられるとともに薬液
１１に振動を与える振動発生機構２と、円筒管１を矢印
に示す一方向に移動させる移動機構と、ウェーハ８を載
置し回転する回転テーブル３とを備えている。
【００１０】また、円筒管１の他端には３方弁４が取付
けられ、この３方弁の切替えにより円筒管１の開口と真
空ポンプ６のフレキシブルホース５及びガス導入口２ａ
のいずれかに通ずるようになっている。そして、真空ポ
ンプ６には、排気能力を適宜に減じ調整するバリアブル
リーク弁を必要に応じて取付ける。さらに、円筒管１を
移動させる移動機構は、円筒管１に取付けられ矢印に示
す一方向にガイドブッシュ１３を介して移動する摺動棒
１３ａと、台１０ａに立てられたポール１２にガイドブ
ッシュ１３を上下動させる昇降機構（図示せず）とを有
している。一方、薬液１１に振動を与える振動発生機構
は、図面には示さないが、電歪素子をスタック状に積み
上げたもので、発生する振動数は超音波振動数に相当す
るものである。
けられ、この３方弁の切替えにより円筒管１の開口と真
空ポンプ６のフレキシブルホース５及びガス導入口２ａ
のいずれかに通ずるようになっている。そして、真空ポ
ンプ６には、排気能力を適宜に減じ調整するバリアブル
リーク弁を必要に応じて取付ける。さらに、円筒管１を
移動させる移動機構は、円筒管１に取付けられ矢印に示
す一方向にガイドブッシュ１３を介して移動する摺動棒
１３ａと、台１０ａに立てられたポール１２にガイドブ
ッシュ１３を上下動させる昇降機構（図示せず）とを有
している。一方、薬液１１に振動を与える振動発生機構
は、図面には示さないが、電歪素子をスタック状に積み
上げたもので、発生する振動数は超音波振動数に相当す
るものである。
【００１１】なお、円筒管１の内径は、全表面を移動し
て採集するには、出来るだけ大口径のものが能率的であ
り、小さくとも５ｍｍは必要とする。また、全表面でな
く小さい領域部分から採集する場合は、その領域より小
さい口径のものが望ましい。一方、円筒管１の材質に関
しては、薬液に侵されることがない材料を適用すべきで
あることは勿論、ある程度の弾性係数の大きなことが要
求される。何故ならば、振動伝達を効率良く行なえるよ
うにするためである。例えば、耐薬液性からは市販のテ
フロン材が適当であるが、弾性係数が低いので、芯部に
は弾性係数の高い鋼材を使用することが望ましい。すな
わち、市販の鋼管にテフロン加工を施したもので望まし
い。
て採集するには、出来るだけ大口径のものが能率的であ
り、小さくとも５ｍｍは必要とする。また、全表面でな
く小さい領域部分から採集する場合は、その領域より小
さい口径のものが望ましい。一方、円筒管１の材質に関
しては、薬液に侵されることがない材料を適用すべきで
あることは勿論、ある程度の弾性係数の大きなことが要
求される。何故ならば、振動伝達を効率良く行なえるよ
うにするためである。例えば、耐薬液性からは市販のテ
フロン材が適当であるが、弾性係数が低いので、芯部に
は弾性係数の高い鋼材を使用することが望ましい。すな
わち、市販の鋼管にテフロン加工を施したもので望まし
い。
【００１２】次に、この表面汚染物質回収装置の動作に
ついて説明する。まず、円筒管１を移動し回転テーブル
３の外側に位置させる。次に、円筒管１の開口端を薬液
に浸し、３方弁４を切替え、真空ポンプ６により円筒管
１内を減圧して薬液の適量を吸い込む。そして薬液が滴
下されない程度に円筒管１内の圧力を減圧し、薬液が円
筒管１の先端より僅か露呈して薬液１１が円筒管１に保
持されるようにする。なお、この状態を保つために真空
ポンプ６の排気能力をバリアブルリーク弁を調整するこ
とで得られる。次に、薬液１１の保持位置を維持しなが
ら円筒管１を矢印Ｂの方向に移動させ、円筒管１を回転
テーブル３の略中心の位置に停止させる。次に、回転テ
ーブル３にウェーハ８を載置して稼働準備を完了させ
る。
ついて説明する。まず、円筒管１を移動し回転テーブル
３の外側に位置させる。次に、円筒管１の開口端を薬液
に浸し、３方弁４を切替え、真空ポンプ６により円筒管
１内を減圧して薬液の適量を吸い込む。そして薬液が滴
下されない程度に円筒管１内の圧力を減圧し、薬液が円
筒管１の先端より僅か露呈して薬液１１が円筒管１に保
持されるようにする。なお、この状態を保つために真空
ポンプ６の排気能力をバリアブルリーク弁を調整するこ
とで得られる。次に、薬液１１の保持位置を維持しなが
ら円筒管１を矢印Ｂの方向に移動させ、円筒管１を回転
テーブル３の略中心の位置に停止させる。次に、回転テ
ーブル３にウェーハ８を載置して稼働準備を完了させ
る。
【００１３】次に、薬液１１がウェーハ８の面に接触す
る位置まで円筒管１を下降させる。そして振動発生機構
２を動作させ薬液１１に２０ｋＨｚ程度の振動を与え、
回転テーブル３を回転させると同時に円筒管１を矢印Ａ
の方向に移動させる。このとき、ウェーハ８と円筒管１
の相対速度が常に一定になるように、円筒管１が矢印Ａ
の方向に移動するのに伴ない回転テーブ３の回転速度を
早くする。このように薬液１１に超音波振動を与えなが
ら薬液１１をウェーハ面に接触させ、スパイラル状の軌
道で円筒管１を移動させてウェーハ８の全面の薄膜を溶
解させる。そして、円筒管１がウェーハ８の最外周に達
したら、円筒管１を上昇させ、矢印Ｂの方にさらに移動
させて回転テーブル３外に位置させる。そして、分析装
置の容器を円筒管１の下にもってくる。次に、３方弁４
を切替え、ガス導入口２ａと円筒管１とを通じさせ、円
筒管１に大気を入れ円筒管１の圧力を大気圧に戻して薬
液１１を容器に落し込み回収する。
る位置まで円筒管１を下降させる。そして振動発生機構
２を動作させ薬液１１に２０ｋＨｚ程度の振動を与え、
回転テーブル３を回転させると同時に円筒管１を矢印Ａ
の方向に移動させる。このとき、ウェーハ８と円筒管１
の相対速度が常に一定になるように、円筒管１が矢印Ａ
の方向に移動するのに伴ない回転テーブ３の回転速度を
早くする。このように薬液１１に超音波振動を与えなが
ら薬液１１をウェーハ面に接触させ、スパイラル状の軌
道で円筒管１を移動させてウェーハ８の全面の薄膜を溶
解させる。そして、円筒管１がウェーハ８の最外周に達
したら、円筒管１を上昇させ、矢印Ｂの方にさらに移動
させて回転テーブル３外に位置させる。そして、分析装
置の容器を円筒管１の下にもってくる。次に、３方弁４
を切替え、ガス導入口２ａと円筒管１とを通じさせ、円
筒管１に大気を入れ円筒管１の圧力を大気圧に戻して薬
液１１を容器に落し込み回収する。
【００１４】また、ウェーハ８の表面上の一部分のみに
ある汚染物質を回収する場合は、回転テーブル３と円筒
管１を移動させる移動機構により円筒管１を前記一部分
に位置決めし、円筒管１を下降させ薬液１１を接触さ
せ、薬液を振動させて攪拌し前記一部分の表面膜の溶解
を促進させ、汚染物質を薬液に混在させて円筒管１内に
取込み回収すれば良い。この操作は従来出来なかった操
作である。何故ならば、従来はウェーハの一部分に薬液
を滴下できるものの、回収する際には、ウェーハの他の
領域を薬液が通過しなけばならず、この通過の際に他の
領域の表面を薬液が溶解しその領域の不純物を混入させ
る恐れがあるからである。
ある汚染物質を回収する場合は、回転テーブル３と円筒
管１を移動させる移動機構により円筒管１を前記一部分
に位置決めし、円筒管１を下降させ薬液１１を接触さ
せ、薬液を振動させて攪拌し前記一部分の表面膜の溶解
を促進させ、汚染物質を薬液に混在させて円筒管１内に
取込み回収すれば良い。この操作は従来出来なかった操
作である。何故ならば、従来はウェーハの一部分に薬液
を滴下できるものの、回収する際には、ウェーハの他の
領域を薬液が通過しなけばならず、この通過の際に他の
領域の表面を薬液が溶解しその領域の不純物を混入させ
る恐れがあるからである。
【００１５】試みに、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ等の金属汚染物質
が含むと思われる酸化膜が表面に施された６インチのウ
ェーハを供試品として準備し、１パーセントの希フッ酸
の薬液を２００マイクロリットル程度５ｍｍ直径の円筒
管１に入れ、前述の動作で薬液を回収したところ、一連
の動作にかかる時間は、３分程度で従来の３分の１に短
縮することが出来た。ちなみに、薬液の分析を行なった
ところ、従来、発見することが出来なかった金属汚染物
質も抽出することが出来た。このことは、薬液に振動を
与えることにより薬液を攪拌し、溶解を促進させること
が出来た所以であるなお、この実施例では、円筒管内を
減圧する機構に３方弁や真空ポンプ等の大掛がかり機構
を適用しているが、スポイト等のような円筒管の後端に
ゴム製のダイアフラムポンプと逆止め弁を使用しても良
いし、円筒管とウェーハとの相対移動機構として、回転
テーブルの代りにＸＹ方向に移動するテーブルでも適用
できる。
が含むと思われる酸化膜が表面に施された６インチのウ
ェーハを供試品として準備し、１パーセントの希フッ酸
の薬液を２００マイクロリットル程度５ｍｍ直径の円筒
管１に入れ、前述の動作で薬液を回収したところ、一連
の動作にかかる時間は、３分程度で従来の３分の１に短
縮することが出来た。ちなみに、薬液の分析を行なった
ところ、従来、発見することが出来なかった金属汚染物
質も抽出することが出来た。このことは、薬液に振動を
与えることにより薬液を攪拌し、溶解を促進させること
が出来た所以であるなお、この実施例では、円筒管内を
減圧する機構に３方弁や真空ポンプ等の大掛がかり機構
を適用しているが、スポイト等のような円筒管の後端に
ゴム製のダイアフラムポンプと逆止め弁を使用しても良
いし、円筒管とウェーハとの相対移動機構として、回転
テーブルの代りにＸＹ方向に移動するテーブルでも適用
できる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、一端側の
開口から薬液を入れ管内外の圧力差でこの薬液を保持す
る円筒管と、この円筒管を介して薬液に振動を与える振
動発生機構と、円筒管と板状の試供部材とを相対的に移
動させる移動機構とを設け、前記試供部材の表面に薬液
を接触させ、かつ薬液を振動させながら表面を移動させ
ることによって、薬液の表面溶解を促進させ汚染物質の
表面がらの遊離を早め、汚染物質の採集を極めて短時間
で行なうことが出来るという効果がある。また、円筒管
と試供部材の相対位置及び管内の圧力を任意に制御出来
るので、特別な熟練度を必要とすることなく、貴重な汚
染物質が混入する薬液を確実に回収出来るという効果も
ある。
開口から薬液を入れ管内外の圧力差でこの薬液を保持す
る円筒管と、この円筒管を介して薬液に振動を与える振
動発生機構と、円筒管と板状の試供部材とを相対的に移
動させる移動機構とを設け、前記試供部材の表面に薬液
を接触させ、かつ薬液を振動させながら表面を移動させ
ることによって、薬液の表面溶解を促進させ汚染物質の
表面がらの遊離を早め、汚染物質の採集を極めて短時間
で行なうことが出来るという効果がある。また、円筒管
と試供部材の相対位置及び管内の圧力を任意に制御出来
るので、特別な熟練度を必要とすることなく、貴重な汚
染物質が混入する薬液を確実に回収出来るという効果も
ある。
【図１】本発明の表面汚染物質回収装置の一実施例を示
す部分断面側面図である。
す部分断面側面図である。
【図２】従来の表面汚染物質回収装置の一例を説明する
ための図である。
ための図である。
１ 円筒管 ２ 振動発生機構 ２ａ ガス導入口 ３ 回転テーブル ４ ３方弁 ５ フレキシブルホース ６ 真空ポンプ ７ 回収棒 ８ ウェーハ ９ 薬滴 １０，１０ａ 台 １１ 薬液 １２ ポール １３ ガイドブッシュ １３ａ 摺動棒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｍ 8832−4Ｍ
Claims (1)
- 【請求項１】 平板状の試供物の表面に接触する薬液溜
りを一端の開口に入れ内外圧力差で該薬液溜りを保持す
る管部材と、この管部材に取付けられ前記薬液溜りに振
動を与える振動発生手段と、前記管部材と前記試供物と
を相対移動させる移動機構とを備えることを特徴とする
表面汚染物質回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5031041A JPH06241959A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 表面汚染物質回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5031041A JPH06241959A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 表面汚染物質回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06241959A true JPH06241959A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12320405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5031041A Pending JPH06241959A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 表面汚染物質回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06241959A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10163153A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法 |
| JP2009246192A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 回収治具、及び当該回収治具を備えた汚染物回収装置 |
| KR20160124526A (ko) * | 2015-04-20 | 2016-10-28 | 주식회사 포스코 | 피처리물 처리장치 및 처리방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0228533A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-01-30 | Toshiba Corp | 不純物の測定方法及び不純物の回収装置 |
| JPH03239343A (ja) * | 1990-02-17 | 1991-10-24 | Sharp Corp | ウエハ表面液滴回収装置 |
-
1993
- 1993-02-22 JP JP5031041A patent/JPH06241959A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0228533A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-01-30 | Toshiba Corp | 不純物の測定方法及び不純物の回収装置 |
| JPH03239343A (ja) * | 1990-02-17 | 1991-10-24 | Sharp Corp | ウエハ表面液滴回収装置 |
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| JP2009246192A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 回収治具、及び当該回収治具を備えた汚染物回収装置 |
| KR20160124526A (ko) * | 2015-04-20 | 2016-10-28 | 주식회사 포스코 | 피처리물 처리장치 및 처리방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19951219 |