JP2004069502A - 局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来は、マイクロピペットの使用や、局所分析用マスクを半導体基板に固定する場合に、手動で行っていたので、半導体基板が汚染されやすいことがあった。粉塵を発生させないように、簡素化した固定治具を用いるため、隙間から回収溶液が毛細管現象によってにじみ出し、回収溶液が減少する、或いは、分析領域の外側の領域の汚染まで回収してしまう可能性があった。また、マイクロピペットの吸い上げには、所定量の溶液が必要なため、汚染が薄まり、検出下限以下や、汚染の回収率が低下することがあった。したがって、分析のバックグラウンド値の上昇や、所望の分析領域での分析が正確に実施できないことがあった。
【解決手段】本発明は、分析領域の中心点を中心にして、半導体試料を回転させ、かつ、回収液滴保持具により保持された回収溶液を、分析領域の中心点及び周辺の間で走査させた後、回収溶液を回収する。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ酸、フッ硝酸溶液に可溶である膜表面及び膜中の微量不純物をフレームレス原子吸光分析装置、誘導結合プラズマ質量分析装置等により分析を行うための局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来技術に係る局所微量化学分析の不純物回収装置を示す平面図を図８（ａ）に示し、図８（ａ）に示すＤ−Ｄ‘切断面で切った断面図を図８（ｂ）に示す。また、半導体基板を示す平面図を図７（ａ）に示し、図７（ａ）に示すＣ−Ｃ’切断面で切った断面図を図７（ｂ）に示す。尚、図７は本願発明と共通とし、本願発明の実施例にも用いるものとする。これら図面を参照して局所微量化学分析の不純物回収方法についても説明する。
【０００３】
従来の局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、まず試料となる半導体基板１を準備する。例えば半導体基板１は、シリコンからなり、その半導体基板１上にはシリコン酸化膜６が形成されている。また、半導体基板１には、半導体基板１の向きや、基板上の位置を決めるために、ノッチ３が設けられている。例えばシリコン酸化膜６の任意の領域を分析領域４とし、斜線で示す。
【０００４】
従来の局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、シリコン酸化膜中６の微量不純物の回収をするために、図示しないが、まず、シリコン酸化膜６にフッ酸蒸気により、疎水化処理を施して酸化膜の溶解処理を行う。次に、例えばテフロン（登録商標）製の局所分析用マスク７を用いて、シリコン酸化膜６側を覆うようにして半導体基板１上に局所分析用マスク７を固定する。ここでは、図示しないが局所分析用マスク７は、半導体基板１の周辺において固定治具により、半導体基板１表面に密着するように固定されている。また、局所分析用マスク７には、半導体基板１上のシリコン酸化膜６の分析領域４に合わせるようにして開口部８が設けられている。この開口部８は、予め分析を行いたい領域に合わせて局所分析用マスク７を開口させればよく、また必要に応じて複数箇所を分析したい場合には、局所分析用マスク７を複数箇所開口させればよい。次に、塩酸と過酸化水素水の混合溶液からなる回収溶液（図示せず）を例えばマイクロピペット等に入れて分析領域４となる開口部８に滴下し、回収を行う。このとき、回収溶液及びフッ酸溶液は、マイクロピペットで吸い上げることができる所定量が必要となる。その後、この回収溶液を図示しないフレームレス原子吸光分析装置、誘導結合プラズマ質量分析装置（図示せず）等で分析を行う。
【０００５】
従来の局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、マイクロピペットで回収溶液を滴下、回収する場合や、局所分析用マスク７を半導体基板１に固定する場合に、手動により行っていた。このため、マイクロピペットや局所分析用マスク７が汚染されやすくなり、これら治具を使用することによって半導体基板１が汚染されやすいということがあった。また、固定治具（図示せず）により、半導体基板１に局所分析用マスク７を固定しているが、固定治具については、粉塵を発生させないように、なるべく簡素化した機構を用いて、固定及び固定解除の動作が少なくなるようにしている。このため、局所分析用マスク７を半導体基板１に隙間なく密着させて固定することができない場合が発生していた。局所分析用マスク７と半導体基板１との密着性が低い場合には、隙間から回収溶液が毛細管現象によってにじみ出てしまい、回収する際に回収溶液が減少してしまう可能性があり、或いは、分析領域４の外側の領域の汚染まで回収してしまう可能性があった。
【０００６】
また、マイクロピペットでは、吸い上げることができる所定量の回収溶液及びフッ酸溶液が必要となるため、含まれている汚染が薄まることになり、分析装置の感度にもよるが、検出下限以下になってしまう可能性や、汚染の回収率が低下するということがあった。
【０００７】
したがって、分析のバックグラウンド値の上昇や、所望の分析領域での分析が正確に実施できないということがあった。また、局所分析を行うためには、分析領域の位置が異なるごとに、その都度、開口部８を変えた局所分析用マスク７を作成する必要があるために、マスク作成のためのコストがかかっていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来の局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、マイクロピペットで回収溶液を滴下、回収する場合や、局所分析用マスクを半導体基板に固定する場合に、手動により行っていた。このため、マイクロピペットや局所分析用マスクが汚染されやすくなり、これら治具を使用することによって半導体基板が汚染されやすいということがあった。また、固定治具については、粉塵を発生させないように、なるべく簡素化した機構を用いて、固定及び固定解除の動作が少なくなるようにしている。このため、局所分析用マスクを半導体基板に隙間なく密着させて固定することができない場合があり、密着性が低い場合には、隙間から回収溶液が毛細管現象によってにじみ出てしまい、回収する際に回収溶液が減少してしまう、或いは、分析領域の外側の領域の汚染まで回収してしまう可能性があった。また、マイクロピペットでは、吸い上げることができる所定量の回収溶液及びフッ酸溶液が必要となるため、含まれている汚染が薄まることになり、検出下限以下になってしまう可能性や、汚染の回収率が低下するということがあった。したがって、分析のバックグラウンド値の上昇や、所望の分析領域での分析が正確に実施できないということがあった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明においては、表面に疎水化処理を施した半導体試料を試料台に載置し、前記半導体試料表面の分析領域の位置を検出する第１の工程と、前記分析領域の位置から求めた中心点を中心にして、前記半導体試料を回転させ、かつ、回収溶液を前記分析領域の中止点及び周辺の間で走査させる第２の工程と、前記回収溶液を前記半導体試料から回収する第３の工程とを具備し、前記分析領域の中心点は、前記半導体試料の中心点を除いた位置にあることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明においては、表面に疎水化処理を施した半導体試料表面の分析領域の位置を検出し、前記分析領域の位置から求めた中心点と、試料台の中心点を合わせるようにして前記半導体試料を載置する第１の工程と、前記分析領域の中心点を中心にして、前記半導体試料を回転させ、かつ、回収溶液を前記分析領域の中心点及び周辺の間で走査させる第２の工程と、前記回収溶液を前記半導体試料から回収する第３の工程とを具備し、前記分析領域の中心点は、前記半導体試料の中心点を除いた位置にあることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明においては、前記半導体試料は、フッ酸、或いはフッ硝酸に可溶であることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明においては、前記回収溶液は、酸化剤を含む酸溶液であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明においては、試料台と、前記試料台下の所望の位置に移動して接続され、前記試料台の所望の位置を回転軸として回転駆動させる駆動軸と、前記駆動軸の所望の位置に合わせるようにして、前記試料台上を移動し、前記試料台上の試料に回収溶液を走査及び回収する回収液滴保持具とを具備することを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し本発明の実施例について説明する。　本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置を示す平面図を図１（ａ）に示し、図１（ａ）に示すＡ−Ａ‘切断面で切った断面図を図１（ｂ）に示す。また、半導体基板を示す平面図を図７（ａ）に示し、図７（ａ）に示すＣ−Ｃ’切断面で切った断面図を図７（ｂ）に示す。尚、図７は従来技術と共通としている。これら図面を参照して局所微量化学分析の不純物回収方法についても説明する。
【００１５】
本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、まず試料となる半導体基板１０１を準備する。例えば半導体基板１０１は、シリコンからなり、その半導体基板１０１上にはシリコン酸化膜１０６が形成されている。また、半導体基板１０１には、半導体基板１０１の向きや、基板上の位置を決めるために、ノッチ１０３が設けられている。例えばシリコン酸化膜１０６の任意の領域を分析領域１０４とし、斜線で示す。
【００１６】
本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、例えば半導体基板１０１を載置することができ、例えばテフロン（登録商標）製からなる試料台１０９が設けられている。尚、図１においては半導体基板１０１表面のシリコン酸化膜を省略している。試料台１０９下面には、試料台を回転駆動させるために駆動軸１１１が接続されている。駆動軸１１１は、駆動手段（図示せず）に接続されており、駆動力を試料台に伝えている。ここで試料台１０９の中心を試料台中心点１０２とし、半導体基板１０１の中心を半導体基板中心点１１４とすれば、試料台中心点１０２と半導体基板中心点１１４とを合わせるように半導体基板１０１が配置されている。次に試料台１０９上には、回収液滴保持具１１０が配置されている。回収液滴保持具１１０は、例えばテフロン（登録商標）製の棒状のものから成り、回収液滴保持具１１０の先端には回収溶液１１３が保持されるようになっている。また回収液滴保持具１１０の先端と半導体基板１０１表面とは、実際には接触しておらず、回収溶液１１３を介して接するようにしている。回収溶液１１３を走査、回収するために、回収液滴保持具１１０は、保持具駆動手段（図示せず）に接続されており、回収液滴保持具１１０自体を試料台１０９上の移動（図面矢印で移動方向を示す）、及び回収溶液を走査、回収する機構（図示せず）へ移動させることができる。回収液滴保持具１１０の先端の移動経路については、少なくとも試料台１０９上では、試料台中心点１０２上を通る直線状に移動できることが望ましい。また、回収液滴保持具１１０の先端は、分析領域１０４の中心点１０５上を通るように配置させる。
【００１７】
次に、図１（ａ）の本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置の平面図に示すＡ−Ａ‘切断面で切った駆動軸の移動を示した断面図を図２（ａ）、図２（ｂ）に示す。尚、図２において、図１と同様の部分については説明を省略する。図２（ａ）、（ｂ）に示すように駆動軸１１１については、駆動手段（図示せず）により試料台１０９下を移動することができ、少なくとも、試料台中心の位置から、試料となる半導体基板１０１の周囲まで駆動軸１１１が移動できるようにしている。分析領域１０４の位置により、その都度、駆動軸１１１の位置を移動、固定することができ、駆動軸１１１を中心にして試料台１０９を回転させることができる。破線の駆動軸については、移動する前の位置を示しており、図面矢印は移動の方向を示している。尚、図２においても、駆動軸１１１を回転させる回転駆動手段については図示せず、半導体基板１０１表面のシリコン酸化膜については省略している。
【００１８】
次に、本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置の試料配置方法を示す平面図を図３に示す。図１と同様の部分については説明を省略する。まず、フッ酸蒸気により疎水化処理を行った半導体基板１０１の中心点１１４を、試料台１０９上の、試料台１０９の中心点１０２に合わせるようにして載置する。次に、分析領域１０４の位置を例えば半導体基板１０１のノッチ１０３などをもとにして座標認識機構（図示せず）により検出する。このとき、駆動軸（図示せず）は、試料台中心点１０２下に配置されている。例えば回収液滴保持具１１０の軌道１１２上から、半時計周りに角度θ回転させ、半導体基板中心点１１４からｒ１の距離の地点に、分析領域中心点１０５が配置される場合には、試料台１０９を回転させ、半導体基板１０１を時計周りに角度θ回転させて、分析領域中心点１０５を回収液滴保持具軌道１１２上に合わせる。次に駆動軸（図示せず）を試料台中心点１０２からｒ１の距離移動させて、分析領域中心点１０５下に配置されるように合わせる。このようにして試料台１０９に試料が配置される。尚、図３においても半導体基板１０１表面のシリコン酸化膜については省略している。
【００１９】
本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置においては、図３に示すように、試料台１０９に試料となる半導体基板１０１を載置し、駆動軸（図１に示す）を移動させた後に、図１に示すように、回収液滴保持具１１０に酸化剤を含む酸溶液である、塩酸と過酸化水素水の混合溶液からなる回収溶液１１３を保持させて、回収溶液１１３が半導体基板１０１表面に接するようにして分析領域１０４上を移動させる。その際、試料台１０９は分析領域中心点１０５を中心にして、例えば０．５回／分から数回／分、回転する。回収液滴保持具１１０は、分析領域１０４上において、例えば分析領域中心点１０５から図面の右側周辺方向へ分析領域１０４の半径の距離を１回、移動する。もちろん、逆方向でもかまわない。分析領域１０４上を走査した後、回収溶液１１３は、回収溶液１１３を滴下、回収する機構（図示せず）に移動される。その後、この回収溶液１１３をフレームレス原子吸光分析装置、誘導結合プラズマ質量分析装置（図示せず）等で分析を行う。
【００２０】
本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置によれば、回収液滴保持具１１０により局所的な分析領域１０４上で回収溶液１１３を走査させ、回収することができるので、従来、手動により行ってきたことによる半導体基板１０１の汚染を防ぐことができる。また、局所分析用マスクを用いないため、局所分析用マスクと半導体基板との密着性が低い場合に発生する、回収溶液が毛細管現象によってにじみ出るといったことがなく、分析領域１０４内で回収溶液１１３を正確に回収することができる。また、マイクロピペットを用いないため、回収溶液及びフッ酸溶液の量を、従来のマイクロピペットを使用した場合に比べて、約１／５程度の少ない量で走査、回収できるので、含まれている汚染の薄まりを低減することができ、分析装置の感度にもよるが、検出下限以下になってしまう可能性や、汚染の回収率が低下するということを防ぐことができる。
【００２１】
したがって、分析のバックグラウンド値を低減することができ、所望の分析領域での分析が正確に実施できる。また、局所分析用マスク作成のためのコストはかからなくなる。
【００２２】
尚、本発明の第１の実施例においては、あらかじめ、駆動軸（図示せず）が、試料台中心点１０２下に配置されているとしたが、任意の位置に配置しておき、分析領域中心点１０５に合わせるように移動させてもかまわない。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置を示す平面図を図４に示し、図４に示すＢ−Ｂ‘切断面で切った断面図を図５に示す。これら図面を参照して局所微量化学分析の不純物回収方法についても説明する。尚、半導体基板１０１の説明については第１の実施例と同様のため省略する。
【００２４】
本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置では、例えば半導体基板１０１を載置することができ、例えばテフロン（登録商標）製からなる試料台２０９が設けられている。試料台２０９の大きさは、第１の実施例よりも大きくなり、例えば試料台２０９の半径の距離に対象となる試料が置けるような大きさとする。このため、第２の実施例においては、第１の実施例に比べて、装置が大型化する。尚、図４及び図５においては半導体基板１０１表面のシリコン酸化膜を省略している。試料台２０９下面には、試料台を回転駆動させるために駆動軸２１１が接続されている。駆動軸２１１は、駆動手段（図示せず）に接続されており、駆動力を試料台に伝えている。ここで試料台２０９の中心を試料台中心点２０２とし、分析領域１０４の中心を分析領域中心点１０５とすれば、試料台中心点２０２と分析領域中心点１０５とを合わせるように半導体基板１０１が配置されている。次に試料台２０９上には、回収液滴保持具２１０が配置されている。回収液滴保持具２１０は、例えばテフロン（登録商標）製の棒状のものから成り、回収液滴保持具２１０の先端には回収溶液１１３が保持されるようになっている。また回収液滴保持具２１０の先端と半導体基板１０１表面とは、実際には接触しておらず、回収溶液１１３を介して接するようにしている。回収溶液１１３を走査、回収するために、回収液滴保持具２１０は、保持具駆動手段（図示せず）に接続されており、回収液滴保持具２１０自体を試料台２０９上の移動、及び回収溶液を走査、回収する機構（図示せず）へ移動させることができる。回収液滴保持具２１０の先端の移動経路については、少なくとも試料台２０９上では、所望の分析領域１０４を移動できる距離であればよいが、もちろん試料台２０９の半径の距離を移動できるようにしてもよい。また、回収液滴保持具２１０の先端は、分析領域１０４の中心点１０５上を通るように配置させる。
【００２５】
次に、本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置においては、駆動軸２１１が試料台２０９下の中心点２０２に固定されており、試料台中心点２０２を中心軸にして回転する。試料の配置方法については、まず、フッ酸蒸気により疎水化処理を行った半導体基板１０１の分析領域１０４の中心点１０５を、試料台２０９上の、試料台２０９の中心点２０２に合わせるようにして載置する。第２の実施例においては、予め分析領域１０４の位置を例えば半導体基板１０１のノッチ１０３などをもとにして座標認識機構（図示せず）により検出しておく。続いて、回収液滴保持具２１０に酸化剤を含む酸溶液である、塩酸と過酸化水素水の混合溶液からなる回収溶液１１３を保持させて、回収溶液１１３が半導体基板１０１表面に接するようにして分析領域１０４上を移動させる。その際、試料台２０９は、試料台中心点２０２でもある、分析領域中心点１０５を中心にして、例えば０．５回／分から数回／分、回転する。回収液滴保持具２１０は、分析領域１０４上において、例えば分析領域中心点１０５から図面の右側周辺方向へ分析領域１０４の半径の距離を１回、移動する。もちろん、逆方向でもかまわない。分析領域１０４上を走査した後、回収溶液１１３は、回収溶液１１３を滴下、回収する機構（図示せず）に移動される。その後、この回収溶液１１３をフレームレス原子吸光分析装置、誘導結合プラズマ質量分析装置（図示せず）等で分析を行う。
【００２６】
本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収方法及びその不純物回収装置によれば、第１の実施例に比べて、駆動軸２１１を試料台中心点２０２に固定して回転させるために、駆動軸２１１を移動させる機構を省くことができる。これにより、装置の構造を簡単にすることができる。また、第１の実施例と同様に、回収液滴保持具２１０により局所的な分析領域１０４上で回収溶液１１３を走査させ、回収することができるので、従来、手動により行ってきたことによる半導体基板１０１の汚染を防ぐことができる。また、局所分析用マスクを用いないため、局所分析用マスクと半導体基板との密着性が低い場合に発生する、回収溶液が毛細管現象によってにじみ出るといったことがなく、分析領域１０４内で回収溶液１１３を正確に回収することができる。また、マイクロピペットを用いないため、回収溶液及びフッ酸溶液の量を、従来のマイクロピペットを使用した場合に比べて、約１／５程度の少ない量で走査、回収できるので、含まれている汚染の薄まりを低減することができ、分析装置の感度にもよるが、検出下限以下になってしまう可能性や、汚染の回収率が低下するということを防ぐことができる。
【００２７】
したがって、分析のバックグラウンド値を低減することができ、所望の分析領域での分析が正確に実施できる。また、局所分析用マスク作成のためのコストはかからなくなる。
【００２８】
また、本発明の第２の実施例においては、駆動軸２１１を移動させる機構を省くとしたが、もちろん、その機構が設けられていても、駆動軸２１１を試料台中心点２０２に固定としておけば、第２の実施例を行うことができる。
【００２９】
図６は、従来技術の局所分析用マスクを用いた場合と、本発明の実施例を用いた場合のＮａ汚染分析結果を示す片対数グラフである。マルの点が従来技術であり、三角の点が本発明を示す。図に示すとおり、従来技術においては、Ｎａ汚染分析結果にバラツキが生じている。本発明においては、手動による汚染がないため、バラツキを制御することができ、分析精度を向上させることができる。
【００３０】
尚、本発明の実施例においては、試料としてシリコン基板上のシリコン酸化膜を用いているが、これはフッ酸、或いはフッ硝酸に可溶である膜表面であればよく、例えばシリコン基板、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、高誘電体膜（酸化ルテニウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）、ＢＳＴ（チタン酸バリウム・ストロンチウム））等でも用いることができる。また、半導体基板に限定されるものではなく、例えば液晶基板等においても実施可能となる。
【００３１】
また、本発明の実施例においては、汚染をより防ぐために、不純物回収装置自体を、密閉した状態に置くことが望ましい。また、試料の搬送を行う機構が設けられ、試料台への試料の取り付け、取りはずしがその機構により、人の手を介さずに自動的に行われることが望ましい。また、試料の位置の検出については、例えばレーザーなどのセンサを用いて行うことができ、本発明の実施例では、ノッチであったが、オリフラを設けて検出してもよい。
【００３２】
また、本発明の実施例においては半導体基板だけでなく、半導体薄膜、半導体膜中、液晶基板などにでも使用できる。
【００３３】
また、本発明の実施例においては、半導体基板１０１の断面図で、半導体基板１０１の深さ方向の全てに斜線を引き、分析領域１０４としたが、これは深さ方向の全てを溶解するということではなく、分析領域の場所を特定するために、便宜上、引いたものである。ここでは、図７に示すとおり、半導体基板１０１上のシリコン酸化膜１０６の溶解を示すものとする。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、回収液滴保持具により局所的な分析領域上で回収溶液を走査させ、回収することができるので、従来、手動により行ってきたことによる半導体基板の汚染を防ぐことができる。また、局所分析用マスクを用いないため、局所分析用マスクと半導体基板との密着性が低い場合に発生する、回収溶液が毛細管現象によってにじみ出るといったことがなく、分析領域内で回収溶液を正確に回収することができる。また、マイクロピペットを用いないため、回収溶液及びフッ酸溶液の量を、従来に比べて、少ない量で走査、回収できるので、含まれている汚染の薄まりを低減することができ、検出下限以下になってしまう可能性や、汚染の回収率が低下することを防ぐことができる。したがって、分析のバックグラウンド値を低減することができ、所望の分析領域での分析が正確に実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置を示す平面図であり、（ｂ）は、この局所微量化学分析の不純物回収装置の平面図に示すＡ−Ａ‘切断面で切った断面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、図１（ａ）の本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置の平面図に示すＡ−Ａ‘切断面で切った駆動軸の移動を示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置の試料配置方法を示す平面図である。
【図４】本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施例に係る局所微量化学分析の不純物回収装置の平面図に示すＢ−Ｂ‘切断面で切った断面図である。
【図６】従来技術を用いた場合と、本発明の実施例を用いた場合のＮａ汚染分析結果を示す片対数グラフである。
【図７】（ａ）は、半導体基板を示す平面図であり、（ｂ）は、この半導体基板に示すＣ−Ｃ‘切断面で切った断面図である。
【図８】（ａ）は、従来技術に係る局所微量化学分析の不純物回収方法を示す平面図であり、（ｂ）は、この局所微量化学分析の不純物回収方法に示すＤ−Ｄ‘切断面で切った断面図である。
【符号の説明】
１、１０１　半導体基板
１０２、２０２　試料台中心点
３、１０３　ノッチ
４、１０４　分析領域
１０５　分析領域中心点
６、１０６　酸化膜
１０９、２０９　試料台
１１０、２１０　回収液滴保持具
１１１、２１１　駆動軸
１１２　回収液滴保持具軌道
１１３、２１３　回収溶液
１１４、２１４　半導体基板中心点

Claims (5)

1. 表面に疎水化処理を施した半導体試料を試料台に載置し、前記半導体試料表面の分析領域の位置を検出する第１の工程と、
   前記分析領域の位置から求めた中心点を中心にして、前記半導体試料を回転させ、かつ、回収溶液を前記分析領域の中心点及び周辺の間で走査させる第２の工程と、
   前記回収溶液を前記半導体試料から回収する第３の工程とを具備し、
   前記分析領域の中心点は、前記半導体試料の中心点を除いた位置にあることを特徴とする局所微量化学分析の不純物回収方法。
2. 表面に疎水化処理を施した半導体試料表面の分析領域の位置を検出し、前記分析領域の位置から求めた中心点と、試料台の中心点を合わせるようにして前記半導体試料を載置する第１の工程と、
   前記分析領域の中心点を中心にして、前記半導体試料を回転させ、かつ、回収溶液を前記分析領域の中心点及び周辺の間で走査させる第２の工程と、
   前記回収溶液を前記半導体試料から回収する第３の工程とを具備し、
   前記分析領域の中心点は、前記半導体試料の中心点を除いた位置にあることを特徴とする局所微量化学分析の不純物回収方法。
3. 前記半導体試料は、フッ酸、或いはフッ硝酸に可溶であることを特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項記載の局所微量化学分析の不純物回収方法。
4. 前記回収溶液は、酸化剤を含む酸溶液であることを特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項記載の局所微量化学分析の不純物回収方法。
5. 試料台と、
   前記試料台下の所望の位置に移動して接続され、前記試料台の所望の位置を回転軸として回転駆動させる駆動軸と、
   前記駆動軸の所望の位置に合わせるようにして、前記試料台上を移動し、前記試料台上の試料に回収溶液を走査及び回収する回収液滴保持具とを具備することを特徴とする局所微量化学分析の不純物回収装置。

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