JP2005057269A - デュアルモード電子ビームリソグラフィ機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 デュアルモード電子ビームリソグラフィ機(10)は、書き込み流れにより基板の表面にパターンを描画するために電子ビーム(12)を発生するための電子ビームコラム(11)を備えて成り、上記基板は、ビームに対して基板を変位するように可動なステージ(13)に支持される。パターン書き込み精度(それゆえ解像度)のために最適化された所定の第1モードと当該第1モードとは異なりパターン書き込みスピード(スループット)のために最適化された所定の第2モードとの間で書き込み流れ、ステージ運動、ビーム偏向及びビーム遮蔽の各々を変更するための制御手段(17〜20)を備えて成る。
【選択図】 図1
Description
i)電子ビーム露光がシリアルプロセスで、単独のビームが次から次へとパターン特徴を露光してパターン範囲を走査する。それに反して光学リソグラフィでは全体のパターンが同時に露光可能である。
ii)プローブ形成電子ビームシステムにおいて使用に適した流れがビーム路においてクーロン相互作用によって限定され、それで当該流れの増加によって書き込みスポットがぶれ、解像度が下がる。
解像度に関して又はスループットに関して最適化するためビームブランキングについて所望の影響は、例えば第1モードのための低い値と第2モードのための高い値の間でビームブランキングの比率を変えるように制御手段が作動可能ならば、達成され得る。一般に、高いブランキング比率が高い書き込み流れ、高いステージスピード及び基板の感度の良いレジスト被覆に関連して望ましい。これら属性は高いスループットと調和するが、高い解像度と画像忠実度を弱めがちである。好ましくは、少なくとも一つのモードにおいて且つそのモードに関する範囲内でビームブランキングの比率を変更するように制御手段が作動可能である。よりはっきり限定すれば、ビームブランキング比率は、例えばシステム構成に応じて最大比率まで機械の電子制御システムの調整によって調子を合わせることが可能である。書き込みモードの両方を適応調節するために、最大比率ができるだけ高いこと、例えば300MHzか更に高いことが望ましい。これによってなかんずく書き込み流れと基板レジスト感度の全ての合理的な組み合わせが可能である。
11 電子ビームコラム
12 電子ビーム
13 ステージ
14 基板
15 ブランキング板
16 偏向板
17〜20 制御手段
Claims (16)
- 書き込み流れを介して基板の表面にパターンを書くために電子ビームを発生するための電子ビームコラム、上記基板を支持して当該基板をビームに対して変位するための可動ステージ、書き込まれるべきパターンにしたがって基板表面を走査するビームを偏向するためのビーム偏向手段、書き込みを中断するためビームを隠すためのビームブランキング手段、並びにパターン書き込み精度のために最適化された所定の第1モードと当該第1モードとは異なりパターン書き込みスピードのために最適化された所定の第2モードの間で書き込み流れ、ステージ運動、ビーム偏向及びビームブランキングの各々を変更するための制御手段を備えて成るデュアルモード電子ビームリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、書き込み流れを、第1モードのための低めの値と第2モードのための高めの値との間で変更するように作動可能である、請求項1に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、各モードでの書き込み流れの値を、ステージ運動、ビーム偏向及びビームブランキングの少なくとも一つのパラメータとの関連によって決定するように作動可能である、請求項1又は2に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、各モードでの書き込み流れの値を、基板の所定特徴との関連によって決定するように作動可能である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、コラムの電子源からの流れを変えることによって書き込み流れを変更するように作動可能である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、コラムの少なくとも一つのビーム偏向開口を通って伝わる流れを変えることによって書き込み流れを変更するように作動可能である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、少なくとも一つのモードにおいて且つそのモードに関する範囲内で流れの値を変更するように作動可能である、請求項1〜6のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ステージ運動を、第1モードのための段階的な動きと第2モードのための実質的に連続的な動きの間で変更するように作動可能である、請求項1〜7のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、第2モードでのステージの運動中のその瞬間位置を検出して、検出された位置に応じてステージ駆動手段とビーム変更手段の一つに影響を及ぼすための手段を備えて成る、請求項8に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ステージの運動の比率を、少なくとも一つのモードにおいて且つそのモードに関する範囲内で変更するように作動可能である、請求項8又は9に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、第1モードでのステージの運動の比率を、当該運動の段階間のインターバルを変えることによって変更するように作動可能である、請求項10に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ビーム偏向を、第1モードのためのベクトル偏向と第2モードのためのラスタ偏向の間で変更するように作動可能である、請求項1〜11のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記ビーム偏向手段が、パターンを特徴付けるデータの供給に応じてビームを偏向するように作動可能であり、二つの形式のビーム偏向の各々でのデータ供給とのビーム偏向の同期性を維持するように制御可能である、請求項12に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ビーム偏向の比率を、少なくとも一つのモードにおいて且つそのモードに関する範囲内で変更するように作動可能である、請求項1〜13のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ビームブランキングの比率を、第1モードのための低めの値と第2モードのための高めの値の間で変更するように制御可能である、請求項1〜14のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
- 上記制御手段が、ビームブランキングの比率を、少なくとも一つのモードにおいて且つそのモードに関する範囲内で変更するように制御可能である、請求項1〜15のいずれか一項に記載のリソグラフィ機。
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