JPH11224636A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
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- JPH11224636A JPH11224636A JP10025594A JP2559498A JPH11224636A JP H11224636 A JPH11224636 A JP H11224636A JP 10025594 A JP10025594 A JP 10025594A JP 2559498 A JP2559498 A JP 2559498A JP H11224636 A JPH11224636 A JP H11224636A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い精度で高速に描画を行うことができるス
ポット型の電子ビーム描画装置を実現する。 【解決手段】 各パターンデータが演算回路１８に供給
されるが、演算回路１８においては、供給された各パタ
ーンの寸法、例えば、矩形や台形であれば、その幅や高
さがチェックされる。そして、供給されたパターンの寸
法が、ある規定値以下の場合、１段偏向方式により描画
を行うようにする。その結果、小さな寸法のパターンの
場合、主偏向器である第２の偏向器８のみを用いて精密
なパターンの描画が実行される。一方、供給されたパタ
ーンの寸法が、ある規定値以上の場合、演算回路１８は
ビーム走査制御回路１３を制御して、多段偏向方式によ
り描画を行うようにする。その結果、比較的大きな寸法
のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器８と副
偏向器である第１の偏向器７により高速のパターン描画
が行われる。
ポット型の電子ビーム描画装置を実現する。 【解決手段】 各パターンデータが演算回路１８に供給
されるが、演算回路１８においては、供給された各パタ
ーンの寸法、例えば、矩形や台形であれば、その幅や高
さがチェックされる。そして、供給されたパターンの寸
法が、ある規定値以下の場合、１段偏向方式により描画
を行うようにする。その結果、小さな寸法のパターンの
場合、主偏向器である第２の偏向器８のみを用いて精密
なパターンの描画が実行される。一方、供給されたパタ
ーンの寸法が、ある規定値以上の場合、演算回路１８は
ビーム走査制御回路１３を制御して、多段偏向方式によ
り描画を行うようにする。その結果、比較的大きな寸法
のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器８と副
偏向器である第１の偏向器７により高速のパターン描画
が行われる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームを被描
画材料上に細くスポット状に集束し、この電子ビームに
よって所定のパターンを塗り潰すようにパターンの描画
を行うようにした電子ビーム描画装置に関する。
画材料上に細くスポット状に集束し、この電子ビームに
よって所定のパターンを塗り潰すようにパターンの描画
を行うようにした電子ビーム描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】スポット型電子ビーム描画装置では、電
子銃からの電子ビームを集束レンズ、対物レンズによっ
て被描画材料上に細くスポット状に集束し、この電子ビ
ームを偏向して所定のパターンを塗り潰すようにパター
ンの描画を行うようにしている。
子銃からの電子ビームを集束レンズ、対物レンズによっ
て被描画材料上に細くスポット状に集束し、この電子ビ
ームを偏向して所定のパターンを塗り潰すようにパター
ンの描画を行うようにしている。
【０００３】この種電子ビーム描画装置には、１段の偏
向器によって電子ビームを偏向してパターンの描画を行
う１段偏向方式と、２段の偏向器によって電子ビームを
偏向してパターンの描画を行う２段偏向方式がある。
向器によって電子ビームを偏向してパターンの描画を行
う１段偏向方式と、２段の偏向器によって電子ビームを
偏向してパターンの描画を行う２段偏向方式がある。
【０００４】１段偏向方式は、大偏向角が得られる高精
度の１段の偏向器によって電子ビームを偏向することに
よって、フィールド内の全てのパターンの描画を行う
が、２段偏向方式では、フィールド内の各パターンの位
置への電子ビームの偏向を大偏向角が得られる高精度の
偏向器によって行い、各パターン位置でのパターンの塗
り潰しのための電子ビームの偏向を、高速偏向が可能で
はあるが精度が比較的劣る偏向器で行うようにしてい
る。
度の１段の偏向器によって電子ビームを偏向することに
よって、フィールド内の全てのパターンの描画を行う
が、２段偏向方式では、フィールド内の各パターンの位
置への電子ビームの偏向を大偏向角が得られる高精度の
偏向器によって行い、各パターン位置でのパターンの塗
り潰しのための電子ビームの偏向を、高速偏向が可能で
はあるが精度が比較的劣る偏向器で行うようにしてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した両方式を比較
すると、１段偏向方式は走査速度を速くする観点からは
不利である。一方、２段（多段）偏向方式は、パターン
間に各偏向器のつなぎ誤差が発生し、１段偏向方式より
パターン描画精度が劣化するデメリットがある。
すると、１段偏向方式は走査速度を速くする観点からは
不利である。一方、２段（多段）偏向方式は、パターン
間に各偏向器のつなぎ誤差が発生し、１段偏向方式より
パターン描画精度が劣化するデメリットがある。
【０００６】すなわち、多段偏向にして高速走査を行お
うとすると、パターン精度を犠牲にしなければならな
い。一方、１段偏向にしてパターン精度を向上させよう
とすると、走査速度を犠牲にしなければならない。その
ため、現在では、いずれかの方式に特化した電子ビーム
描画装置が開発されている。
うとすると、パターン精度を犠牲にしなければならな
い。一方、１段偏向にしてパターン精度を向上させよう
とすると、走査速度を犠牲にしなければならない。その
ため、現在では、いずれかの方式に特化した電子ビーム
描画装置が開発されている。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、高い精度で高速に描画を行うこと
ができるスポット型の電子ビーム描画装置を実現するに
ある。
もので、その目的は、高い精度で高速に描画を行うこと
ができるスポット型の電子ビーム描画装置を実現するに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく電子
ビーム描画装置は、電子銃からの電子ビームを細く集束
し、被描画材料上にスポット状にして照射し、このスポ
ット状電子ビームを偏向して所定のパターンの描画を行
うようにした電子ビーム描画装置において、電子ビーム
を偏向する第１と第２の偏向器を設け、パターンの描画
を行うに際し、材料上のパターンの位置決めを第２の偏
向器で行い、各パターン位置におけるスポット状ビーム
によるパターンの描画のための偏向は第１の偏向器で行
う第１の描画モードと、パターンの位置決めとパターン
の描画のための偏向を第２の偏向器で行う第２の描画モ
ードを切り替えて実行できる機能を有したことを特徴と
している。
ビーム描画装置は、電子銃からの電子ビームを細く集束
し、被描画材料上にスポット状にして照射し、このスポ
ット状電子ビームを偏向して所定のパターンの描画を行
うようにした電子ビーム描画装置において、電子ビーム
を偏向する第１と第２の偏向器を設け、パターンの描画
を行うに際し、材料上のパターンの位置決めを第２の偏
向器で行い、各パターン位置におけるスポット状ビーム
によるパターンの描画のための偏向は第１の偏向器で行
う第１の描画モードと、パターンの位置決めとパターン
の描画のための偏向を第２の偏向器で行う第２の描画モ
ードを切り替えて実行できる機能を有したことを特徴と
している。
【０００９】第１の発明では、電子ビームを偏向する第
１と第２の偏向器を設け、パターンの描画を行うに際
し、材料上のパターンの位置決めを第２の偏向器で行
い、各パターン位置におけるスポット状ビームによるパ
ターンの描画のための偏向は第１の偏向器で行う第１の
描画モードと、パターンの位置決めとパターンの描画の
ための偏向を第２の偏向器で行う第２の描画モードを切
り替えて実行する。
１と第２の偏向器を設け、パターンの描画を行うに際
し、材料上のパターンの位置決めを第２の偏向器で行
い、各パターン位置におけるスポット状ビームによるパ
ターンの描画のための偏向は第１の偏向器で行う第１の
描画モードと、パターンの位置決めとパターンの描画の
ための偏向を第２の偏向器で行う第２の描画モードを切
り替えて実行する。
【００１０】第２の発明では、第１の発明において、第
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンに応じて切り替える。第３の発明では、第２の発明
において、第１の描画モードと第２の描画モードを、描
画すべきパターンの寸法に応じて切り替える。
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンに応じて切り替える。第３の発明では、第２の発明
において、第１の描画モードと第２の描画モードを、描
画すべきパターンの寸法に応じて切り替える。
【００１１】第４の発明では、第２の発明において、描
画すべきパターンデータに描画モード情報が付与されて
おり、第１の描画モードと第２の描画モードは、描画す
べきパターンに付与された描画モード情報に応じて切り
替えられる。
画すべきパターンデータに描画モード情報が付与されて
おり、第１の描画モードと第２の描画モードは、描画す
べきパターンに付与された描画モード情報に応じて切り
替えられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に基づくス
ポット型の電子ビーム描画装置を示している。図中１は
電子銃であり、電子銃１から発生し加速された電子ビー
ムＥＢは、コンデンサレンズ２、対物レンズ３により細
く集束され、スポット状ビームとして被描画材料４上に
照射される。電子ビームＥＢの光路には、ブランキング
電極５が配置され、ブランキング電極５にはブランキン
グ増幅器６からブランキング信号が供給される。
施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に基づくス
ポット型の電子ビーム描画装置を示している。図中１は
電子銃であり、電子銃１から発生し加速された電子ビー
ムＥＢは、コンデンサレンズ２、対物レンズ３により細
く集束され、スポット状ビームとして被描画材料４上に
照射される。電子ビームＥＢの光路には、ブランキング
電極５が配置され、ブランキング電極５にはブランキン
グ増幅器６からブランキング信号が供給される。
【００１３】更に、電子ビームＥＢの光路に沿って第１
の偏向器７と第２の偏向器８が配置されている。第１の
偏向器７にはＤＡ変換器９と増幅器１０を介して偏向信
号が供給され、第２の偏向器８にはＤＡ変換器１１と増
幅器１２を介して偏向信号が供給される。ブランキング
増幅器６とＤＡ変換器９，１１に供給される信号は、ビ
ーム走査制御回路１３において作成される。
の偏向器７と第２の偏向器８が配置されている。第１の
偏向器７にはＤＡ変換器９と増幅器１０を介して偏向信
号が供給され、第２の偏向器８にはＤＡ変換器１１と増
幅器１２を介して偏向信号が供給される。ブランキング
増幅器６とＤＡ変換器９，１１に供給される信号は、ビ
ーム走査制御回路１３において作成される。
【００１４】描画パターンデータは、ディスクメモリー
１４に記憶されている。ディスクメモリー１４に記憶さ
れたパターンデータは、制御コンピュータ１５上で描画
プログラムを起動させることにより読み出される。制御
コンピュータ１５によって読み出されたパターンデータ
は、データ制御回路１６に供給され、データ制御回路１
６によってデータメモリー１７に格納される。
１４に記憶されている。ディスクメモリー１４に記憶さ
れたパターンデータは、制御コンピュータ１５上で描画
プログラムを起動させることにより読み出される。制御
コンピュータ１５によって読み出されたパターンデータ
は、データ制御回路１６に供給され、データ制御回路１
６によってデータメモリー１７に格納される。
【００１５】データメモリー１７に格納されたパターン
データは、データ制御回路１６によって逐次読み出さ
れ、演算回路１８に供給される。演算回路１８はパター
ンデータに対して必要な補正演算処理を行い、演算処理
したデータをビーム走査制御回路１３に供給する。
データは、データ制御回路１６によって逐次読み出さ
れ、演算回路１８に供給される。演算回路１８はパター
ンデータに対して必要な補正演算処理を行い、演算処理
したデータをビーム走査制御回路１３に供給する。
【００１６】ビーム走査制御回路１３は、供給されたデ
ータに基づいてブランキング信号を作成してブランキン
グ増幅器６を介してブランキング電極５に供給し、ま
た、パターンに応じた偏向信号をＤＡ変換器９，増幅器
１０を介して第１の偏向器７に供給し、ＤＡ変換器１
１，増幅器１１を介して第２の偏向器８に供給する。こ
のような構成の動作を次に説明する。
ータに基づいてブランキング信号を作成してブランキン
グ増幅器６を介してブランキング電極５に供給し、ま
た、パターンに応じた偏向信号をＤＡ変換器９，増幅器
１０を介して第１の偏向器７に供給し、ＤＡ変換器１
１，増幅器１１を介して第２の偏向器８に供給する。こ
のような構成の動作を次に説明する。
【００１７】上記した構成で、第１と第２の偏向器７，
８が設けられているが、第１の偏向器７は副偏向器とし
て動作し、第２の偏向器８は主偏向器として動作する。
そして、上記構成で描画のモードとしては、２種類のモ
ードが選択できる。第１のモードは副偏向器として動作
する第１の偏向器をパターンの描画（塗り潰し）に用
い、主偏向器として動作する第２の偏向器を電子ビーム
の位置決めに用いた多段偏向モードである。
８が設けられているが、第１の偏向器７は副偏向器とし
て動作し、第２の偏向器８は主偏向器として動作する。
そして、上記構成で描画のモードとしては、２種類のモ
ードが選択できる。第１のモードは副偏向器として動作
する第１の偏向器をパターンの描画（塗り潰し）に用
い、主偏向器として動作する第２の偏向器を電子ビーム
の位置決めに用いた多段偏向モードである。
【００１８】この多段偏向の第２のモードにおいて、制
御コンピュータ１５上で描画プログラムを起動させる
と、ディスクメモリー１４に格納されている描画パター
ンデータは、コンピュータ１５を経由してデータ制御装
置１６によりデータメモリー１７に格納される。
御コンピュータ１５上で描画プログラムを起動させる
と、ディスクメモリー１４に格納されている描画パター
ンデータは、コンピュータ１５を経由してデータ制御装
置１６によりデータメモリー１７に格納される。
【００１９】データメモリー１７に格納されたパターン
データは、データ制御装置１６により逐次読み出されて
演算回路１８に供給され、各種補正演算が行われる。補
正演算処理が行われたパターンデータは、ビーム走査制
御回路１３に供給される。
データは、データ制御装置１６により逐次読み出されて
演算回路１８に供給され、各種補正演算が行われる。補
正演算処理が行われたパターンデータは、ビーム走査制
御回路１３に供給される。
【００２０】このビーム走査制御回路１３は、描画フィ
ールド内のパターン位置情報をＤＡ変換器１１に転送
し、アナログ信号に変換して増幅器１２を介して第２の
偏向器８に供給する。この第２の偏向器８への位置情報
信号の供給により、被描画材料４上におけるパターンの
位置決めが行われる。
ールド内のパターン位置情報をＤＡ変換器１１に転送
し、アナログ信号に変換して増幅器１２を介して第２の
偏向器８に供給する。この第２の偏向器８への位置情報
信号の供給により、被描画材料４上におけるパターンの
位置決めが行われる。
【００２１】一方、描画パターンのデータのデータの
内、形状データは、ビーム走査制御回路１３からＤＡ変
換器９に転送され、アナログ信号に変換された後、増幅
器１０を介して第１の偏向器７に供給される。この第１
の偏向器７へのパターン形状データの供給により、第１
の偏向器７は、電子ビームＥＢをパターンの形状に応じ
て高速に偏向し、被描画材料４上の特定位置（第２の偏
向器８で指定された）で、所望の形状のパターン描画が
高速で行われる。
内、形状データは、ビーム走査制御回路１３からＤＡ変
換器９に転送され、アナログ信号に変換された後、増幅
器１０を介して第１の偏向器７に供給される。この第１
の偏向器７へのパターン形状データの供給により、第１
の偏向器７は、電子ビームＥＢをパターンの形状に応じ
て高速に偏向し、被描画材料４上の特定位置（第２の偏
向器８で指定された）で、所望の形状のパターン描画が
高速で行われる。
【００２２】なお、特定のパターンの描画が終了し、同
一描画フィールド内の異なった位置にある次のパターン
の描画を行う場合は、ビーム走査制御回路１３からブラ
ンキング増幅器６を介してブランキング電極５にブラン
キング信号を供給し、電子ビームのブランキングを行
う。そして、第２の偏向器８に次のパターンの位置情報
信号を供給し、ブランキングを解除して第１の偏向器７
を次のパターンの形状データに基づいて駆動し、次のパ
ターンの高速描画を実行する。
一描画フィールド内の異なった位置にある次のパターン
の描画を行う場合は、ビーム走査制御回路１３からブラ
ンキング増幅器６を介してブランキング電極５にブラン
キング信号を供給し、電子ビームのブランキングを行
う。そして、第２の偏向器８に次のパターンの位置情報
信号を供給し、ブランキングを解除して第１の偏向器７
を次のパターンの形状データに基づいて駆動し、次のパ
ターンの高速描画を実行する。
【００２３】図１に示した構成における第２の描画モー
ドは、主偏向器として動作する第２の偏向器８のみを用
いた１段偏向描画モードである。この１段偏向描画モー
ドにおいて、制御コンピュータ１５上で描画プログラム
を起動させると、ディスクメモリー１４に格納されてい
る描画パターンデータは、コンピュータ１５を経由して
データ制御装置１６によりデータメモリー１７に格納さ
れる。
ドは、主偏向器として動作する第２の偏向器８のみを用
いた１段偏向描画モードである。この１段偏向描画モー
ドにおいて、制御コンピュータ１５上で描画プログラム
を起動させると、ディスクメモリー１４に格納されてい
る描画パターンデータは、コンピュータ１５を経由して
データ制御装置１６によりデータメモリー１７に格納さ
れる。
【００２４】データメモリー１７に格納されたパターン
データは、データ制御装置１６により逐次読み出されて
演算回路１８に供給され、各種補正演算が行われる。補
正演算処理が行われたパターンデータは、ビーム走査制
御回路１３に供給される。
データは、データ制御装置１６により逐次読み出されて
演算回路１８に供給され、各種補正演算が行われる。補
正演算処理が行われたパターンデータは、ビーム走査制
御回路１３に供給される。
【００２５】このビーム走査制御回路１３は、描画フィ
ールド内のパターン位置情報とパターンの形状情報をＤ
Ａ変換器１１に転送し、アナログ信号に変換して増幅器
１２を介して第２の偏向器８に供給する。この第２の偏
向器８への位置情報と形状情報とが加算された信号の供
給により、被描画材料４上の特定位置で、所望の形状の
パターン描画が行われる。
ールド内のパターン位置情報とパターンの形状情報をＤ
Ａ変換器１１に転送し、アナログ信号に変換して増幅器
１２を介して第２の偏向器８に供給する。この第２の偏
向器８への位置情報と形状情報とが加算された信号の供
給により、被描画材料４上の特定位置で、所望の形状の
パターン描画が行われる。
【００２６】なお、特定のパターンの描画が終了し、同
一描画フィールド内の異なった位置にある次のパターン
の描画を行う場合は、ビーム走査制御回路１３からブラ
ンキング増幅器６を介してブランキング電極５にブラン
キング信号を供給し、電子ビームのブランキングを行
う。そして、第２の偏向器８に次のパターンの位置情報
と形状情報信号を供給し、ブランキングを解除して第２
の偏向器８によって次のパターンの高速描画を実行す
る。
一描画フィールド内の異なった位置にある次のパターン
の描画を行う場合は、ビーム走査制御回路１３からブラ
ンキング増幅器６を介してブランキング電極５にブラン
キング信号を供給し、電子ビームのブランキングを行
う。そして、第２の偏向器８に次のパターンの位置情報
と形状情報信号を供給し、ブランキングを解除して第２
の偏向器８によって次のパターンの高速描画を実行す
る。
【００２７】さて、本発明では、上記した第１の描画モ
ード（多段偏向方式）と、第２の描画モード（１段偏向
方式）とが描画すべき個々のパターンに応じて選択され
るように構成されている。すなわち、各パターンデータ
が演算回路１８に供給されるが、演算回路１８において
は、供給された各パターンの寸法、例えば、矩形や台形
であれば、その幅や高さがチェックされる。
ード（多段偏向方式）と、第２の描画モード（１段偏向
方式）とが描画すべき個々のパターンに応じて選択され
るように構成されている。すなわち、各パターンデータ
が演算回路１８に供給されるが、演算回路１８において
は、供給された各パターンの寸法、例えば、矩形や台形
であれば、その幅や高さがチェックされる。
【００２８】そして、供給されたパターンの寸法が、あ
る規定値以下の場合、演算回路１８はビーム走査制御回
路１３を制御して、第２のモード、すなわち、１段偏向
方式により描画を行うようにする。その結果、小さな寸
法のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器８の
みを用いて精密なパターンの描画が実行される。
る規定値以下の場合、演算回路１８はビーム走査制御回
路１３を制御して、第２のモード、すなわち、１段偏向
方式により描画を行うようにする。その結果、小さな寸
法のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器８の
みを用いて精密なパターンの描画が実行される。
【００２９】一方、供給されたパターンの寸法が、ある
規定値以上の場合、演算回路１８はビーム走査制御回路
１３を制御して、第１のモード、すなわち、多段偏向方
式により描画を行うようにする。その結果、比較的大き
な寸法のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器
８と副偏向器である第１の偏向器７により高速のパター
ン描画が行われる。
規定値以上の場合、演算回路１８はビーム走査制御回路
１３を制御して、第１のモード、すなわち、多段偏向方
式により描画を行うようにする。その結果、比較的大き
な寸法のパターンの場合、主偏向器である第２の偏向器
８と副偏向器である第１の偏向器７により高速のパター
ン描画が行われる。
【００３０】このように、第１と第２の描画モードの切
り替えは、個々の入力パターンごとに行う。また、切り
替えの判定に用いるパターン寸法は、制御ソフトウェア
からハードウェアに描画直前に設定される。
り替えは、個々の入力パターンごとに行う。また、切り
替えの判定に用いるパターン寸法は、制御ソフトウェア
からハードウェアに描画直前に設定される。
【００３１】なお、描画モードの切り替えをパターンの
寸法のみで行ったが、あらかじめ各パターンごとにその
データにいずれのモードで描画を行うかの識別情報を付
与しておき、寸法と組み合わせて、あるいは、その識別
情報のみでモードの切り替えを行うようにしても良い。
その場合、高い精度を必要としないパターンは、パター
ン寸法によらず第１のモードで高速で描画を行い、高い
精度が要求されるパターンはパターン寸法によらず第２
のモードで高精度の描画を行う。
寸法のみで行ったが、あらかじめ各パターンごとにその
データにいずれのモードで描画を行うかの識別情報を付
与しておき、寸法と組み合わせて、あるいは、その識別
情報のみでモードの切り替えを行うようにしても良い。
その場合、高い精度を必要としないパターンは、パター
ン寸法によらず第１のモードで高速で描画を行い、高い
精度が要求されるパターンはパターン寸法によらず第２
のモードで高精度の描画を行う。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、第１の発明に基づ
く電子ビーム描画装置は、電子ビームを偏向する第１と
第２の偏向器を設け、パターンの描画を行うに際し、材
料上のパターンの位置決めを第２の偏向器で行い、各パ
ターン位置におけるスポット状ビームによるパターンの
描画のための偏向は第１の偏向器で行う第１の描画モー
ドと、パターンの位置決めとパターンの描画のための偏
向を第２の偏向器で行う第２の描画モードを切り替えて
実行するようにした。
く電子ビーム描画装置は、電子ビームを偏向する第１と
第２の偏向器を設け、パターンの描画を行うに際し、材
料上のパターンの位置決めを第２の偏向器で行い、各パ
ターン位置におけるスポット状ビームによるパターンの
描画のための偏向は第１の偏向器で行う第１の描画モー
ドと、パターンの位置決めとパターンの描画のための偏
向を第２の偏向器で行う第２の描画モードを切り替えて
実行するようにした。
【００３３】したがって、高精度の要求されるパターン
の描画は第２のモードで行い、比較的精度が要求されな
いパターンの描画は第１のモードで行うことができるの
で、結果として、必要とする精度を維持しつつ高速にパ
ターンの描画を行うことができる。
の描画は第２のモードで行い、比較的精度が要求されな
いパターンの描画は第１のモードで行うことができるの
で、結果として、必要とする精度を維持しつつ高速にパ
ターンの描画を行うことができる。
【００３４】第２の発明では、第１の発明において、第
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンに応じて切り替えるようにしたので、高精度の要求
されるパターンの描画は第２のモードで行い、比較的精
度が要求されないパターンの描画は第１のモードで行う
ことができ、結果として、必要とする精度を維持しつつ
高速にパターンの描画を行うことができる。
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンに応じて切り替えるようにしたので、高精度の要求
されるパターンの描画は第２のモードで行い、比較的精
度が要求されないパターンの描画は第１のモードで行う
ことができ、結果として、必要とする精度を維持しつつ
高速にパターンの描画を行うことができる。
【００３５】第３の発明では、第２の発明において、第
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンの寸法に応じて切り替えるようにしたので、高い精
度が要求される寸法の小さなパターンは第２の描画モー
ドで行い、比較的高い精度が要求されない寸法の大きな
パターンは第１のモードで行うことになるので、必要と
する精度を維持しつつ高速にパターンの描画を行うこと
ができる。
１の描画モードと第２の描画モードを、描画すべきパタ
ーンの寸法に応じて切り替えるようにしたので、高い精
度が要求される寸法の小さなパターンは第２の描画モー
ドで行い、比較的高い精度が要求されない寸法の大きな
パターンは第１のモードで行うことになるので、必要と
する精度を維持しつつ高速にパターンの描画を行うこと
ができる。
【００３６】第４の発明では、第２の発明において、描
画すべきパターンデータに描画モード情報が付与されて
おり、第１の描画モードと第２の描画モードは、描画す
べきパターンに付与された描画モード情報に応じて切り
替えられるようにしたので、高精度の要求されるパター
ンの描画は第２のモードで行い、比較的精度が要求され
ないパターンの描画は第１のモードで行うことができ、
結果として、必要とする精度を維持しつつ高速にパター
ンの描画を行うことができる。
画すべきパターンデータに描画モード情報が付与されて
おり、第１の描画モードと第２の描画モードは、描画す
べきパターンに付与された描画モード情報に応じて切り
替えられるようにしたので、高精度の要求されるパター
ンの描画は第２のモードで行い、比較的精度が要求され
ないパターンの描画は第１のモードで行うことができ、
結果として、必要とする精度を維持しつつ高速にパター
ンの描画を行うことができる。
【図１】本発明に基づく電子ビーム描画装置を示す図で
ある。
ある。
１ 電子銃 ２ コンデンサレンズ ３ 対物レンズ ４ 被描画材料 ５ ブランキング電極 ６，１０，１２ 増幅器 ７，８ 偏向器 ９，１１ ＤＡ変換器 １３ ビーム走査制御回路 １４ ディスクメモリー １５ 制御コンピュータ １６ データ制御回路 １７ データメモリー １８ 演算回路
Claims (4)
- 【請求項１】 電子銃からの電子ビームを細く集束し、
被描画材料上にスポット状にして照射し、このスポット
状電子ビームを偏向して所定のパターンの描画を行うよ
うにした電子ビーム描画装置において、電子ビームを偏
向する第１と第２の偏向器を設け、パターンの描画を行
うに際し、材料上のパターンの位置決めを第２の偏向器
で行い、各パターン位置におけるスポット状ビームによ
るパターンの描画のための偏向は第１の偏向器で行う第
１の描画モードと、パターンの位置決めとパターンの描
画のための偏向を第２の偏向器で行う第２の描画モード
を切り替えて実行できる機能を有した電子ビーム描画装
置。 - 【請求項２】 第１の描画モードと第２の描画モード
は、描画すべきパターンに応じて切り替えられる請求項
１記載の電子ビーム描画装置。 - 【請求項３】 第１の描画モードと第２の描画モード
は、描画すべきパターンの寸法に応じて切り替えられる
請求項２記載の電子ビーム描画装置。 - 【請求項４】 描画すべきパターンデータに描画モード
情報が付与されており、第１の描画モードと第２の描画
モードは、描画すべきパターンに付与された描画モード
情報に応じて切り替えられる請求項２記載の電子ビーム
描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10025594A JPH11224636A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10025594A JPH11224636A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11224636A true JPH11224636A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12170244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10025594A Pending JPH11224636A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11224636A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005057269A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Leica Microsystems Lithography Ltd | デュアルモード電子ビームリソグラフィ機 |
-
1998
- 1998-02-06 JP JP10025594A patent/JPH11224636A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005057269A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Leica Microsystems Lithography Ltd | デュアルモード電子ビームリソグラフィ機 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031007 |