JP2005057275A - パターン書き込み装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置には、スポットサイズと上記ビームの書き込み電流の両方を同時に増加又は減少させるために書き込みスポットのサイズを変更する制御手段も備えられている。収束手段は二個のレンズセットで識別され、それぞれが高い焦点強度のメインレンズ13又は14と低い焦点強度の補助レンズ19又は20を含んでいる。制御手段は、書き込みが実行されている間、二個の補助レンズ19、20の焦点強度を相互に変化させることによって書き込みスポットサイズを変更する。
【選択図】 図3
Description
本発明の他の目的と利点は以下の記述から明らかであろう。
図面を参照すると、図1に、電子ビームリソグラフィー機械によって異なるサイズのパターン特徴を有する書き込みパターンのための手順の異なる可能性を示す一組のダイアグラムが示されている。書き込み処理量を最適化するために、小さいスポット及び低い書き込み電流を用いて小さい特徴を書き込み、大きいスポット及び高い書き込み電流を用いて大きい特徴(又は少なくともこのような特徴の一部)を書き込むことが望ましい。小さいスポットサイズで完全に書き込むことができるパターンは、ダイアグラムa、b、cに示される一方で、小さいスポットサイズと大きいスポットサイズの組み合わせにより書き込むことができるパターンはダイアグラムd、eに示される。パターン特徴の端では小さいスポットサイズを用いることが常に望ましく、これにより高いパターン正確さが保障される。しかしながら、大きいスポットサイズは、細かいディテールがなくパターン正確さが問題でないパターン内部で用いられる。
11 ビーム包絡線
11a 包絡線
12 加速アノード
13、14、15 レンズ
16 ビーム限定開口
17 焦点
17’ 第一中間交差焦点
18 第二中間焦点
Claims (15)
- 電子ビームを発生させる発生手段、
基板の電子感応表面に定められた書き込みスポットを作るためにビームを収束させる収束手段、
書き込もうとするパターンに対応して表面の上記書き込みスポットを移動させる移動手段、
スポットサイズと上記ビームの書き込み電流の両方を同時に増加又は減少させるために上記書き込みスポットのサイズを変更する制御手段
を有する、電子ビームリソグラフィーによって基板表面にパターンを書き込むためのパターン書き込み装置において、
上記収束手段が上記ビームを収束させるために連続して配された二個のレンズセットを有し、
それぞれが、メインレンズと、それぞれのセットのメインレンズのそれよりも低めの焦点強度を有する補助レンズとを有しており、
上記パターンの書き込みの間、二個の上記レンズセットの補助レンズの焦点強度を相互に変化させることによって書き込みスポットサイズを変更するように、制御手段が操作可能であることを特徴とするパターン書き込み装置。 - 請求項1に記載の装置において、各補助レンズがそれぞれのセットのメインレンズに隣接して配されていることを特徴とする装置。
- 請求項1又は2に記載の装置において、各補助レンズが、上記発生手段を基準にしてそれぞれのセットの上記メインレンズのすぐ下流側に配されていることを特徴とする装置。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置において、
上記レンズセットが二個の中間交差焦点で上記ビームを収束させるように配されており、
中間焦点の相対的間隔を変化させるように上記補助レンズの焦点強度を変更すべく、上記制御手段が操作可能であることを特徴とする装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置において、上記制御手段が、上記補助レンズの焦点強度を実質的に同時に変えるように操作可能であることを特徴とする装置。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置において、
上記移動手段による上記ビームの移動を制御するために、パターン書き込みデータを供給するためのパターン書き込み制御システムをさらに有しており、
上記制御手段が、上記ビームの移動と同期して上記補助レンズの焦点強度を変更するように操作可能であることを特徴とする装置。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置において、上記レンズの少なくとも一個が電磁レンズであることを特徴とする装置。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置において、上記レンズの少なくとも一個が静電レンズであることを特徴とする装置。
- 請求項7又は8に記載の装置において、上記電磁レンズ又は上記静電レンズの少なくとも一個が、最小化されたインダクタンスを有するコイルを備えた補助レンズであることを特徴とする装置。
- 請求項7又は8に記載の装置において、上記レンズの少なくとも一個が補助レンズであり、そのレンズが高抵抗率合金の支持体により担持されることを特徴とする装置。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の装置において、上記制御手段が、多くてもおよそ10ミリ秒以内で上記書き込みスポットのサイズを増加変更するように操作可能であることを特徴とする装置。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の装置において、上記制御手段が、多くてもおよそ100ミリ秒以内で上記書き込みスポットのサイズを減少変更するように操作可能であることを特徴とする装置。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置において、所定の第一エリアサイズのパターンエリアをそれぞれ書き込むための第一スポットサイズと、該第一スポットサイズよりも小さく、所定の第一エリアサイズよりも小さい所定の第二エリアサイズのパターンエリアをそれぞれ書き込むための第二スポットサイズとの間の上記書き込みスポットサイズを変えるように、上記制御手段が操作可能であることを特徴とする装置。
- 請求項1〜13のいずれか一項に記載の装置において、上記制御手段が、およそ2ナノメートルの直径とおよそ200ナノメートルの直径の間で上記書き込みスポットを変更すように操作可能であることを特徴とする装置。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載の装置において、
上記スポットサイズのバリエーションの結果として起こる書き込みスポットの位置及び解像度の変化を検出して、検出された変化を補償するために、収束手段及び移動手段を制御する手段を有することを特徴とする装置。
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