JP5090887B2 - 電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置 - Google Patents
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Vy(y)’=Vy(y)+(b・Vy(y))+(d・Vx(x)) (2)
ここで、(1)式と(2)式の第2項と第3項はそれぞれフィールド幅と回転の補正の項であり、比例係数a,bとc,dを用いて線形補正を行なっている。比例係数a,b,c,dは描画面の高さhによって決まる値であり、以下のように線形関係で決定することができる。
b=b1・h (4)
c=c1・h (5)
d=d1・h (6)
ここで、比例係数a1,b1とc1,d1はそれぞれフィールド幅と回転の高さ補正係数として実際の装置で測定して決定している。
Vx(x)’=Vx(x)+(a・Vx(x))+(c・Vy(y))
Vy(y)’=Vy(y)+(b・Vy(y))+(d・Vx(x))
(ここで、a、b、c、dは、描画面の高さ情報をh、フィールド幅に関する高さ補正係数をa1、b1、フィールド回転に関する高さ補正係数をc1、d1とした時、a=a1・h、b=b1・h、c=c1・h、d=d1・hで表わされる比例係数)に基づいて補正することにより得られた補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えることにより、フィールド幅と回転のずれを補正し、前記描画フィールドを縮小して描画する機能を用いてパターン描画を行う場合において、描画フィールドの縮小率γを乗ずることにより補正された比例係数a、bを用いて算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えて描画を行なう、ことを特徴とする。
Vx(x)’=Vx(x)+(a・Vx(x))+(c・Vy(y))
Vy(y)’=Vy(y)+(b・Vy(y))+(d・Vx(x))
(ここで、a、b、c、dは、描画面の高さ情報をh、フィールド幅に関する高さ補正係数をa1、b1、フィールド回転に関する高さ補正係数をc1、d1とした時、a=a1・h、b=b1・h、c=c1・h、d=d1・hで表わされる比例係数)に基づいて補正することにより補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を算出する演算制御手段を備え、算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えることにより、フィールド幅と回転のずれを補正し、前記描画フィールドを縮小して描画する機能を用いてパターン描画を行う場合において、前記演算制御手段は、描画フィールドの縮小率γを乗ずることにより補正された比例係数a、bを用いて補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を算出し、算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えて描画を行なう、ことを特徴とする。
本発明は、ファインピッチコントロール描画機能や最小インクリメント可変描画機能の描画において、描画面の高さ変化とそれに伴うフォーカス補正によるフィールド幅と回転のズレを補正する時、縮小率の設定に対する最適なフィールド幅の高さ補正係数を自動的に算出するものである。
Δ=(1−h)・α−1・α=−h・α (7)
ここで、フィールド幅のズレΔは、(1),(2)式の第2項を示している。従って、(3),(4)式のフィールド幅の高さ補正係数a1とb1に対して、
a1∝α
b1∝α
が成立する。
a1’=a1・γ (8)
b1’=b1・γ (9)
と算出される。
2段の偏向器5の間には非点収差補正器6が設けられ、電子ビーム3の収差補正を行なう。該非点収差補正器6は、非点収差補正器制御系18により制御される。電子ビーム3は、対物レンズ4により描画材料2上に焦点を結ぶ。この時、XY駆動ステージ1上に載置された描画材料2の高さを高さ測定器12により測定し、信号検出系20に与える。
2 描画材料
3 電子ビーム
4 対物レンズ
5 偏向器
6 非点収差補正器
7 対物絞り
8 対物絞り位置調整機構
9 ズームレンズ
10 ブランキング電極
11 電子銃
12 高さ測定器
13 架体(真空チャンバ)
14 電子銃制御系
15 ビームブランキング制御系
16 電子光学系制御系
17 ビーム走査制御系
18 非点収差補正器制御系
19 XY駆動ステージ制御系
20 信号検出系
21 制御CPU
21a 高さ補正係数算出プログラム
22 描画データファイル
Claims (2)
- 描画面の高さ変化に対してフォーカス補正を行なう機能と、
描画面の高さ変化とそれに伴うフォーカス補正によるフィールド幅と回転のずれを補正するように偏向器を制御してパターンを描画する機能と、
描画フィールドを縮小して描画する機能とを備えたスポットビーム方式かつベクタ走査方式の電子ビーム描画装置を用いた描画方法であって、
前記偏向器に与えるx方向及びy方向の偏向信号Vx(x)、Vy(y)を、下式
Vx(x)’=Vx(x)+(a・Vx(x))+(c・Vy(y))
Vy(y)’=Vy(y)+(b・Vy(y))+(d・Vx(x))
(ここで、a、b、c、dは、描画面の高さ情報をh、フィールド幅に関する高さ補正係数をa1、b1、フィールド回転に関する高さ補正係数をc1、d1とした時、a=a1・h、b=b1・h、c=c1・h、d=d1・hで表わされる比例係数)
に基づいて補正することにより得られた補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えることにより、フィールド幅と回転のずれを補正し、
前記描画フィールドを縮小して描画する機能を用いてパターン描画を行う場合において、
描画フィールドの縮小率γを乗ずることにより補正された比例係数a、bを用いて算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えて描画を行なう、
ことを特徴とする電子ビーム描画装置の描画方法。 - 描画面の高さ変化に対してフォーカス補正を行なう機能と、
描画面の高さ変化とそれに伴うフォーカス補正によるフィールド幅と回転のずれを補正するように偏向器を制御してパターンを描画する機能と、描画フィールドを縮小して描画する機能とを備えたスポットビーム方式かつベクタ走査方式の電子ビーム描画装置であって、
前記偏向器に与えるx方向及びy方向の偏向信号Vx(x)、Vy(y)を、下式
Vx(x)’=Vx(x)+(a・Vx(x))+(c・Vy(y))
Vy(y)’=Vy(y)+(b・Vy(y))+(d・Vx(x))
(ここで、a、b、c、dは、描画面の高さ情報をh、フィールド幅に関する高さ補正係数をa1、b1、フィールド回転に関する高さ補正係数をc1、d1とした時、a=a1・h、b=b1・h、c=c1・h、d=d1・hで表わされる比例係数)
に基づいて補正することにより補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を算出する演算制御手段を備え、
算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えることにより、フィールド幅と回転のずれを補正し、
前記描画フィールドを縮小して描画する機能を用いてパターン描画を行う場合において、
前記演算制御手段は、描画フィールドの縮小率γを乗ずることにより補正された比例係数a、bを用いて補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を算出し、算出された補正偏向信号Vx(x)’、Vy(y)’を前記偏向器に与えて描画を行なう、
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。
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JP2007325580A JP5090887B2 (ja) | 2007-12-18 | 2007-12-18 | 電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置 |
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