JPH11297254A - 電子ビーム装置におけるステージ駆動装置 - Google Patents
電子ビーム装置におけるステージ駆動装置Info
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- JPH11297254A JPH11297254A JP10093195A JP9319598A JPH11297254A JP H11297254 A JPH11297254 A JP H11297254A JP 10093195 A JP10093195 A JP 10093195A JP 9319598 A JP9319598 A JP 9319598A JP H11297254 A JPH11297254 A JP H11297254A
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 モータの振動による影響を著しく低減し、高
い精度で走査電子顕微鏡像等の観察を行うことができる
電子ビーム装置におけるステージ駆動装置を実現する。 【解決手段】 ステージ制御ＭＰＵ１３に付属した入力
装置１７により、高速度モードと高精度モードを選択す
ることができる。高速度モードは、主として被描画材料
１へのパターン描画を行うときのモードであり、このモ
ードが選択されると、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッ
チ１６をＯＮとする。高精度モードは、装置の校正を行
ったり、材料１の表面の走査電子顕微鏡像を観察すると
きに用いられるモードである。入力装置１７により高精
度モードを選択すると、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイ
ッチ１６のＯＮ，ＯＦＦを所定のタイミングで行うよう
制御する。
い精度で走査電子顕微鏡像等の観察を行うことができる
電子ビーム装置におけるステージ駆動装置を実現する。 【解決手段】 ステージ制御ＭＰＵ１３に付属した入力
装置１７により、高速度モードと高精度モードを選択す
ることができる。高速度モードは、主として被描画材料
１へのパターン描画を行うときのモードであり、このモ
ードが選択されると、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッ
チ１６をＯＮとする。高精度モードは、装置の校正を行
ったり、材料１の表面の走査電子顕微鏡像を観察すると
きに用いられるモードである。入力装置１７により高精
度モードを選択すると、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイ
ッチ１６のＯＮ，ＯＦＦを所定のタイミングで行うよう
制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置等において、被描画材料が載せられたステージを移動
させるための電子ビーム装置におけるステージ駆動装置
に関する。
置等において、被描画材料が載せられたステージを移動
させるための電子ビーム装置におけるステージ駆動装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画装置では、被描画材料で
あるウエハあるいはマスク用のガラス乾板をＸＹ移動ス
テージ上に載置し、ステージを移動させることによって
材料の移動を行っている。
あるウエハあるいはマスク用のガラス乾板をＸＹ移動ス
テージ上に載置し、ステージを移動させることによって
材料の移動を行っている。
【０００３】この移動には、高精度かつ高速な位置決め
が要求される。図１はこのような電子ビーム描画装置の
ステージ移動の概略を示す図であり、図中１はウエハや
ガラス乾板などの被描画材料である。
が要求される。図１はこのような電子ビーム描画装置の
ステージ移動の概略を示す図であり、図中１はウエハや
ガラス乾板などの被描画材料である。
【０００４】被描画材料１はステージ２の上に載置され
ているが、ステージ２は、下部に設けられた送りネジ３
をモータ４によって回転させることにより、図中左右方
向に移動させられる。図示していないが、紙面に垂直な
方向にも送りネジが設けられ、その結果、ステージ２は
Ｘ，Ｙ２方向に移動させられる。
ているが、ステージ２は、下部に設けられた送りネジ３
をモータ４によって回転させることにより、図中左右方
向に移動させられる。図示していないが、紙面に垂直な
方向にも送りネジが設けられ、その結果、ステージ２は
Ｘ，Ｙ２方向に移動させられる。
【０００５】被描画材料１には、電子ビームＥＢが図示
していない対物レンズ等によって細く集束されて照射さ
れる。更に電子ビームＥＢは、位置決め偏向器５によっ
て偏向され、材料１上で電子ビームにより所望のパター
ンの描画が行われる。偏向器５には、偏向制御ユニット
６からの描画すべきパターンに応じた偏向信号が増幅器
７を介して供給される。
していない対物レンズ等によって細く集束されて照射さ
れる。更に電子ビームＥＢは、位置決め偏向器５によっ
て偏向され、材料１上で電子ビームにより所望のパター
ンの描画が行われる。偏向器５には、偏向制御ユニット
６からの描画すべきパターンに応じた偏向信号が増幅器
７を介して供給される。
【０００６】ステージ２の移動量は、良く知られたレー
ザ測長器８によって測定され、レーザ測長器８の測長結
果は、偏向制御ユニット６に供給される。偏向制御ユニ
ット６では、ステージ２の理論上の移動量と、レーザ測
長器８によって測定された実際の移動量との差を求め、
その差によって電子ビームの偏向量を補正するようにし
ている。
ザ測長器８によって測定され、レーザ測長器８の測長結
果は、偏向制御ユニット６に供給される。偏向制御ユニ
ット６では、ステージ２の理論上の移動量と、レーザ測
長器８によって測定された実際の移動量との差を求め、
その差によって電子ビームの偏向量を補正するようにし
ている。
【０００７】上記した構成で、被描画材料１に対する電
子ビームの描画は、偏向制御ユニット６からの描画パタ
ーンに応じた偏向信号を位置決め偏向器５に供給するこ
とによって行う。更にこの描画は、送りネジ３を回転さ
せてステージ２を移動させながら行う。
子ビームの描画は、偏向制御ユニット６からの描画パタ
ーンに応じた偏向信号を位置決め偏向器５に供給するこ
とによって行う。更にこの描画は、送りネジ３を回転さ
せてステージ２を移動させながら行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記した構成で、ステ
ージ２の移動のためのモータ４として、位置制御型のサ
ーボモータを使用した場合、ステージ２の位置決めを高
速に行うことが可能となる。しかしながら、ステージ２
が停止しているとき、モータ４の微小な振動がステージ
２に伝わり、この振動が問題となることがある。
ージ２の移動のためのモータ４として、位置制御型のサ
ーボモータを使用した場合、ステージ２の位置決めを高
速に行うことが可能となる。しかしながら、ステージ２
が停止しているとき、モータ４の微小な振動がステージ
２に伝わり、この振動が問題となることがある。
【０００９】この振動は、モータ４のコイルを励磁して
いる電流のリップルや位置制御部のフィードバックが原
因で生じる振幅の小さな振動である。この振動の振幅
は、モータの位置決め分解能の１／２から１／１０程度
であるが、電子ビーム描画装置で使用される高精度のス
テージでは、ほとんどガタがないので、この振動は実際
にステージの変位として伝わってしまう。この変位の量
としては０．１μｍ程度である。
いる電流のリップルや位置制御部のフィードバックが原
因で生じる振幅の小さな振動である。この振動の振幅
は、モータの位置決め分解能の１／２から１／１０程度
であるが、電子ビーム描画装置で使用される高精度のス
テージでは、ほとんどガタがないので、この振動は実際
にステージの変位として伝わってしまう。この変位の量
としては０．１μｍ程度である。
【００１０】描画時には、この程度の振動は電子ビーム
の位置を位置決め偏向器５によって電気的に補正をする
ことでほとんど問題とならない。ところが、装置の校正
を行う場合においては、ステージにスケールを設け、こ
のスケールを走査電子顕微鏡機能で観察しているが、こ
のような場合、あるいは、同じ装置で被描画材料の表面
を走査電子顕微鏡観察する場合では、補正しきれない誤
差（時間遅れによって生じる）が影響してくるため、高
い精度で走査電子顕微鏡像の観察を行うことができなく
なる。
の位置を位置決め偏向器５によって電気的に補正をする
ことでほとんど問題とならない。ところが、装置の校正
を行う場合においては、ステージにスケールを設け、こ
のスケールを走査電子顕微鏡機能で観察しているが、こ
のような場合、あるいは、同じ装置で被描画材料の表面
を走査電子顕微鏡観察する場合では、補正しきれない誤
差（時間遅れによって生じる）が影響してくるため、高
い精度で走査電子顕微鏡像の観察を行うことができなく
なる。
【００１１】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、モータの振動による影響を著しく
低減し、高い精度で走査電子顕微鏡像等の観察を行うこ
とができる電子ビーム装置におけるステージ駆動装置を
実現するにある。
もので、その目的は、モータの振動による影響を著しく
低減し、高い精度で走査電子顕微鏡像等の観察を行うこ
とができる電子ビーム装置におけるステージ駆動装置を
実現するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく電子
ビーム装置におけるステージ駆動装置は、モータによっ
て駆動される移動ステージ上に載せられた材料に対して
電子ビームを照射すると共に、電子ビームを材料の所定
領域で走査し、電子ビームの照射に基づいて材料から発
生した信号を検出し、検出信号に基づいて材料表面の像
を表示するようにした電子ビーム装置において、モータ
の制御器とモータとの間にスイッチを設け、ステージの
移動後における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにする
ように構成したことを特徴としている。
ビーム装置におけるステージ駆動装置は、モータによっ
て駆動される移動ステージ上に載せられた材料に対して
電子ビームを照射すると共に、電子ビームを材料の所定
領域で走査し、電子ビームの照射に基づいて材料から発
生した信号を検出し、検出信号に基づいて材料表面の像
を表示するようにした電子ビーム装置において、モータ
の制御器とモータとの間にスイッチを設け、ステージの
移動後における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにする
ように構成したことを特徴としている。
【００１３】第１の発明では、モータ駆動によりステー
ジを移動させる際、モータの制御器とモータとの間にス
イッチを設け、ステージの移動後における像の観察時に
はスイッチをＯＦＦにする。
ジを移動させる際、モータの制御器とモータとの間にス
イッチを設け、ステージの移動後における像の観察時に
はスイッチをＯＦＦにする。
【００１４】第２の発明に基づく電子ビーム装置におけ
るステージ駆動装置は、モータによって駆動される移動
ステージ上に載せられた材料に対して電子ビームを照射
すると共に、電子ビームを材料の所定領域で走査し、電
子ビームの照射に基づいて材料から発生した信号を検出
し、検出信号に基づいて材料表面の像を表示するように
した観察モードと、電子ビームを描画データに基づいて
偏向し、電子ビームによって材料上に所望パターンを描
画する描画モードとを有した電子ビーム装置において、
モータの制御器とモータとの間にスイッチを設け、描画
モードの期間中はスイッチをＯＮの状態に保ち、観察モ
ードの期間中のステージの移動時にはスイッチをＯＮと
し、ステージの移動後における像の観察時にはスイッチ
をＯＦＦにするように構成したことを特徴としている。
るステージ駆動装置は、モータによって駆動される移動
ステージ上に載せられた材料に対して電子ビームを照射
すると共に、電子ビームを材料の所定領域で走査し、電
子ビームの照射に基づいて材料から発生した信号を検出
し、検出信号に基づいて材料表面の像を表示するように
した観察モードと、電子ビームを描画データに基づいて
偏向し、電子ビームによって材料上に所望パターンを描
画する描画モードとを有した電子ビーム装置において、
モータの制御器とモータとの間にスイッチを設け、描画
モードの期間中はスイッチをＯＮの状態に保ち、観察モ
ードの期間中のステージの移動時にはスイッチをＯＮと
し、ステージの移動後における像の観察時にはスイッチ
をＯＦＦにするように構成したことを特徴としている。
【００１５】第２の発明では、描画モードと観察モード
を有した電子ビーム描画装置においてモータ駆動により
ステージを移動させる際、モータの制御器とモータとの
間にスイッチを設け、描画モードの期間中はスイッチを
ＯＮの状態に保ち、観察モードの期間中のステージの移
動時にはスイッチをＯＮとし、ステージの移動後におけ
る像の観察時にはスイッチをＯＦＦにする。
を有した電子ビーム描画装置においてモータ駆動により
ステージを移動させる際、モータの制御器とモータとの
間にスイッチを設け、描画モードの期間中はスイッチを
ＯＮの状態に保ち、観察モードの期間中のステージの移
動時にはスイッチをＯＮとし、ステージの移動後におけ
る像の観察時にはスイッチをＯＦＦにする。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図２は、本発明に基づく電
子ビーム描画装置の一例を示しており、図１の従来装置
と同一ないしは類似の構成要素には同一番号が付されて
いる。
施の形態を詳細に説明する。図２は、本発明に基づく電
子ビーム描画装置の一例を示しており、図１の従来装置
と同一ないしは類似の構成要素には同一番号が付されて
いる。
【００１７】図中１はウエハやガラス乾板などの被描画
材料である。被描画材料１はステージ２の上に載置され
ているが、ステージ２は、下部に設けられた送りネジ３
をモータ４によって回転させることにより、図中左右方
向に移動させられる。図示していないが、紙面に垂直な
方向にも送りネジが設けられ、その結果、ステージ２は
Ｘ，Ｙ２方向に移動させられる。
材料である。被描画材料１はステージ２の上に載置され
ているが、ステージ２は、下部に設けられた送りネジ３
をモータ４によって回転させることにより、図中左右方
向に移動させられる。図示していないが、紙面に垂直な
方向にも送りネジが設けられ、その結果、ステージ２は
Ｘ，Ｙ２方向に移動させられる。
【００１８】被描画材料１には、電子ビームＥＢが図示
していない対物レンズ等によって細く集束されて照射さ
れる。更に電子ビームＥＢは、位置決め偏向器５によっ
て偏向され、材料１上で電子ビームにより所望のパター
ンの描画が行われる。偏向器５には、偏向制御ユニット
６からの描画すべきパターンに応じた偏向信号が増幅器
７を介して供給される。
していない対物レンズ等によって細く集束されて照射さ
れる。更に電子ビームＥＢは、位置決め偏向器５によっ
て偏向され、材料１上で電子ビームにより所望のパター
ンの描画が行われる。偏向器５には、偏向制御ユニット
６からの描画すべきパターンに応じた偏向信号が増幅器
７を介して供給される。
【００１９】ステージ２の移動量は、良く知られたレー
ザ測長器８によって測定され、レーザ測長器８の測長結
果は、偏向制御ユニット６に供給される。偏向制御ユニ
ット６では、ステージ２の理論上の移動量と、レーザ測
長器８によって測定された実際の移動量との差を求め、
その差によって電子ビームの偏向量を補正するようにし
ている。
ザ測長器８によって測定され、レーザ測長器８の測長結
果は、偏向制御ユニット６に供給される。偏向制御ユニ
ット６では、ステージ２の理論上の移動量と、レーザ測
長器８によって測定された実際の移動量との差を求め、
その差によって電子ビームの偏向量を補正するようにし
ている。
【００２０】被描画材料１への電子ビームＥＢの照射に
よって発生した２次電子あるいは反射電子は、検出器１
０によって検出される。検出器１０の検出信号は、増幅
器１１を介して陰極線管１２に供給される。陰極線管１
２には、偏向制御ユニット１６から電子ビームＥＢの走
査信号に同期した走査信号が供給される。
よって発生した２次電子あるいは反射電子は、検出器１
０によって検出される。検出器１０の検出信号は、増幅
器１１を介して陰極線管１２に供給される。陰極線管１
２には、偏向制御ユニット１６から電子ビームＥＢの走
査信号に同期した走査信号が供給される。
【００２１】サーボモータ４は、ステージ制御ＭＰＵ
（マイクロプロセットユニット）１３によって制御され
るが、このステージ制御ＭＰＵ１３は、装置全体を制御
するコントロールユニット（図示せず）の下位に位置付
けられる。
（マイクロプロセットユニット）１３によって制御され
るが、このステージ制御ＭＰＵ１３は、装置全体を制御
するコントロールユニット（図示せず）の下位に位置付
けられる。
【００２２】ステージ制御ＭＰＵ１３は、モータ４を回
転させるための位置制御器１４に接続されており、位置
制御器１４は、指定された回転量だけモータ４を回転さ
せるため、モータ４のコイルを駆動する増幅器１５に接
続されると共に、モータからのフィードバック信号を受
け取るように構成されている。
転させるための位置制御器１４に接続されており、位置
制御器１４は、指定された回転量だけモータ４を回転さ
せるため、モータ４のコイルを駆動する増幅器１５に接
続されると共に、モータからのフィードバック信号を受
け取るように構成されている。
【００２３】増幅器１５とモータ４との間には、スイッ
チ１６が設けられており、スイッチ１６はステージ制御
ＭＰＵ１３によって開閉される。なお、ステージ制御Ｍ
ＰＵ１３には入力装置１７が付属されている。このよう
な構成の動作を次に説明する。
チ１６が設けられており、スイッチ１６はステージ制御
ＭＰＵ１３によって開閉される。なお、ステージ制御Ｍ
ＰＵ１３には入力装置１７が付属されている。このよう
な構成の動作を次に説明する。
【００２４】図２の構成で、ステージ制御ＭＰＵ１３に
付属した入力装置１７により、高速度モードと高精度モ
ードを選択することができる。高速度モードは、主とし
て被描画材料１へのパターン描画を行うときのモードで
あり、このモードが選択されると、ステージ制御ＭＰＵ
１３はスイッチ１６をＯＮとする。
付属した入力装置１７により、高速度モードと高精度モ
ードを選択することができる。高速度モードは、主とし
て被描画材料１へのパターン描画を行うときのモードで
あり、このモードが選択されると、ステージ制御ＭＰＵ
１３はスイッチ１６をＯＮとする。
【００２５】図３は高速度モードにおけるタイミング図
であり、図３（ａ）の横軸は時間、縦軸はモータ４の速
度である。また、図３（ｂ）はスイッチ１６のＯＮ，Ｏ
ＦＦのタイミングを示している。スイッチ１６がＯＦＦ
の状態から高速度モードに切り替わってスイッチ１６が
ＯＮされると、増幅器１５からモータ４に供給される出
力電圧が所望の値まで上昇するのを待つ出力スイッチＯ
Ｎ待ち時間が設けられる。
であり、図３（ａ）の横軸は時間、縦軸はモータ４の速
度である。また、図３（ｂ）はスイッチ１６のＯＮ，Ｏ
ＦＦのタイミングを示している。スイッチ１６がＯＦＦ
の状態から高速度モードに切り替わってスイッチ１６が
ＯＮされると、増幅器１５からモータ４に供給される出
力電圧が所望の値まで上昇するのを待つ出力スイッチＯ
Ｎ待ち時間が設けられる。
【００２６】この待ち時間において、パターン描画を行
うための描画データの準備が並列に処理される。出力電
圧が上昇すると、位置制御器１４からモータ４にはステ
ージ２の移動量に応じたパルスが供給され、モータの回
転にともなって送りネジが回転し、ステージ２は所定距
離移動させられる。
うための描画データの準備が並列に処理される。出力電
圧が上昇すると、位置制御器１４からモータ４にはステ
ージ２の移動量に応じたパルスが供給され、モータの回
転にともなって送りネジが回転し、ステージ２は所定距
離移動させられる。
【００２７】ステージ２の移動後、被描画材料１には電
子ビームＥＢによるパターンの描画が実行される。この
期間、スイッチ１６はＯＮの状態が継続される。パター
ン描画が終了した後、再び位置制御器１４からモータ４
にはステージ移動のためのパルスが供給される。
子ビームＥＢによるパターンの描画が実行される。この
期間、スイッチ１６はＯＮの状態が継続される。パター
ン描画が終了した後、再び位置制御器１４からモータ４
にはステージ移動のためのパルスが供給される。
【００２８】この時、スイッチ１６はＯＮの状態となっ
ているので、モータは速やかに回転させられる。この被
描画材料１へのパターン描画時に発生したステージ２の
位置誤差は、レーザ測長器８からの移動量の測定結果に
基づき、偏向制御ユニット６における偏向信号の補正処
理により補正される。
ているので、モータは速やかに回転させられる。この被
描画材料１へのパターン描画時に発生したステージ２の
位置誤差は、レーザ測長器８からの移動量の測定結果に
基づき、偏向制御ユニット６における偏向信号の補正処
理により補正される。
【００２９】次に、高精度モードについて説明する。高
精度モードは、装置の校正を行ったり、材料１の表面の
走査電子顕微鏡像を観察するときに用いられるモードで
ある。入力装置１７により高精度モードを選択すると、
ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッチ１６のＯＮ，ＯＦＦ
を所定のタイミングで行うよう制御する。
精度モードは、装置の校正を行ったり、材料１の表面の
走査電子顕微鏡像を観察するときに用いられるモードで
ある。入力装置１７により高精度モードを選択すると、
ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッチ１６のＯＮ，ＯＦＦ
を所定のタイミングで行うよう制御する。
【００３０】図４は高精度モードにおけるタイミング図
であり、図４（ａ）の横軸は時間、縦軸はモータ４の速
度である。また、図４（ｂ）はスイッチ１６のＯＮ，Ｏ
ＦＦのタイミングを示している。入力装置１７を走査し
て高精度モードを選択すると、ステージ制御ＭＰＵ１３
は、スイッチ１６をＯＦＦし、モータ４に出力電圧が印
加されないようにしてモータに振動が発生しないように
する。
であり、図４（ａ）の横軸は時間、縦軸はモータ４の速
度である。また、図４（ｂ）はスイッチ１６のＯＮ，Ｏ
ＦＦのタイミングを示している。入力装置１７を走査し
て高精度モードを選択すると、ステージ制御ＭＰＵ１３
は、スイッチ１６をＯＦＦし、モータ４に出力電圧が印
加されないようにしてモータに振動が発生しないように
する。
【００３１】この状態で偏向制御ユニット６から位置決
め偏向器５に走査信号を供給し、電子ビームＥＢを材料
１の所定領域で走査する。この走査により材料１から発
生した、例えば２次電子を検出器１０によって検出す
る。検出器１０の検出信号を増幅器１１を介して陰極線
管１２に供給すれば、陰極線管１２には材料１表面の走
査電子顕微鏡像が表示される。
め偏向器５に走査信号を供給し、電子ビームＥＢを材料
１の所定領域で走査する。この走査により材料１から発
生した、例えば２次電子を検出器１０によって検出す
る。検出器１０の検出信号を増幅器１１を介して陰極線
管１２に供給すれば、陰極線管１２には材料１表面の走
査電子顕微鏡像が表示される。
【００３２】次に、オペレータが入力装置を用いて観察
場所の移動などを指示した場合は、モータ４の駆動が必
要となるために、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッチ１
６をＯＮとする。この際、モータ４への出力電圧が上が
るのを所定時間待ち（ＯＮ待ち時間）、その後位置制御
器１４からパルスを発生しモータ４に供給する。
場所の移動などを指示した場合は、モータ４の駆動が必
要となるために、ステージ制御ＭＰＵ１３はスイッチ１
６をＯＮとする。この際、モータ４への出力電圧が上が
るのを所定時間待ち（ＯＮ待ち時間）、その後位置制御
器１４からパルスを発生しモータ４に供給する。
【００３３】パルスの供給によりモータ４は回転し、ス
テージ２は移動させられる。所定距離のステージ２の移
動が完了したら、再びスイッチ１６をＯＦＦにする。こ
の際、増幅器１５からモータ４への出力電圧が落ちるま
でには、一定時間を要することから、この出力電圧が落
ちるまで所定時間待ち（ＯＦＦ待ち時間）、次の動作を
行う。
テージ２は移動させられる。所定距離のステージ２の移
動が完了したら、再びスイッチ１６をＯＦＦにする。こ
の際、増幅器１５からモータ４への出力電圧が落ちるま
でには、一定時間を要することから、この出力電圧が落
ちるまで所定時間待ち（ＯＦＦ待ち時間）、次の動作を
行う。
【００３４】このように、高精度モードでは、待ち時間
が生じるものの、スイッチがＯＦＦとされ、モータ４に
は電圧が印加されず振動が発生しないので、走査電子顕
微鏡像の観察や装置の校正動作のための観察は高精度で
行うことができる。なお、この待ち時間は、１０〜１０
０ｍｓであり、オペレータの操作が介在する校正や走査
電子顕微鏡像の観察では、この程度の時間はほとんど問
題にならない。
が生じるものの、スイッチがＯＦＦとされ、モータ４に
は電圧が印加されず振動が発生しないので、走査電子顕
微鏡像の観察や装置の校正動作のための観察は高精度で
行うことができる。なお、この待ち時間は、１０〜１０
０ｍｓであり、オペレータの操作が介在する校正や走査
電子顕微鏡像の観察では、この程度の時間はほとんど問
題にならない。
【００３５】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、電子ビーム描
画装置を例に説明したが、走査電子顕微鏡等の他の電子
ビーム装置にも適用することができる。
発明はこの形態に限定されない。例えば、電子ビーム描
画装置を例に説明したが、走査電子顕微鏡等の他の電子
ビーム装置にも適用することができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、第１の発明では、
モータ駆動によりステージを移動させる際、モータの制
御器とモータとの間にスイッチを設け、ステージの移動
後における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにするよう
に構成したので、走査電子顕微鏡像の観察や装置の高精
度の校正動作のための観察は高精度で行うことができ
る。
モータ駆動によりステージを移動させる際、モータの制
御器とモータとの間にスイッチを設け、ステージの移動
後における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにするよう
に構成したので、走査電子顕微鏡像の観察や装置の高精
度の校正動作のための観察は高精度で行うことができ
る。
【００３７】また、第２の発明では、描画モードと観察
モードを有した電子ビーム描画装置においてモータ駆動
によりステージを移動させる際、モータの制御器とモー
タとの間にスイッチを設け、描画モードの期間中はスイ
ッチをＯＮの状態に保ち、観察モードの期間中のステー
ジの移動時にはスイッチをＯＮとし、ステージの移動後
における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにするように
構成したので、描画は所定の精度で高速度で行い、走査
電子顕微鏡像の観察や装置の高精度の校正動作のための
観察は高精度で行うことができる。
モードを有した電子ビーム描画装置においてモータ駆動
によりステージを移動させる際、モータの制御器とモー
タとの間にスイッチを設け、描画モードの期間中はスイ
ッチをＯＮの状態に保ち、観察モードの期間中のステー
ジの移動時にはスイッチをＯＮとし、ステージの移動後
における像の観察時にはスイッチをＯＦＦにするように
構成したので、描画は所定の精度で高速度で行い、走査
電子顕微鏡像の観察や装置の高精度の校正動作のための
観察は高精度で行うことができる。
【図１】従来のステージ駆動装置を示す図である。
【図２】本発明に基づく電子ビーム描画装置のステージ
駆動装置を示す図である。
駆動装置を示す図である。
【図３】高速度モードにおけるモータの速度スイッチの
切り替えタイミングを示す図である。
切り替えタイミングを示す図である。
【図４】高精度モードにおけるモータの速度スイッチの
切り替えタイミングを示す図である。
切り替えタイミングを示す図である。
１ 被描画材料 ２ ステージ ３ 送りネジ ４ モータ ５ 位置決め偏向器 ６ 偏向制御ユニット ８ レーザ測長器 １０ ２次電子検出器 １２ 陰極線管 １３ ステージ制御ＭＰＵ １４ 位置制御器 １６ スイッチ １７ 入力装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｋ
Claims (2)
- 【請求項１】 モータによって駆動される移動ステージ
上に載せられた材料に対して電子ビームを照射すると共
に、電子ビームを材料の所定領域で走査し、電子ビーム
の照射に基づいて材料から発生した信号を検出し、検出
信号に基づいて材料表面の像を表示するようにした電子
ビーム装置において、モータの制御器とモータとの間に
スイッチを設け、ステージの移動後における像の観察時
にはスイッチをＯＦＦにするように構成した電子ビーム
装置におけるステージ駆動装置。 - 【請求項２】 モータによって駆動される移動ステージ
上に載せられた材料に対して電子ビームを照射すると共
に、電子ビームを材料の所定領域で走査し、電子ビーム
の照射に基づいて材料から発生した信号を検出し、検出
信号に基づいて材料表面の像を表示するようにした観察
モードと、電子ビームを描画データに基づいて偏向し、
電子ビームによって材料上に所望パターンを描画する描
画モードとを有した電子ビーム装置において、モータの
制御器とモータとの間にスイッチを設け、描画モードの
期間中はスイッチをＯＮの状態に保ち、観察モードの期
間中のステージの移動時にはスイッチをＯＮとし、ステ
ージの移動後における像の観察時にはスイッチをＯＦＦ
にするように構成した電子ビーム装置におけるステージ
駆動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10093195A JPH11297254A (ja) | 1998-04-06 | 1998-04-06 | 電子ビーム装置におけるステージ駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10093195A JPH11297254A (ja) | 1998-04-06 | 1998-04-06 | 電子ビーム装置におけるステージ駆動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11297254A true JPH11297254A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14075809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10093195A Withdrawn JPH11297254A (ja) | 1998-04-06 | 1998-04-06 | 電子ビーム装置におけるステージ駆動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11297254A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2404783A (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-09 | Leica Microsys Lithography Ltd | Dual-mode electron beam lithography machine |
-
1998
- 1998-04-06 JP JP10093195A patent/JPH11297254A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2404783A (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-09 | Leica Microsys Lithography Ltd | Dual-mode electron beam lithography machine |
| GB2404783B (en) * | 2003-08-01 | 2005-12-14 | Leica Microsys Lithography Ltd | Dual-mode electron beam lithography machine |
| US7053388B2 (en) | 2003-08-01 | 2006-05-30 | Leica Microsystems Lithography Ltd. | Dual-mode electron beam lithography machine |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |