JPH103876A - 走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法および走査角度 自動調整可能な走査型電子顕微鏡 - Google Patents
走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法および走査角度 自動調整可能な走査型電子顕微鏡Info
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- JPH103876A JPH103876A JP8153723A JP15372396A JPH103876A JP H103876 A JPH103876 A JP H103876A JP 8153723 A JP8153723 A JP 8153723A JP 15372396 A JP15372396 A JP 15372396A JP H103876 A JPH103876 A JP H103876A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】走査型電子顕微鏡において、画像の回転量を自
動的に測定し、走査方向を自動的補正するイメージロー
テーションを提供する。 【解決手段】 電子銃１２とコンデンサレンズ１３と電
磁偏向器１４と対物レンズ１５からなる電子光学系と、
可動ステージ２１と２次電子検出手段を収容した試料室
２と、電子光学制御系３１などからなる制御系３と、表
示系４からなる走査型電子顕微鏡において、２次電子検
出手段の出力に基づいて試料像の回転角度を検出する回
転角度検出手段３４と、検出した回転角度に基づいて電
磁偏向器１４に印加される垂直偏向電圧を補正する偏向
制御手段３５とを備えた。
動的に測定し、走査方向を自動的補正するイメージロー
テーションを提供する。 【解決手段】 電子銃１２とコンデンサレンズ１３と電
磁偏向器１４と対物レンズ１５からなる電子光学系と、
可動ステージ２１と２次電子検出手段を収容した試料室
２と、電子光学制御系３１などからなる制御系３と、表
示系４からなる走査型電子顕微鏡において、２次電子検
出手段の出力に基づいて試料像の回転角度を検出する回
転角度検出手段３４と、検出した回転角度に基づいて電
磁偏向器１４に印加される垂直偏向電圧を補正する偏向
制御手段３５とを備えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体ウェハなどの観察や半
導体チップの配線パターンの線幅測長などに用いる走査
型電子顕微鏡における電子ビームの走査角度を自動的に
調整する方法に関する。
導体チップの配線パターンの線幅測長などに用いる走査
型電子顕微鏡における電子ビームの走査角度を自動的に
調整する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常の電子顕微鏡は、二次電子から得ら
れる画像を回転させたい場合、回転角度はオペレータが
目視によって回転量を判断し、調整していた。この調整
は、試料を機械的に回転させるか、または、電子ビーム
をスキャンする方向を電気的に調整するイメージローテ
ーションと呼ばれる手法で行われていた。
れる画像を回転させたい場合、回転角度はオペレータが
目視によって回転量を判断し、調整していた。この調整
は、試料を機械的に回転させるか、または、電子ビーム
をスキャンする方向を電気的に調整するイメージローテ
ーションと呼ばれる手法で行われていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の画面
回転手法では、測長型の走査型電子顕微鏡ではオペレー
タが画面を観察して目視によって画像を回転させる量を
判断し、測長方向が電子ビームの走査方向と一致するよ
うに回転調整してから測長を実行するという作業を強い
ていた。そして、このような目視による回転調整手法
は、オペレータによる個人差も発生し、精度のバラツキ
や誤差の発生を避けることができず、測長作業の全自動
化を進める上で障害となっていた。
回転手法では、測長型の走査型電子顕微鏡ではオペレー
タが画面を観察して目視によって画像を回転させる量を
判断し、測長方向が電子ビームの走査方向と一致するよ
うに回転調整してから測長を実行するという作業を強い
ていた。そして、このような目視による回転調整手法
は、オペレータによる個人差も発生し、精度のバラツキ
や誤差の発生を避けることができず、測長作業の全自動
化を進める上で障害となっていた。
【０００４】このような問題点に鑑み、本発明は、画像
の回転量を自動的に測定し、自動的に走査方向を補正す
ることによりオペレータの負担を軽減するとともに、オ
ペレータによる個人差をなくし、測長作業を自動化する
に適した、走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法お
よび走査角度の自動調整が可能な走査型電子顕微鏡を提
供することを目的とする。
の回転量を自動的に測定し、自動的に走査方向を補正す
ることによりオペレータの負担を軽減するとともに、オ
ペレータによる個人差をなくし、測長作業を自動化する
に適した、走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法お
よび走査角度の自動調整が可能な走査型電子顕微鏡を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明は、ＬＳＩパターン等の画像の回転角度を検
出する回転角度検出器を設け、これによって観察または
測長時に自動的に画像の回転角度を補正することができ
るようにしたものである。すなわち、この発明は、走査
型電子顕微鏡にかかり、電子ビームを発生し、また加速
し、これを収束や偏向させて、可動ステージ上に保持さ
れている試料にスキャン照射し、試料表面から発生する
２次電子を検出し、かつこれを電気信号に変換、表示さ
せて、試料表面のＬＳＩパターン等を観察，またはその
信号波形からＬＳＩパターン線幅を測長する構成と、前
記電気信号に変換、表示させた画像を回転させる機能を
有する観察するための自動回転補正方法および該自動回
転補正が可能な走査型電子顕微鏡である。
に、本発明は、ＬＳＩパターン等の画像の回転角度を検
出する回転角度検出器を設け、これによって観察または
測長時に自動的に画像の回転角度を補正することができ
るようにしたものである。すなわち、この発明は、走査
型電子顕微鏡にかかり、電子ビームを発生し、また加速
し、これを収束や偏向させて、可動ステージ上に保持さ
れている試料にスキャン照射し、試料表面から発生する
２次電子を検出し、かつこれを電気信号に変換、表示さ
せて、試料表面のＬＳＩパターン等を観察，またはその
信号波形からＬＳＩパターン線幅を測長する構成と、前
記電気信号に変換、表示させた画像を回転させる機能を
有する観察するための自動回転補正方法および該自動回
転補正が可能な走査型電子顕微鏡である。
【０００６】また、この発明方法は、走査型電子顕微鏡
にかかり、電子ビームを発生、加速、収束、偏向させ
て、可動ステージ上の試料に照射させ、試料表面から発
生する２次電子を検出器により検出し、かつこれを電気
信号に変換、表示装置上に表示させ、その試料表面のＬ
ＳＩパターン等を観察、あるいはその信号波形からＬＳ
Ｉパターン等の線幅を測長する方法において、前記被測
定試料表面のＬＳＩパターン等が表示装置上において回
転させる必要がある場合、自動的に回転角度を補正させ
ることができることを特徴とした、電子ビームによるＬ
ＳＩパターン等の観察、測長方法および該観察、測長が
可能な走査型電子顕微鏡である。
にかかり、電子ビームを発生、加速、収束、偏向させ
て、可動ステージ上の試料に照射させ、試料表面から発
生する２次電子を検出器により検出し、かつこれを電気
信号に変換、表示装置上に表示させ、その試料表面のＬ
ＳＩパターン等を観察、あるいはその信号波形からＬＳ
Ｉパターン等の線幅を測長する方法において、前記被測
定試料表面のＬＳＩパターン等が表示装置上において回
転させる必要がある場合、自動的に回転角度を補正させ
ることができることを特徴とした、電子ビームによるＬ
ＳＩパターン等の観察、測長方法および該観察、測長が
可能な走査型電子顕微鏡である。
【０００７】
【作用】本発明では、ＬＳＩパターンのライン等の観察
時に、画像の回転量を自動的に測定し、自動的に回転量
を補正することによりオペレータの負担を軽減するとと
もに、オペレータによる個人差をなくすことができる。
時に、画像の回転量を自動的に測定し、自動的に回転量
を補正することによりオペレータの負担を軽減するとと
もに、オペレータによる個人差をなくすことができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の走査角度自動調整方法お
よび走査型電子顕微鏡を用いた観察・測長方法が適用さ
れる走査型電子顕微鏡の構成の概要を図１の概念図に示
す。走査型電子顕微鏡は、鏡筒１と、試料室２と、制御
系３と、表示系４と、パラメータ入力器５とから構成さ
れる。
よび走査型電子顕微鏡を用いた観察・測長方法が適用さ
れる走査型電子顕微鏡の構成の概要を図１の概念図に示
す。走査型電子顕微鏡は、鏡筒１と、試料室２と、制御
系３と、表示系４と、パラメータ入力器５とから構成さ
れる。
【０００９】鏡筒１には、鏡筒１に囲まれた真空室１１
と、真空室の上部に設けた電子銃１２と、真空室の中部
の外側に配置されたコンデンサレンズ１３と、真空室の
下部の外側に配置された電磁偏向器１４と、真空室の下
部の外側に配置された対物レンズ１５とが収容されてい
る。
と、真空室の上部に設けた電子銃１２と、真空室の中部
の外側に配置されたコンデンサレンズ１３と、真空室の
下部の外側に配置された電磁偏向器１４と、真空室の下
部の外側に配置された対物レンズ１５とが収容されてい
る。
【００１０】電子銃１２およびコンデンサレンズ１３、
電磁偏向器１４、対物レンズ１５から電子光学系を構成
し、これらは、後述する電子光学制御回路３１によって
制御される。
電磁偏向器１４、対物レンズ１５から電子光学系を構成
し、これらは、後述する電子光学制御回路３１によって
制御される。
【００１１】試料室２には、試料を載置してｘ軸，ｙ軸
等に移動可能な可動ステージ２１と、試料を電子ビーム
で照射することによって発生した２次電子を検出する２
次電子検出手段２２が収容されている。
等に移動可能な可動ステージ２１と、試料を電子ビーム
で照射することによって発生した２次電子を検出する２
次電子検出手段２２が収容されている。
【００１２】図では、真空室１１を、概念的に一つの部
屋で示したが、実際には、真空室１１は、電子銃の進行
方向に複数のアパーチャ板によって仕切られた構成とな
っている。同様に、試料室２と前記真空室１１との間は
アパーチャ板によって仕切られている。
屋で示したが、実際には、真空室１１は、電子銃の進行
方向に複数のアパーチャ板によって仕切られた構成とな
っている。同様に、試料室２と前記真空室１１との間は
アパーチャ板によって仕切られている。
【００１３】制御系３は、前記電子光学系を制御する電
子光学制御手段３１と、中央演算処理装置（ＣＰＵ）３
２と、可動ステージ２１の駆動系を制御するステージ駆
動制御手段３３と、試料画像の回転角度を測定する回転
角度測定手段３４と、電磁偏向器１４を制御する偏向制
御手段３５と、各装置および手段間で制御信号やデータ
を伝送するバス３６などの他に、図示を省略したメモリ
などを有している。
子光学制御手段３１と、中央演算処理装置（ＣＰＵ）３
２と、可動ステージ２１の駆動系を制御するステージ駆
動制御手段３３と、試料画像の回転角度を測定する回転
角度測定手段３４と、電磁偏向器１４を制御する偏向制
御手段３５と、各装置および手段間で制御信号やデータ
を伝送するバス３６などの他に、図示を省略したメモリ
などを有している。
【００１４】表示系４は、２次電子検出手段２２が検出
した信号を増幅する画像信号増幅回路４１と、ＣＲＴを
有する表示器４２とを有している。表示器４２は、図示
を省略した掃引手段を有しており電子顕微鏡の電子ビー
ムの走査と同期した鋸歯状信号で水平方向および垂直方
向に掃引されており、画像信号増幅回路４１から入力さ
れる画像信号で輝度変調をかけることによって画面上に
試料像を表示する。可動ステージ２１上に載置された被
測定試料２３を電子ビームで照射することによって放出
される２次電子は、２次電子検出手段２２に入り、電気
信号に変換され、画像信号増幅回路４１で増幅されて表
示器４２に送られる。
した信号を増幅する画像信号増幅回路４１と、ＣＲＴを
有する表示器４２とを有している。表示器４２は、図示
を省略した掃引手段を有しており電子顕微鏡の電子ビー
ムの走査と同期した鋸歯状信号で水平方向および垂直方
向に掃引されており、画像信号増幅回路４１から入力さ
れる画像信号で輝度変調をかけることによって画面上に
試料像を表示する。可動ステージ２１上に載置された被
測定試料２３を電子ビームで照射することによって放出
される２次電子は、２次電子検出手段２２に入り、電気
信号に変換され、画像信号増幅回路４１で増幅されて表
示器４２に送られる。
【００１５】パラメータ入力器５は、倍率，被試料像の
回転角度，電子ビームの加速電圧等の電子顕微鏡の操作
に必要なパラメータや、自動回転補正実行の命令を入力
するテンキー等を有しており、パラメータが入力される
と、入力された情報に対応した信号が電子光学制御手段
３１に送られる。
回転角度，電子ビームの加速電圧等の電子顕微鏡の操作
に必要なパラメータや、自動回転補正実行の命令を入力
するテンキー等を有しており、パラメータが入力される
と、入力された情報に対応した信号が電子光学制御手段
３１に送られる。
【００１６】本発明は上記装置を用いて、半導体ウェハ
のチップの配線の幅を測長するときに、線の幅方向が電
子ビームの操作方向と同一になるように自動的に画像を
回転させる方法である。
のチップの配線の幅を測長するときに、線の幅方向が電
子ビームの操作方向と同一になるように自動的に画像を
回転させる方法である。
【００１７】すなわち、本発明の走査型電子顕微鏡の走
査角度自動調整方法は、表示器４２にＬＳＩパターン等
の試料２３の２次電子像が写し出されているとき、パラ
メータ入力器５から回転角補正実行命令が入力される
と、被測定試料から放出される２次電子の信号波形を用
いて、表示器４２の画面左端からパターンのエッジまで
の距離を画面の上下２点で測長する。
査角度自動調整方法は、表示器４２にＬＳＩパターン等
の試料２３の２次電子像が写し出されているとき、パラ
メータ入力器５から回転角補正実行命令が入力される
と、被測定試料から放出される２次電子の信号波形を用
いて、表示器４２の画面左端からパターンのエッジまで
の距離を画面の上下２点で測長する。
【００１８】表示器４２の画面上に表示された試料像の
概念を示す図２を用いて測長方法の概要を説明する。表
示器４２の画面上にＬＳＩパターン等のライン（配線）
４２３が表示されているとき、まず、試料像表示器４２
上部の点で、画面左端４２１からパターンエッジ４２
４までの距離ａ１を測長する。次いで、試料像表示器４
２下部点で、画面左端４２１からパターンエッジ４２
４までの距離ａ２を測長する。回転角度測定手段３４
は、ａ１＝ａ２となるように、電磁偏向器１４に与える
補正量Ａ（単位は度）を下記（１）式を用いて算出す
る。下記（１）式で、Ｄは、点と点の間隔である。
概念を示す図２を用いて測長方法の概要を説明する。表
示器４２の画面上にＬＳＩパターン等のライン（配線）
４２３が表示されているとき、まず、試料像表示器４２
上部の点で、画面左端４２１からパターンエッジ４２
４までの距離ａ１を測長する。次いで、試料像表示器４
２下部点で、画面左端４２１からパターンエッジ４２
４までの距離ａ２を測長する。回転角度測定手段３４
は、ａ１＝ａ２となるように、電磁偏向器１４に与える
補正量Ａ（単位は度）を下記（１）式を用いて算出す
る。下記（１）式で、Ｄは、点と点の間隔である。
【００１９】
【数１】
【００２０】得られた補正量Ａは、電子光学系制御手段
３１内の偏向制御手段３５に送られ、電磁偏向器１４の
垂直偏向信号を補正する。
３１内の偏向制御手段３５に送られ、電磁偏向器１４の
垂直偏向信号を補正する。
【００２１】この画像の回転補正方法を、図３を用いて
説明する。図３は、電磁偏向器１４に印加される水平偏
向電圧と垂直偏向電圧の一部時間区間の概要を示してお
り、横軸に時間を縦軸に偏向電圧を示している。図３
（Ａ）は水平偏向電圧を、図３（Ｂ）は通常の垂直偏向
電圧を、図３（Ｃ）は図２に示す回転を補正する場合の
垂直偏向電圧を、図３（Ｄ）は図２に示した回転と逆の
回転を補正する場合の垂直偏向電圧をそれぞれ示してい
る。電磁偏向器１４の水平偏向コイルには、図３（Ａ）
図のような鋸歯状波の水平偏向電圧が印加される。通常
の垂直偏向電圧は、図３（Ｂ）図のような一定の量で変
化する電圧である。このときの電磁ビームの走査方向
は、図２の表示器４２の画面の走査方向４２６と同一で
ある。試料像が図２に示すように回転している場合に
は、電子顕微鏡の電子ビームの垂直偏向電圧は、図３
（Ｃ）に示すような階段状に変化する波形に補正され
る。このことによって、電子顕微鏡の電子ビームは図２
の画面の線４２７のように走査され、配線４２３の幅方
向を走査することができる。試料像が図２と逆の向きに
回転している場合には、電子顕微鏡の電子ビームの垂直
偏向電圧は、図３（Ｄ）に示すような階段状に変化する
波形に補正され、電子顕微鏡の電子ビームは配線４２３
の幅方向を走査することができる。
説明する。図３は、電磁偏向器１４に印加される水平偏
向電圧と垂直偏向電圧の一部時間区間の概要を示してお
り、横軸に時間を縦軸に偏向電圧を示している。図３
（Ａ）は水平偏向電圧を、図３（Ｂ）は通常の垂直偏向
電圧を、図３（Ｃ）は図２に示す回転を補正する場合の
垂直偏向電圧を、図３（Ｄ）は図２に示した回転と逆の
回転を補正する場合の垂直偏向電圧をそれぞれ示してい
る。電磁偏向器１４の水平偏向コイルには、図３（Ａ）
図のような鋸歯状波の水平偏向電圧が印加される。通常
の垂直偏向電圧は、図３（Ｂ）図のような一定の量で変
化する電圧である。このときの電磁ビームの走査方向
は、図２の表示器４２の画面の走査方向４２６と同一で
ある。試料像が図２に示すように回転している場合に
は、電子顕微鏡の電子ビームの垂直偏向電圧は、図３
（Ｃ）に示すような階段状に変化する波形に補正され
る。このことによって、電子顕微鏡の電子ビームは図２
の画面の線４２７のように走査され、配線４２３の幅方
向を走査することができる。試料像が図２と逆の向きに
回転している場合には、電子顕微鏡の電子ビームの垂直
偏向電圧は、図３（Ｄ）に示すような階段状に変化する
波形に補正され、電子顕微鏡の電子ビームは配線４２３
の幅方向を走査することができる。
【００２２】
【実施例】以下、この装置を用いて半導体ウェハ上のチ
ップの配線の幅を測長するに当たって使用する、本発明
にかかる回転角度自動調整方法を説明する。上の説明で
は、距離ａ１と距離ａ２を、画面左端４２１からパター
ン４２３の左エッジ４２４迄の距離としたが、距離ａ１
と距離ａ２を画面左端４２１からパターン４２３の中点
あるいはパターン４２３の右エッジ４２５までとするこ
とができる。また、画面右端４２２から距離を測定する
ようにしてもよい。さらに、上の例では、パターンの回
転角度を画面上で測定したが、図１に点線で示したよう
に、２次電子検出手段２２からの信号を、水平偏向電圧
に同期して監視して、試料２３上の電子ビームの走査の
開始点または任意の点から測定するようにしてもよい。
ップの配線の幅を測長するに当たって使用する、本発明
にかかる回転角度自動調整方法を説明する。上の説明で
は、距離ａ１と距離ａ２を、画面左端４２１からパター
ン４２３の左エッジ４２４迄の距離としたが、距離ａ１
と距離ａ２を画面左端４２１からパターン４２３の中点
あるいはパターン４２３の右エッジ４２５までとするこ
とができる。また、画面右端４２２から距離を測定する
ようにしてもよい。さらに、上の例では、パターンの回
転角度を画面上で測定したが、図１に点線で示したよう
に、２次電子検出手段２２からの信号を、水平偏向電圧
に同期して監視して、試料２３上の電子ビームの走査の
開始点または任意の点から測定するようにしてもよい。
【００２３】さらに、本発明にかかる走査角度自動調整
方法は、線幅の測長のみならず監視の場合にも当然使用
し得る。
方法は、線幅の測長のみならず監視の場合にも当然使用
し得る。
【００２４】さらに、本発明は、上記イメージローテー
ションの手法のみならず、可動ステージの駆動手段に回
転手段を設け、可動ステージを回転する機械的なテーブ
ルの回転手法にも適用することができる。
ションの手法のみならず、可動ステージの駆動手段に回
転手段を設け、可動ステージを回転する機械的なテーブ
ルの回転手法にも適用することができる。
【００２５】さらに、以上の実施例は、本発明を電子ビ
ームを用いた走査型電子顕微鏡に適用したものであった
が、電子ビームの代わりに、イオンビーム等他の荷電粒
子線を用いた装置にも、本発明が同様に適用されること
は明らかである。
ームを用いた走査型電子顕微鏡に適用したものであった
が、電子ビームの代わりに、イオンビーム等他の荷電粒
子線を用いた装置にも、本発明が同様に適用されること
は明らかである。
【００２６】本発明は、自動的に試料像の回転を補正す
ることで、観察時には違和感の無い像を提供するととも
に、測長時にはオペレータがマニュアルで回転補正する
ことなく測長することができ、この回転手法を手動によ
る開始から自動的に開始するようにして自動測長シーケ
ンスのなかに組み込むことによって、測長作業を完全に
自動化することができる。
ることで、観察時には違和感の無い像を提供するととも
に、測長時にはオペレータがマニュアルで回転補正する
ことなく測長することができ、この回転手法を手動によ
る開始から自動的に開始するようにして自動測長シーケ
ンスのなかに組み込むことによって、測長作業を完全に
自動化することができる。
【００２７】
【発明の効果】本発明により、試料像の回転が自動的に
補正されるので、オペレータの負担が軽減され、また測
長時には、オペレータによる個人差による誤差の発生や
精度の低下をなくすことができた。またこの機能を、自
動測長装置の機能の一つとして組み込むことによって、
測長作業の完全自動化を達成することができる。
補正されるので、オペレータの負担が軽減され、また測
長時には、オペレータによる個人差による誤差の発生や
精度の低下をなくすことができた。またこの機能を、自
動測長装置の機能の一つとして組み込むことによって、
測長作業の完全自動化を達成することができる。
【図１】本発明が適用される走査型電子顕微鏡の構成を
示す概念図。
示す概念図。
【図２】表示器の画面に示されたＬＳＩ等のパターン部
分および測長点を説明する図。
分および測長点を説明する図。
【図３】本発明における電子顕微鏡の電磁偏向器に印加
される偏向電圧波形を示す図。
される偏向電圧波形を示す図。
１ 鏡筒 １１ 真空室 １２ 電子銃 １３ コンデンサレンズ １４ 電磁偏向器 １５ 対物レンズ ２ 試料室 ２１ 可動テーブル ２２ ２次電子検出手段 ２３ 試料 ３ 制御系 ３１ 電子光学制御手段 ３２ 中央演算処理装置（ＣＰＵ） ３３ ステージ駆動制御手段 ３４ 回転角度測定手段 ３５ 偏向制御手段 ３６ バス ４ 表示系 ４１ 画像信号増幅回路 ４２ 表示器 ５ パラメータ入力器
Claims (7)
- 【請求項１】 電子銃からの電子線を、試料室内の試料
に照射して走査するとともに、試料から放出された二次
電子を試料室内の検出器で検出する走査型電子顕微鏡に
おいて、 試料画像信号を用いて所定の位置からの画像パターンま
での距離を２点で測長して試料像の回転角度データを取
得し、 該回転角度データを用いて画像を回転させるようにした
ことを特徴とする走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整
方法。 - 【請求項２】 前記所定の位置が前記画像パターンを表
示させた画面の任意の位置である請求項１記載の走査型
電子顕微鏡の走査角度自動調整方法。 - 【請求項３】 前記所定の位置が前記画面の端部である
請求項２記載の走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方
法。 - 【請求項４】 前記２次電子検出器の出力を用いて回転
角度データを取得するようにした請求項１記載の走査型
電子顕微鏡の走査角度自動調整方法。 - 【請求項５】 前記回転角度データに基づいて電子顕微
鏡の偏向器に印加する垂直偏向電圧を補正することによ
り画像を回転させるようにした請求項１ないし請求項４
のいずれか記載の走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整
方法。 - 【請求項６】 前記回転角度データに基づいて可動ステ
ージを回転することにより画像を回転させるようにした
請求項１ないし請求項４のいずれか記載の走査型電子顕
微鏡の走査角度自動調整方法。 - 【請求項７】 少なくとも電子光学系と試料室と、制御
系と、表示系を有し、電子光学系の電子銃から発射され
た電子ビームを試料室内の試料に照射して走査し、試料
から放出された二次電子を検出して試料像を得るように
した走査型電子顕微鏡において、 試料像の回転角度を検出する回転角度検出器と、 検出した回転角度に基づいて電磁偏向器に印加される垂
直偏向電圧を補正する偏向制御器とを有することを特徴
とする走査角度自動調整可能な走査型電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153723A JPH103876A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法および走査角度 自動調整可能な走査型電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153723A JPH103876A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法および走査角度 自動調整可能な走査型電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH103876A true JPH103876A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15568697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8153723A Pending JPH103876A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 走査型電子顕微鏡の走査角度自動調整方法および走査角度 自動調整可能な走査型電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH103876A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7598497B2 (en) | 2006-08-31 | 2009-10-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus |
| EP3547346A3 (en) * | 2018-03-26 | 2020-02-12 | Shimadzu Corporation | Charged particle beam axial alignment device, charged particle beam irradiation device and charged particle beam axial alignment method |
-
1996
- 1996-06-14 JP JP8153723A patent/JPH103876A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7598497B2 (en) | 2006-08-31 | 2009-10-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus |
| EP3547346A3 (en) * | 2018-03-26 | 2020-02-12 | Shimadzu Corporation | Charged particle beam axial alignment device, charged particle beam irradiation device and charged particle beam axial alignment method |
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