JP2004536708A - 水性の処理液から金属イオンを除去するための組成物とその使用方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 48
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 claims abstract description 8
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 claims abstract description 6
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N dibenzylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)C(=S)SSC(=S)N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- HUMLQUKVJARKRN-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound [Na+].CCCCN(C([S-])=S)CCCC HUMLQUKVJARKRN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NGCCQISMNZBKJJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-3-methylquinoline Chemical compound ClC1=CC=C2N=C(Cl)C(C)=CC2=C1 NGCCQISMNZBKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-6-chlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 3-amino-3-(4-fluorophenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(N)C1=CC=C(F)C=C1 CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 17
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 11
- -1 silver ions Chemical class 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOEJYZSZYUROLN-UHFFFAOYSA-M Sodium diethyldithiocarbamate Chemical compound [Na+].CCN(CC)C([S-])=S IOEJYZSZYUROLN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005843 Thiram Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000002153 concerted effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000008394 flocculating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N n-(5-chloro-2,4-dimethoxyphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound COC1=CC(OC)=C(NC(=O)CC(C)=O)C=C1Cl DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- MYCPTMLDBVIIES-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound [Na+].C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)[S-])CC1=CC=CC=C1 MYCPTMLDBVIIES-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VMSRVIHUFHQIAL-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound [Na+].CN(C)C([S-])=S VMSRVIHUFHQIAL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
-
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Abstract
本発明は、水性の処理液から金属イオンを除去するための組成物と該組成物を使用する方法を提供する。これら組成物は、非金属化合物と適当な担体を含む。一実施態様では、非金属化合物はチウラムである。他の実施態様では、非金属化合物はジチオカルバミン酸塩をさらに含むことができる。これらの組成物は、湿潤剤を有している水性の処理液中の金属イオンに接触させられ、有機金属錯体沈殿物が形成される。沈殿物は、ついで、水溶液から分離することができる。
Description
【発明の開示】
【0001】
(関連出願の記載)
本発明は、全件について出典明示により全体がここに取り込まれる、2001年8月3日に全て出願した米国仮特許出願番号60/309836、60/309837及び60/309854に対して優先権を主張する。
【0002】
(発明の分野)
本発明は、水性のプロセス処理液から金属イオンを除去するための組成物と該組成物を用いる方法を記述している。
【0003】
(発明の背景)
様々な金属が多くの有用な産業プロセスで使用される。例えば、銀は、写真術、サーモグラフィ、フォトサーモグラフィのような多くの画像形成産業プロセスで使用されている。しかしながら、そのような処理は、環境には望ましくないであろうレベルの金属イオンが含まれている廃液を生じる。加えて、現在、多くの国は、環境中に放出してもよい、所定の金属イオンのレベルを規制する法律を有している。多量の未処理廃液の商業的な処理はコスト高になりうるので、費用効果が優れている仕方で廃液を処理するために協調した努力がなされている。さらに、これらの金属は、その回収を正当化する十分な価値がある場合がある。
【0004】
金属は、例えば、イオン交換、電気分解および沈降分離などのプロセスを利用して水性の廃液から除去されている。しかしながら、これら既知のプロセスには全て制約がある。イオン交換は、費用がかかり、遅く、非実用的である。イオン交換樹脂は、それらが複雑で高度な製造方法を必要とするので高価になる。このコストの一部は、イオン交換樹脂を再生することによって埋め合わせることができる。しかしながら、再生の間に生じる廃液は通常処理しなければならない。同様に、電気分解もまたメンテナンス、資源所要量、エネルギー投入量のために費用がかかる。電気分解は、また、汚染物質に非常に敏感で、一般に無駄なレベルの金属回収をもたらす。
【0005】
通常、沈降分離処理は、金属を、系にもはや溶解しないでタンクの底に沈殿する物質に転換する一又は複数の薬剤を用いる。しかしながら、現在知られている沈降分離処理には、以下の制約がある。再生することができない、好ましくない大量のスラッジが形成される可能性がある。ある沈降分離処理では、有用な結果をもたらすために、例えば、80℃を超える非常に高い温度に加熱することを必要とする。さらに他の処理では、金属を不溶性物質へ転換させるためにpH変化を使用することを必要とする。
したがって、水性の廃液(以下では、水性の処理液(aqueous process solutions)と呼ぶ)から金属イオンを効率的に回収する必要性がある。
【0006】
(発明の概要)
本発明は、水性の処理液から金属イオンを効率的に除去する方法を対象とする。
本方法は、(i)湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、(ii)有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離することを含む。反応工程は好ましくは約50℃以下の温度で行われる。本方法は好ましくは約3.0以上のpHで実施される。一実施態様では、処理組成物は、チウラムである非金属化合物を含む。他の実施態様では、処理組成物は、ジチオカルバミン酸塩である付加的な非金属化合物をさらに含む。
また、本発明は、上述した方法から得られる生成物を対象とする。
【0007】
(発明の詳細な記載)
本発明は、水性の処理液から金属イオンを除去するための方法を提供する。ここで用いられる「水性の処理液」という用語は、約1ppmから約15000ppmまでの金属イオンを含んでいる任意の液体を意味する。ここで用いられる「約」という用語は、示された値の±10%を意味する。ここで用いられる「水性」という用語は、水または水混和性溶媒を、溶液の約50重量%を超えて含むことを意味する。水性の処理液に対してここで用いられる方法は、適当なガス状処理混合物に対しても用いることができる。水性の処理液の非限定的な例には、次の技術:写真術、フォトサーモグラフィ、サーモグラフィ、リソグラフィ、冶金、半導体研磨、X線写真からの処理液が含まれる。ここで用いられる「金属イオン」という用語は、58−71および90−103の原子番号を有する元素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス、それらの混合物、およびそれらの合金を含み、(CRC Handbook of Chemistry and Physics, 62版, 1981-1982による)周期律表の第IB族から第VIIB族および第VIII族のあらゆる金属の可溶性形態を意味する。特に興味がある金属イオンは、資源保全再生法(Resource Conservation Recovery Act (RCRA))において特定されているものである。金属イオンは、ヒ素、バリウム、カドミウム、クロム、セシウム、銅、鉄、鉛、水銀、ニッケル、セレン、銀、テクネチウム、タリウム、亜鉛、アクチニド類、ランタニド類、それらの混合物、およびそれらの合金からなる群から選択されることが好ましい。
【0008】
本発明は、湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離する方法またはプロセスを対象とする。有機金属錯体は、例えば、沈降分離、濾過、遠心分離など、当業者に知られている任意の技術または方法によって分離することができる。処理される水性の処理液は、約100ppm未満、好ましくは約20ppm未満、より好ましくは約5ppm未満の金属イオンを含みうる。
【0009】
本発明の方法は、高濃度のキレート剤が存在していても、金属イオンをこれらの低レベルまで効率的に除去することができることが、意外にも見出された。キレート剤は、処理液中で金属イオンを維持するのに通常用いられているので、金属イオンの除去を妨害する。本発明の方法は、金属イオンに対するキレート剤の数値比率が約500:1より多い処理液中の金属イオンを効率的に除去するために利用することができる。実際、本方法は、金属イオンに対するキレート剤の数値比率が約1250000:1から約10:1まで、約500000:1から約20:1、および約100000:1から約100:1のいずれかにおいて効果的でもある。
【0010】
本発明の処理組成物は、組成物の重量の約1.0重量%〜100重量%、好ましくは約50重量%〜約99.99重量%の、金属イオンと結合している非金属化合物と、組成物の重量の約0.0重量%〜約99.0重量%、好ましくは約0.01重量%〜約50重量%の適当な担体(キャリヤ)を含む。非金属化合物は重合体ではないことが好ましい。処理組成物は、乾燥状態または液体状態で提供されうる。したがって、担体は、その効果において中性であるか、または非金属化合物の一又は複数の性質とその用途、例えば保存性や取り扱い性などを向上させる、当業者に知られている任意の液体物質または固体物質でありうる。適切な担体の一例は鉱油である。
【0011】
本発明の一実施形態では、本発明の処理組成物は、サイラム(thiram)とも呼ばれるチウラムである非金属化合物を含む。チウラムは、水性の処理液にやや溶けにくい。ここで用いる「やや溶けにくい」という用語は、0.1重量%未満の物質が水性の処理液に溶解することを意味する。如何なる理論によっても制限されることを望むものではないが、本発明の非金属化合物は、金属イオンとともに有機金属錯体を形成すると考えられる。有機金属錯体は、当業者に知られている任意の分離技術または方法によって水溶液から分離することができる沈殿物になる。非限定的な分離技術または方法には、濾過法、重力沈降分離法、遠心分離法、フロキュレーション法、脱水濾過法、メンブラン濾過法および浮上分離法(液体/空気濾過)が含まれる。
【0012】
チウラムの一つのグループは、以下に示す化学一般式(I)によって特徴付けることができる。
【化1】
(上式中、mは、1または2の整数であり;R1、R2、R3およびR4は、それぞれC1−C10の直鎖状アルキル、C3−C10の分枝状アルキル、C3−C10のシクロアルキル、並びに置換および非置換アリールからなる群から選択される)。当業者にはよく知られているように、上述した各R基の炭素原子または水素原子のいずれかは、必須の溶解度特性に有意に影響を及ぼさないで、非金属化合物の性能を調整する化学部分で置換されうる。
【0013】
式(I)の有用な非金属化合物の例には、限定するものではないが、テトラメチルチウラムモノスルフィド(CAS#97−74−5);ビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8);テトラベンジルチウラムジスルフィド(CAS#10591−85−2);テトラエチルチウラムジスルフィド(CAS#97−77−8);テトラブチルチウラムジスルフィド(CAS#1634−02−2)、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド(CAS#120−54−7)、並びにその混合物が含まれる。
【0014】
本発明の他の実施形態では、本発明の処理組成物は、ジチオカルバミン酸塩である水溶性の非金属化合物をさらに含む。ジチオカルバミン酸塩の一グループは、以下に示す化学一般式(II)によって特徴付けられうる。
【化2】
(上式中、nは、1または2の整数であり;oは1または2の整数であり;R5およびR6は、それぞれC1−C10の直鎖状アルキル、C3−C10の分枝状アルキル、C3−C10のシクロアルキル、並びに置換および非置換アリールからなる群から選択され、また、Yは、周期律表のIA族およびIIA族から選択された元素である)。当業者にはよく知られているように、上述したR群の各々の炭素原子または水素原子のいずれかは、非金属化合物の性能を向上させる部分で置換されうる。
【0015】
式(II)の有用な非金属化合物の例には、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#128−04−1)ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#148−18−5)、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#55310−46−8)、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#136−30−1)とその混合物が含まれるが、これに限定されない。
【0016】
水性の処理液は、約0.01モル〜約10モル、より好ましくは約0.025モル〜約0.5モル、さらに好ましくは約0.05モル〜約0.25モルの濃度で湿潤剤を有している。ある処理液は廃液流の成分として湿潤剤を既に有しているであろう。例えば、写真の廃液には、通常、十分な濃度で湿潤剤が含まれている。水性の処理液が湿潤剤を含まない場合は、適量の湿潤剤を加えることができる。界面活性剤としても知られている湿潤剤は、液体の表面張力を減少させるか、あるいは2種の液体間または液体と固体間の界面の表面張力を減少させる化合物である。したがって、湿潤剤は、反応の障害を低下させるのに役立つと考えられている。湿潤剤は、有機溶液と水溶液の双方に溶解しうる。しかしながら、ここで用いられる湿潤剤は、使用される濃度で水溶液に少なくとも可溶性であることが好ましい。有用な湿潤剤の一般的なカテゴリーには、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、カルボン酸、アルコールおよびアミンが含まれるが、これらに限定されない。双性イオン性および両性の界面活性剤もまた有用でありうる。有用な湿潤剤の例は、Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology (John Wiley and Sons, New York), 2002年6月4日発行のLabude等の米国特許第6399676号、および2000年7月11日発行のMasotti等の米国特許第6087312号に開示されており、その全てが出典明示によって全体がここに取り込まれる。有用な湿潤剤の例には、酢酸、プロパン酸、メタノール、エタノール、プロパノール、水酸化テトラエチルアンモニウム、脂肪酸およびその塩類、スルホン酸アルキルアリールおよびその混合物が含まれるが、これに限定されない。
【0017】
本方法は、任意の特定の方法によって最適化のために調整され得る、多種多様な反応変数で実施することが可能である。あらゆる化学反応におけるように、反応または滞留時間、すなわち、非金属化合物と水性の処理液の物理的な接触期間を増加させることが、沈殿する有機金属錯体の量および/またはサイズを増加させるのに有益である。したがって、考慮すべき他のプロセスおよび経済的な変数を考慮に入れて、許容される限り、反応または滞留時間を最大にすることが好ましい。通常は、反応または滞留時間は、少なくとも0.1時間、好ましくは約0.5時間から約125時間、さらに好ましくは約1時間から約10時間である。当業者にはよく分かるように、より高い反応温度では、より低い反応または滞留時間が必要とされる。
【0018】
反応は、広範囲にわたる温度で実施され得る。反応温度は、好ましくは約50℃以下、より好ましくは約45℃以下、最も好ましくは周囲温度である。ここで用いられる周囲温度とは、周囲の環境の標準の温度範囲であり、一般に約5℃〜約40℃の範囲を意味する。したがって、本発明の方法は、少し加熱するか、ほとんど加熱することなく実施でき、系へ投入される熱のコストが低減される。しかしながら、上述した範囲内の反応温度を達成するための少量の加熱が、最適な処理結果を達成するために望ましい。
【0019】
処理組成物中の非金属化合物の少なくともいくつかは、水性の処理液にはやや溶けにくいので、初期反応中または初期反応後に、何らかの既知の混合技術を使用することが好ましい。しかしながら、当業者に周知なように、大部分の親水性成分に少しの疎水性成分を含む系へ空気を導入するとエマルジョンを生じる。そのようなエマルジョンは、通常は親水性相の上部に層を形成する。このエマルジョン層は、当該分野で知られている任意の技術、例えばスキミング技術を利用することによって除去可能である。スキミングのような技術が分離工程において使用されない場合は、処理組成物を水溶液に加えた後に、系への空気の導入を最小にすることにより、エマルジョン層の形成を防止することができる。例えば、混合は、タンクの底の中心を外れた位置に羽根部材を配することによって、系に空気を導入する渦の形成を防止するように制御できる。あるいは、タンクは、タンク内の混合物の上部の空気量を有意に減少させる浮き蓋を有していてもよい。
【0020】
最後に、本方法は、特に本方法が実質的に無酸素環境内で実施されるならば、広範囲にわたるpHで実施することができる。しかしながら、酸素リッチの環境下では、例えば、フェントン反応で酸化された金属イオンによって分解されている有機物が増加する可能性があるため、3.0以上、好ましくは約4.0から12.0、より好ましくは約7.0から12.0のpHで本方法を実施することが好ましい。また、本方法は、より低い表面張力、例えば、およそ水中1重量%の酢酸の表面張力で、金属イオンのより十分な分離を実現すると考えられる。
【0021】
本発明の一実施態様では、本方法は、水性の処理液にバッチまたは連続システムで本発明の処理組成物を導入することを含む。そのようなシステムは、並列および/または直列で操業されうる。そのようなシステムは、通常は、水性の処理液が収容されている容器、例えばタンクを利用し、この容器は、例えば、当業者に知られている任意の混合技術を利用することにより、混合するのに適合化されている。処理組成物は、任意のよく知られた添加方法、例えば計量によって、水性の処理液中に存在する金属イオンに比例する濃度で加えられる。この実施態様では、処理組成物は、非金属化合物が、水性の処理液中に存在する金属イオンに対する非金属化合物のモル比が約1.0:1.0から約1.0:4.0、好ましくは約1.0:1.2から約1.0:3.0、より好ましくは約1.0:1.5から約1.0:2.5の濃度になるように、加えられる。いくつかの非金属化合物は、水性の処理液と非金属化合物の少なくとも2.5×10−3重量%の濃度レベルで効果的でさえあり得る。非金属化合物の多くが、酸素リッチの環境で、より高いレベル、例えば、約5ppmを超える汚染物質が存在する場合、例えば約pH4未満のpHである必要がある。汚染物質は、金属イオンおよび水以外の任意の化合物である。加えて、処理液が上述の必要なレベルの湿潤剤を含んでいない場合には、適切な量の湿潤剤を加えることができる。
【0022】
この実施態様はまた反応の完了後もしくは適切な反応または滞留時間が終了した後に分離工程を含む。当業者に知られている任意の分離技術または方法、例えば、沈降分離、遠心分離、濾過などを、水性の処理液から有機金属錯体沈殿物を分離するために用いることができる。連続系では、分離装置は、混合容器に直列に配することができる。生成される沈殿物は、後述するように、さらに処理される。
【0023】
本方法の他の実施態様では、金属イオンを含む水性の処理液は、粉体またはビーズ形態で非金属化合物を含む処理組成物の層に導入することができる。処理液が上述したレベルの湿潤剤を含んでいない場合は、適当な量の湿潤剤を加えることができる。この実施態様では、反応床には処理組成物が充填され、水性の処理液の流れが、重力または正圧によって反応床を通して制御され、他のプロセスまたは経済変数に関して反応の反応または滞留時間が最適化される。反応床は、任意の許容可能な幾何形態をとりうる。通常は、2モルの金属イオンは、約1モルの非金属化合物を必要とする。非金属化合物の多くが、酸素リッチの環境で、より高いレベル、例えば約5ppmを超える汚染物質が存在する場合、例えばpH約4未満のpHである必要がある。金属イオンの除去が受け入れがたい程度に達した場合、反応床内の処理組成物を取り替えることができる。ついで、生成する沈殿物は、後述するように、さらに処理される。
【0024】
上述した処理工程のいずれかを助けるか、最適化するために、当業者に知られている任意成分をまた使用することができる。例えば、沈降分離過程を助けるために凝集剤を用いることができる。凝集剤の非限定的な例にはアクリレート類が含まれる。また、攪拌の程度が変化しないと仮定して、消泡剤を混合工程で用いることもできる。消泡剤の非限定的な例にはシリコーン油が含まれる。
【0025】
当業者には良好に理解されるように、本発明の方法は、他の常套的な既知の金属イオン回収系、例えば、光化学現像液、定着液、金属置換を利用する漂白定着処理液、電解回収、化学沈澱、イオン交換および逆浸透との関連で使用することができる。例えば、水性の処理液は、本方法が使用される前に最初に電解処理してもよい。あるいは、本方法が電解処理の前に最初に使用されてもよい。
【0026】
上述したように、本発明の非金属化合物は金属イオンと反応して有機金属錯体を形成すると考えられる。如何なる理論によっても限定されることを望むものではないが、金属イオンは、ファンデルワールス力、イオン力、デルタおよび/またはシグマ結合を介して、非金属化合物上の一または複数の硫黄基に結合すると考えられる。したがって、回収された有機金属錯体をさらに処理して、当業者に知られている任意の方法によってそれらの吸引力を除去することにより、金属イオンを天然の金属として回収することができる。あるいは、錯体化した非金属化合物は、当業者に既知の任意の方法によって単に除去することができる。適切な除去技術の例には、酸化、分解、酸性化、および炎精製が含まれるが、これに限定されない。
【実施例】
【0027】
実施例1
混合下での処理組成物の使用
金属イオンを含む水性の処理液を、混合装置を取付けた容器に導入し、処理液が上述した必要とされるレベルの湿潤剤を含有していない場合は、適当量の湿潤剤を加えることができる。混合装置は、液体を十分に攪拌する如何なる装置でもよい。典型的な例は、Lightinシリーズ10のようなミキサーと、イワキMD−70あるいはMarchモデル1A−MDのようなポンプを含むが、これに限定されない。液体が一旦容器に移されると、処理組成物を加えることができ、その後、混合物を攪拌することができる。所望される金属イオン濃度が達成されるまで、この反応が進められる。完了するまでの反応時間は、温度、pHおよび溶液組成を含む様々な要因により影響される。
【0028】
特に、約2000ppmで銀イオンを有する光化学定着液から銀イオンが除去された。この反応は、以下に示すように、約7のpH、約25℃の反応温度で実施された。55ガロン(208リットル)の容器と、タンクを十分に混合することが可能な側面設置ミキサーを用いて、系への空気の導入を最小にしながら、50ガロン(189リットル)の光化学定着液が加えられた。定着液内の個々の成分の濃度は、定着液が写真室からの実際の廃液流であったため、容易には識別できなかった。しかしながら、使用された出発組成物からすると、定着液の廃液は約0.01から約0.1モルのアセテートの湿潤剤を含んでいたと推定された。ミキサーの起動後に、2ポンド(0.9kg)のパウダー状の純粋なビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8)を加えた。反応を約4時間進行させると、反応混合物が30分の間沈殿して、有機金属錯体を含む沈殿物層を底部に生じた。上澄みの水溶液について、パーキンエルマー炎原子吸光分光計を用いて銀イオンを調べた。金属イオンの濃度を得るために、そのような原子吸光分光計を用いる方法は当該分野においてよく知られている。濾過された水溶液には、約5ppm未満の銀イオンが含まれていた。
【0029】
実施例2
カラムでの処理組成物の使用
本発明の処理組成物は、処理組成物を圧縮して、固定床反応器に配置することが可能な、それぞれ約2から6mmの長さまたは直径を有するペレットまたはビーズを形成することによって、固定床反応器、例えばカラムで使用することもできる。一例としてカラムを用いると、カラムハウジングは、カラム内に処理組成物ペレットを保持しながら水性の処理液がカラムへ入り出ることを可能にする適切な継ぎ手を両端に備えたチューブ状であってもよい。まず、処理液が上述した要求レベルの湿潤剤を含んでいない場合は、適当な量の湿潤剤を加えることができる。一旦、処理組成物がカラムに加えられると、水性の処理液がカラムにゆっくりとポンプで送り込まれる。ついで、カラムから出た処理済液を濾過して、銀イオンを含む有機金属錯体の沈殿物を得ることができる。この実施態様は、流量を調節することによって、約10ppm未満の銀イオンを含む処理済液をもたらし得る。流量の調節は、例えば、初期銀イオン濃度、pH、および他の金属イオンなどの性能に影響を及ぼしうる他の要因を補償することができる。
【0030】
特に、約2000ppmの濃度で銀イオンを有する光化学定着液から銀イオンが除去された。実験は、次のようにして、約7のpH、約25℃の反応温度で実施された。ペレット状の約10ポンド(4.5kg)の純粋なビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8)を保持するのに十分大きなカラムを用いて、約200ガロン(757リットル)の光化学定着液を、カラムを通して毎時1ガロン(3.8リットル)の速度で絶え間なくポンプで送り込んだ。これにより、約200時間、実験を進行させることが可能となる。滞留時間は約5時間であった。カラムを出てくる処理された液を、1ミクロンのバグフィルターを用いて濾過して、銀イオンを含む沈殿物を得た。バグフィルターは、フィルタ・スペシャリスト(Filter Specialist)社から購入した。濾過された水溶液についてパーキンエルマー炎原子吸光分光計を用いて銀イオンを調べた。金属イオンの濃度を得るために、そのような原子吸光分光計を使うための方法は、当該分野においてよく知られている。濾過された水溶液には、約10ppmの銀イオンが含まれていた。
【0001】
(関連出願の記載)
本発明は、全件について出典明示により全体がここに取り込まれる、2001年8月3日に全て出願した米国仮特許出願番号60/309836、60/309837及び60/309854に対して優先権を主張する。
【0002】
(発明の分野)
本発明は、水性のプロセス処理液から金属イオンを除去するための組成物と該組成物を用いる方法を記述している。
【0003】
(発明の背景)
様々な金属が多くの有用な産業プロセスで使用される。例えば、銀は、写真術、サーモグラフィ、フォトサーモグラフィのような多くの画像形成産業プロセスで使用されている。しかしながら、そのような処理は、環境には望ましくないであろうレベルの金属イオンが含まれている廃液を生じる。加えて、現在、多くの国は、環境中に放出してもよい、所定の金属イオンのレベルを規制する法律を有している。多量の未処理廃液の商業的な処理はコスト高になりうるので、費用効果が優れている仕方で廃液を処理するために協調した努力がなされている。さらに、これらの金属は、その回収を正当化する十分な価値がある場合がある。
【0004】
金属は、例えば、イオン交換、電気分解および沈降分離などのプロセスを利用して水性の廃液から除去されている。しかしながら、これら既知のプロセスには全て制約がある。イオン交換は、費用がかかり、遅く、非実用的である。イオン交換樹脂は、それらが複雑で高度な製造方法を必要とするので高価になる。このコストの一部は、イオン交換樹脂を再生することによって埋め合わせることができる。しかしながら、再生の間に生じる廃液は通常処理しなければならない。同様に、電気分解もまたメンテナンス、資源所要量、エネルギー投入量のために費用がかかる。電気分解は、また、汚染物質に非常に敏感で、一般に無駄なレベルの金属回収をもたらす。
【0005】
通常、沈降分離処理は、金属を、系にもはや溶解しないでタンクの底に沈殿する物質に転換する一又は複数の薬剤を用いる。しかしながら、現在知られている沈降分離処理には、以下の制約がある。再生することができない、好ましくない大量のスラッジが形成される可能性がある。ある沈降分離処理では、有用な結果をもたらすために、例えば、80℃を超える非常に高い温度に加熱することを必要とする。さらに他の処理では、金属を不溶性物質へ転換させるためにpH変化を使用することを必要とする。
したがって、水性の廃液(以下では、水性の処理液(aqueous process solutions)と呼ぶ)から金属イオンを効率的に回収する必要性がある。
【0006】
(発明の概要)
本発明は、水性の処理液から金属イオンを効率的に除去する方法を対象とする。
本方法は、(i)湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、(ii)有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離することを含む。反応工程は好ましくは約50℃以下の温度で行われる。本方法は好ましくは約3.0以上のpHで実施される。一実施態様では、処理組成物は、チウラムである非金属化合物を含む。他の実施態様では、処理組成物は、ジチオカルバミン酸塩である付加的な非金属化合物をさらに含む。
また、本発明は、上述した方法から得られる生成物を対象とする。
【0007】
(発明の詳細な記載)
本発明は、水性の処理液から金属イオンを除去するための方法を提供する。ここで用いられる「水性の処理液」という用語は、約1ppmから約15000ppmまでの金属イオンを含んでいる任意の液体を意味する。ここで用いられる「約」という用語は、示された値の±10%を意味する。ここで用いられる「水性」という用語は、水または水混和性溶媒を、溶液の約50重量%を超えて含むことを意味する。水性の処理液に対してここで用いられる方法は、適当なガス状処理混合物に対しても用いることができる。水性の処理液の非限定的な例には、次の技術:写真術、フォトサーモグラフィ、サーモグラフィ、リソグラフィ、冶金、半導体研磨、X線写真からの処理液が含まれる。ここで用いられる「金属イオン」という用語は、58−71および90−103の原子番号を有する元素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス、それらの混合物、およびそれらの合金を含み、(CRC Handbook of Chemistry and Physics, 62版, 1981-1982による)周期律表の第IB族から第VIIB族および第VIII族のあらゆる金属の可溶性形態を意味する。特に興味がある金属イオンは、資源保全再生法(Resource Conservation Recovery Act (RCRA))において特定されているものである。金属イオンは、ヒ素、バリウム、カドミウム、クロム、セシウム、銅、鉄、鉛、水銀、ニッケル、セレン、銀、テクネチウム、タリウム、亜鉛、アクチニド類、ランタニド類、それらの混合物、およびそれらの合金からなる群から選択されることが好ましい。
【0008】
本発明は、湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離する方法またはプロセスを対象とする。有機金属錯体は、例えば、沈降分離、濾過、遠心分離など、当業者に知られている任意の技術または方法によって分離することができる。処理される水性の処理液は、約100ppm未満、好ましくは約20ppm未満、より好ましくは約5ppm未満の金属イオンを含みうる。
【0009】
本発明の方法は、高濃度のキレート剤が存在していても、金属イオンをこれらの低レベルまで効率的に除去することができることが、意外にも見出された。キレート剤は、処理液中で金属イオンを維持するのに通常用いられているので、金属イオンの除去を妨害する。本発明の方法は、金属イオンに対するキレート剤の数値比率が約500:1より多い処理液中の金属イオンを効率的に除去するために利用することができる。実際、本方法は、金属イオンに対するキレート剤の数値比率が約1250000:1から約10:1まで、約500000:1から約20:1、および約100000:1から約100:1のいずれかにおいて効果的でもある。
【0010】
本発明の処理組成物は、組成物の重量の約1.0重量%〜100重量%、好ましくは約50重量%〜約99.99重量%の、金属イオンと結合している非金属化合物と、組成物の重量の約0.0重量%〜約99.0重量%、好ましくは約0.01重量%〜約50重量%の適当な担体(キャリヤ)を含む。非金属化合物は重合体ではないことが好ましい。処理組成物は、乾燥状態または液体状態で提供されうる。したがって、担体は、その効果において中性であるか、または非金属化合物の一又は複数の性質とその用途、例えば保存性や取り扱い性などを向上させる、当業者に知られている任意の液体物質または固体物質でありうる。適切な担体の一例は鉱油である。
【0011】
本発明の一実施形態では、本発明の処理組成物は、サイラム(thiram)とも呼ばれるチウラムである非金属化合物を含む。チウラムは、水性の処理液にやや溶けにくい。ここで用いる「やや溶けにくい」という用語は、0.1重量%未満の物質が水性の処理液に溶解することを意味する。如何なる理論によっても制限されることを望むものではないが、本発明の非金属化合物は、金属イオンとともに有機金属錯体を形成すると考えられる。有機金属錯体は、当業者に知られている任意の分離技術または方法によって水溶液から分離することができる沈殿物になる。非限定的な分離技術または方法には、濾過法、重力沈降分離法、遠心分離法、フロキュレーション法、脱水濾過法、メンブラン濾過法および浮上分離法(液体/空気濾過)が含まれる。
【0012】
チウラムの一つのグループは、以下に示す化学一般式(I)によって特徴付けることができる。
【化1】
(上式中、mは、1または2の整数であり;R1、R2、R3およびR4は、それぞれC1−C10の直鎖状アルキル、C3−C10の分枝状アルキル、C3−C10のシクロアルキル、並びに置換および非置換アリールからなる群から選択される)。当業者にはよく知られているように、上述した各R基の炭素原子または水素原子のいずれかは、必須の溶解度特性に有意に影響を及ぼさないで、非金属化合物の性能を調整する化学部分で置換されうる。
【0013】
式(I)の有用な非金属化合物の例には、限定するものではないが、テトラメチルチウラムモノスルフィド(CAS#97−74−5);ビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8);テトラベンジルチウラムジスルフィド(CAS#10591−85−2);テトラエチルチウラムジスルフィド(CAS#97−77−8);テトラブチルチウラムジスルフィド(CAS#1634−02−2)、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド(CAS#120−54−7)、並びにその混合物が含まれる。
【0014】
本発明の他の実施形態では、本発明の処理組成物は、ジチオカルバミン酸塩である水溶性の非金属化合物をさらに含む。ジチオカルバミン酸塩の一グループは、以下に示す化学一般式(II)によって特徴付けられうる。
【化2】
(上式中、nは、1または2の整数であり;oは1または2の整数であり;R5およびR6は、それぞれC1−C10の直鎖状アルキル、C3−C10の分枝状アルキル、C3−C10のシクロアルキル、並びに置換および非置換アリールからなる群から選択され、また、Yは、周期律表のIA族およびIIA族から選択された元素である)。当業者にはよく知られているように、上述したR群の各々の炭素原子または水素原子のいずれかは、非金属化合物の性能を向上させる部分で置換されうる。
【0015】
式(II)の有用な非金属化合物の例には、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#128−04−1)ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#148−18−5)、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#55310−46−8)、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム(CAS#136−30−1)とその混合物が含まれるが、これに限定されない。
【0016】
水性の処理液は、約0.01モル〜約10モル、より好ましくは約0.025モル〜約0.5モル、さらに好ましくは約0.05モル〜約0.25モルの濃度で湿潤剤を有している。ある処理液は廃液流の成分として湿潤剤を既に有しているであろう。例えば、写真の廃液には、通常、十分な濃度で湿潤剤が含まれている。水性の処理液が湿潤剤を含まない場合は、適量の湿潤剤を加えることができる。界面活性剤としても知られている湿潤剤は、液体の表面張力を減少させるか、あるいは2種の液体間または液体と固体間の界面の表面張力を減少させる化合物である。したがって、湿潤剤は、反応の障害を低下させるのに役立つと考えられている。湿潤剤は、有機溶液と水溶液の双方に溶解しうる。しかしながら、ここで用いられる湿潤剤は、使用される濃度で水溶液に少なくとも可溶性であることが好ましい。有用な湿潤剤の一般的なカテゴリーには、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、カルボン酸、アルコールおよびアミンが含まれるが、これらに限定されない。双性イオン性および両性の界面活性剤もまた有用でありうる。有用な湿潤剤の例は、Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology (John Wiley and Sons, New York), 2002年6月4日発行のLabude等の米国特許第6399676号、および2000年7月11日発行のMasotti等の米国特許第6087312号に開示されており、その全てが出典明示によって全体がここに取り込まれる。有用な湿潤剤の例には、酢酸、プロパン酸、メタノール、エタノール、プロパノール、水酸化テトラエチルアンモニウム、脂肪酸およびその塩類、スルホン酸アルキルアリールおよびその混合物が含まれるが、これに限定されない。
【0017】
本方法は、任意の特定の方法によって最適化のために調整され得る、多種多様な反応変数で実施することが可能である。あらゆる化学反応におけるように、反応または滞留時間、すなわち、非金属化合物と水性の処理液の物理的な接触期間を増加させることが、沈殿する有機金属錯体の量および/またはサイズを増加させるのに有益である。したがって、考慮すべき他のプロセスおよび経済的な変数を考慮に入れて、許容される限り、反応または滞留時間を最大にすることが好ましい。通常は、反応または滞留時間は、少なくとも0.1時間、好ましくは約0.5時間から約125時間、さらに好ましくは約1時間から約10時間である。当業者にはよく分かるように、より高い反応温度では、より低い反応または滞留時間が必要とされる。
【0018】
反応は、広範囲にわたる温度で実施され得る。反応温度は、好ましくは約50℃以下、より好ましくは約45℃以下、最も好ましくは周囲温度である。ここで用いられる周囲温度とは、周囲の環境の標準の温度範囲であり、一般に約5℃〜約40℃の範囲を意味する。したがって、本発明の方法は、少し加熱するか、ほとんど加熱することなく実施でき、系へ投入される熱のコストが低減される。しかしながら、上述した範囲内の反応温度を達成するための少量の加熱が、最適な処理結果を達成するために望ましい。
【0019】
処理組成物中の非金属化合物の少なくともいくつかは、水性の処理液にはやや溶けにくいので、初期反応中または初期反応後に、何らかの既知の混合技術を使用することが好ましい。しかしながら、当業者に周知なように、大部分の親水性成分に少しの疎水性成分を含む系へ空気を導入するとエマルジョンを生じる。そのようなエマルジョンは、通常は親水性相の上部に層を形成する。このエマルジョン層は、当該分野で知られている任意の技術、例えばスキミング技術を利用することによって除去可能である。スキミングのような技術が分離工程において使用されない場合は、処理組成物を水溶液に加えた後に、系への空気の導入を最小にすることにより、エマルジョン層の形成を防止することができる。例えば、混合は、タンクの底の中心を外れた位置に羽根部材を配することによって、系に空気を導入する渦の形成を防止するように制御できる。あるいは、タンクは、タンク内の混合物の上部の空気量を有意に減少させる浮き蓋を有していてもよい。
【0020】
最後に、本方法は、特に本方法が実質的に無酸素環境内で実施されるならば、広範囲にわたるpHで実施することができる。しかしながら、酸素リッチの環境下では、例えば、フェントン反応で酸化された金属イオンによって分解されている有機物が増加する可能性があるため、3.0以上、好ましくは約4.0から12.0、より好ましくは約7.0から12.0のpHで本方法を実施することが好ましい。また、本方法は、より低い表面張力、例えば、およそ水中1重量%の酢酸の表面張力で、金属イオンのより十分な分離を実現すると考えられる。
【0021】
本発明の一実施態様では、本方法は、水性の処理液にバッチまたは連続システムで本発明の処理組成物を導入することを含む。そのようなシステムは、並列および/または直列で操業されうる。そのようなシステムは、通常は、水性の処理液が収容されている容器、例えばタンクを利用し、この容器は、例えば、当業者に知られている任意の混合技術を利用することにより、混合するのに適合化されている。処理組成物は、任意のよく知られた添加方法、例えば計量によって、水性の処理液中に存在する金属イオンに比例する濃度で加えられる。この実施態様では、処理組成物は、非金属化合物が、水性の処理液中に存在する金属イオンに対する非金属化合物のモル比が約1.0:1.0から約1.0:4.0、好ましくは約1.0:1.2から約1.0:3.0、より好ましくは約1.0:1.5から約1.0:2.5の濃度になるように、加えられる。いくつかの非金属化合物は、水性の処理液と非金属化合物の少なくとも2.5×10−3重量%の濃度レベルで効果的でさえあり得る。非金属化合物の多くが、酸素リッチの環境で、より高いレベル、例えば、約5ppmを超える汚染物質が存在する場合、例えば約pH4未満のpHである必要がある。汚染物質は、金属イオンおよび水以外の任意の化合物である。加えて、処理液が上述の必要なレベルの湿潤剤を含んでいない場合には、適切な量の湿潤剤を加えることができる。
【0022】
この実施態様はまた反応の完了後もしくは適切な反応または滞留時間が終了した後に分離工程を含む。当業者に知られている任意の分離技術または方法、例えば、沈降分離、遠心分離、濾過などを、水性の処理液から有機金属錯体沈殿物を分離するために用いることができる。連続系では、分離装置は、混合容器に直列に配することができる。生成される沈殿物は、後述するように、さらに処理される。
【0023】
本方法の他の実施態様では、金属イオンを含む水性の処理液は、粉体またはビーズ形態で非金属化合物を含む処理組成物の層に導入することができる。処理液が上述したレベルの湿潤剤を含んでいない場合は、適当な量の湿潤剤を加えることができる。この実施態様では、反応床には処理組成物が充填され、水性の処理液の流れが、重力または正圧によって反応床を通して制御され、他のプロセスまたは経済変数に関して反応の反応または滞留時間が最適化される。反応床は、任意の許容可能な幾何形態をとりうる。通常は、2モルの金属イオンは、約1モルの非金属化合物を必要とする。非金属化合物の多くが、酸素リッチの環境で、より高いレベル、例えば約5ppmを超える汚染物質が存在する場合、例えばpH約4未満のpHである必要がある。金属イオンの除去が受け入れがたい程度に達した場合、反応床内の処理組成物を取り替えることができる。ついで、生成する沈殿物は、後述するように、さらに処理される。
【0024】
上述した処理工程のいずれかを助けるか、最適化するために、当業者に知られている任意成分をまた使用することができる。例えば、沈降分離過程を助けるために凝集剤を用いることができる。凝集剤の非限定的な例にはアクリレート類が含まれる。また、攪拌の程度が変化しないと仮定して、消泡剤を混合工程で用いることもできる。消泡剤の非限定的な例にはシリコーン油が含まれる。
【0025】
当業者には良好に理解されるように、本発明の方法は、他の常套的な既知の金属イオン回収系、例えば、光化学現像液、定着液、金属置換を利用する漂白定着処理液、電解回収、化学沈澱、イオン交換および逆浸透との関連で使用することができる。例えば、水性の処理液は、本方法が使用される前に最初に電解処理してもよい。あるいは、本方法が電解処理の前に最初に使用されてもよい。
【0026】
上述したように、本発明の非金属化合物は金属イオンと反応して有機金属錯体を形成すると考えられる。如何なる理論によっても限定されることを望むものではないが、金属イオンは、ファンデルワールス力、イオン力、デルタおよび/またはシグマ結合を介して、非金属化合物上の一または複数の硫黄基に結合すると考えられる。したがって、回収された有機金属錯体をさらに処理して、当業者に知られている任意の方法によってそれらの吸引力を除去することにより、金属イオンを天然の金属として回収することができる。あるいは、錯体化した非金属化合物は、当業者に既知の任意の方法によって単に除去することができる。適切な除去技術の例には、酸化、分解、酸性化、および炎精製が含まれるが、これに限定されない。
【実施例】
【0027】
実施例1
混合下での処理組成物の使用
金属イオンを含む水性の処理液を、混合装置を取付けた容器に導入し、処理液が上述した必要とされるレベルの湿潤剤を含有していない場合は、適当量の湿潤剤を加えることができる。混合装置は、液体を十分に攪拌する如何なる装置でもよい。典型的な例は、Lightinシリーズ10のようなミキサーと、イワキMD−70あるいはMarchモデル1A−MDのようなポンプを含むが、これに限定されない。液体が一旦容器に移されると、処理組成物を加えることができ、その後、混合物を攪拌することができる。所望される金属イオン濃度が達成されるまで、この反応が進められる。完了するまでの反応時間は、温度、pHおよび溶液組成を含む様々な要因により影響される。
【0028】
特に、約2000ppmで銀イオンを有する光化学定着液から銀イオンが除去された。この反応は、以下に示すように、約7のpH、約25℃の反応温度で実施された。55ガロン(208リットル)の容器と、タンクを十分に混合することが可能な側面設置ミキサーを用いて、系への空気の導入を最小にしながら、50ガロン(189リットル)の光化学定着液が加えられた。定着液内の個々の成分の濃度は、定着液が写真室からの実際の廃液流であったため、容易には識別できなかった。しかしながら、使用された出発組成物からすると、定着液の廃液は約0.01から約0.1モルのアセテートの湿潤剤を含んでいたと推定された。ミキサーの起動後に、2ポンド(0.9kg)のパウダー状の純粋なビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8)を加えた。反応を約4時間進行させると、反応混合物が30分の間沈殿して、有機金属錯体を含む沈殿物層を底部に生じた。上澄みの水溶液について、パーキンエルマー炎原子吸光分光計を用いて銀イオンを調べた。金属イオンの濃度を得るために、そのような原子吸光分光計を用いる方法は当該分野においてよく知られている。濾過された水溶液には、約5ppm未満の銀イオンが含まれていた。
【0029】
実施例2
カラムでの処理組成物の使用
本発明の処理組成物は、処理組成物を圧縮して、固定床反応器に配置することが可能な、それぞれ約2から6mmの長さまたは直径を有するペレットまたはビーズを形成することによって、固定床反応器、例えばカラムで使用することもできる。一例としてカラムを用いると、カラムハウジングは、カラム内に処理組成物ペレットを保持しながら水性の処理液がカラムへ入り出ることを可能にする適切な継ぎ手を両端に備えたチューブ状であってもよい。まず、処理液が上述した要求レベルの湿潤剤を含んでいない場合は、適当な量の湿潤剤を加えることができる。一旦、処理組成物がカラムに加えられると、水性の処理液がカラムにゆっくりとポンプで送り込まれる。ついで、カラムから出た処理済液を濾過して、銀イオンを含む有機金属錯体の沈殿物を得ることができる。この実施態様は、流量を調節することによって、約10ppm未満の銀イオンを含む処理済液をもたらし得る。流量の調節は、例えば、初期銀イオン濃度、pH、および他の金属イオンなどの性能に影響を及ぼしうる他の要因を補償することができる。
【0030】
特に、約2000ppmの濃度で銀イオンを有する光化学定着液から銀イオンが除去された。実験は、次のようにして、約7のpH、約25℃の反応温度で実施された。ペレット状の約10ポンド(4.5kg)の純粋なビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド(CAS#137−26−8)を保持するのに十分大きなカラムを用いて、約200ガロン(757リットル)の光化学定着液を、カラムを通して毎時1ガロン(3.8リットル)の速度で絶え間なくポンプで送り込んだ。これにより、約200時間、実験を進行させることが可能となる。滞留時間は約5時間であった。カラムを出てくる処理された液を、1ミクロンのバグフィルターを用いて濾過して、銀イオンを含む沈殿物を得た。バグフィルターは、フィルタ・スペシャリスト(Filter Specialist)社から購入した。濾過された水溶液についてパーキンエルマー炎原子吸光分光計を用いて銀イオンを調べた。金属イオンの濃度を得るために、そのような原子吸光分光計を使うための方法は、当該分野においてよく知られている。濾過された水溶液には、約10ppmの銀イオンが含まれていた。
Claims (20)
- 水性の処理液から金属イオンを除去するための方法において、
湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、ここで該反応は約50℃以下の温度で行わしめると共に、
有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離してなる、方法。 - 反応工程が約3.0以上のpHで実施される請求項1に記載の方法。
- 非金属化合物がチウラムである請求項1に記載の方法。
- 非金属化合物が、テトラメチルチウラムモノスルフィド、ビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項4に記載の方法。
- 処理組成物が、ジチオカルバミン酸塩である付加的な非金属化合物を更に含有する請求項3に記載の方法。
- 付加的な非金属化合物が、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項7に記載の方法。
- 金属イオンが、ヒ素、バリウム、カドミウム、クロム、セシウム、銅、鉄、鉛、水銀、ニッケル、セレン、銀、テクネチウム、タリウム、亜鉛、アクチニド類、ランタニド類、それらの混合物、およびそれらの合金からなる群から選択される請求項1、3または6のいずれかに記載の方法。
- 非金属化合物が、水性の処理液中に金属イオンに対する非金属化合物のモル比で、約1.0:1.0から約1.0:4.0の濃度で存在する請求項1、3、または6のいずれかに記載の方法。
- 湿潤剤を有する水性の処理液中の金属イオンを、非金属化合物を有する処理組成物と反応させて、有機金属錯体沈殿物を生成させ、ここで該反応は約50℃以下の温度で行わしめると共に、
有機金属錯体沈殿物を水性の処理液から分離してなる、方法から得られる生成物。 - 反応工程が約3.0以上のpHで実施される請求項11に記載の生成物。
- 非金属化合物がチウラムである請求項11に記載の生成物。
- 非金属化合物が、テトラメチルチウラムモノスルフィド、ビス(ジメチルジチオカルバモイル)ジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項14に記載の生成物。
- 処理組成物が、ジチオカルバミン酸塩である付加的な非金属化合物を更に含有する請求項13に記載の生成物。
- 付加的な非金属化合物が、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項17に記載の生成物。
- 金属イオンが、ヒ素、バリウム、カドミウム、クロム、セシウム、銅、鉄、鉛、水銀、ニッケル、セレン、銀、テクネチウム、タリウム、亜鉛、アクチニド類、ランタニド類、それらの混合物、およびそれらの合金からなる群から選択される請求項11、13または16のいずれかに記載の生成物。
- 非金属化合物が、水性の処理液中に金属イオンに対する非金属化合物のモル比で、約1.0:1.0から約1.0:4.0の濃度で存在する請求項11、13、または16のいずれかに記載の生成物。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US30985401P | 2001-08-03 | 2001-08-03 | |
US30983701P | 2001-08-03 | 2001-08-03 | |
US30983601P | 2001-08-03 | 2001-08-03 | |
PCT/US2002/024678 WO2003012017A1 (en) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | Compositions for removing metal ions from aqueous process solutions and methods of use thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004536708A true JP2004536708A (ja) | 2004-12-09 |
Family
ID=27405415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003517195A Pending JP2004536708A (ja) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | 水性の処理液から金属イオンを除去するための組成物とその使用方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (7) | US6843923B2 (ja) |
EP (1) | EP1421162A4 (ja) |
JP (1) | JP2004536708A (ja) |
KR (1) | KR20040035712A (ja) |
CN (1) | CN1236034C (ja) |
AU (1) | AU2002355854B2 (ja) |
CA (1) | CA2455351A1 (ja) |
HK (1) | HK1072071A1 (ja) |
MX (1) | MXPA04001110A (ja) |
WO (3) | WO2003012017A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006226986A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-31 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | カドミウム測定方法およびその前処理装置 |
JP2009061450A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Evonik Energy Services Gmbh | 燃焼後の煙道ガスから水銀を除去する方法 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6843923B2 (en) * | 2001-08-03 | 2005-01-18 | Canadus Technologies Llc | Compositions for removing metal ions from aqueous process solutions and methods of use thereof |
US6863825B2 (en) | 2003-01-29 | 2005-03-08 | Union Oil Company Of California | Process for removing arsenic from aqueous streams |
US20100187178A1 (en) * | 2003-01-29 | 2010-07-29 | Molycorp Minerals, Llc | Process for removing and sequestering contaminants from aqueous streams |
CN1301219C (zh) * | 2005-10-08 | 2007-02-21 | 广州大学 | 硫酸厂排放的含铊及重金属混合废水的处理方法 |
CA2660982A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Dowling College | Methods of decontaminating water, catalysts therefor and methods of making catalysts |
US8066874B2 (en) * | 2006-12-28 | 2011-11-29 | Molycorp Minerals, Llc | Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic |
US20090107919A1 (en) * | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Chevron U.S.A. Inc. | Apparatus and process for treating an aqueous solution containing chemical contaminants |
US20090107925A1 (en) * | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Chevron U.S.A. Inc. | Apparatus and process for treating an aqueous solution containing biological contaminants |
US8252087B2 (en) * | 2007-10-31 | 2012-08-28 | Molycorp Minerals, Llc | Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant |
US8349764B2 (en) | 2007-10-31 | 2013-01-08 | Molycorp Minerals, Llc | Composition for treating a fluid |
KR101527972B1 (ko) * | 2008-08-12 | 2015-06-10 | 주식회사 포스코 | 스테인레스 소둔산세슬러지의 안정화 방법, 이를 이용한 시멘트 혼화제 제조방법, 그로부터 제조된 시멘트 혼화제 및 시멘트 조성물 |
CN101757885B (zh) * | 2008-12-25 | 2012-07-25 | 恩达电路(深圳)有限公司 | 一种重金属捕捉剂及其制备方法 |
TW201038510A (en) * | 2009-03-16 | 2010-11-01 | Molycorp Minerals Llc | Porous and durable ceramic filter monolith coated with a rare earth for removing contaminates from water |
AU2010233100A1 (en) * | 2009-04-09 | 2011-11-03 | Molycorp Minerals Llc | Use of a rare earth for the removal of antimony and bismuth |
US20110110817A1 (en) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | Molycorp Minerals, Llc | Rare earth removal of colorants |
CN101864525A (zh) * | 2010-04-27 | 2010-10-20 | 中国神华能源股份有限公司 | 一种由粉煤灰提取镓的方法 |
RU2466101C1 (ru) * | 2011-03-11 | 2012-11-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Воронежская государственная технологическая академия (ГОУ ВПО ВГТА) | Способ ионообменного разделения ионов меди (ii) и никеля (ii) |
US9233863B2 (en) | 2011-04-13 | 2016-01-12 | Molycorp Minerals, Llc | Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species |
US20140291246A1 (en) | 2013-03-16 | 2014-10-02 | Chemica Technologies, Inc. | Selective Adsorbent Fabric for Water Purification |
EP3113859A4 (en) | 2014-03-07 | 2017-10-04 | Secure Natural Resources LLC | Cerium (iv) oxide with exceptional arsenic removal properties |
CN105254075B (zh) * | 2015-11-13 | 2018-06-05 | 广东省环境科学研究院 | 一种重金属捕集剂及用于烧结脱硫废水的除铊方法 |
CN105417667B (zh) * | 2015-11-13 | 2018-06-05 | 广东省环境科学研究院 | 一种复配型重金属捕集剂及其制备方法 |
CN108164031B (zh) * | 2017-12-28 | 2020-03-24 | 广州超邦化工有限公司 | 一种氯化钾无氰镀镉废水的处理方法 |
CN108315774A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-07-24 | 广州超邦化工有限公司 | 一种三价铬镀铬液中镍和铜杂质的处理方法 |
CN111334382B (zh) * | 2020-04-17 | 2021-03-12 | 江西理工大学 | 一种基于芽孢的重金属清洁皂及其制备方法 |
CN112591926A (zh) * | 2020-10-21 | 2021-04-02 | 孙亚春 | 一种络合重金属废水处理工艺 |
CN113184974A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-07-30 | 北京国环莱茵环保科技股份有限公司 | 一种采用mbbr载体的芬顿高级氧化的方法 |
CN113802008A (zh) * | 2021-09-16 | 2021-12-17 | 兰州大学 | 一种含有铂族贵金属的废液的处理方法 |
Family Cites Families (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US34272A (en) * | 1862-01-28 | Improvement in knapsacks | ||
US1817500A (en) | 1928-01-14 | 1931-08-04 | Rubber Service Lab Co | Treating metals and compositions therefor |
GB1446548A (en) | 1972-11-01 | 1976-08-18 | Stevenson A | Effluent treatment |
JPS5235038B2 (ja) * | 1973-07-20 | 1977-09-07 | ||
US4053400A (en) | 1973-09-20 | 1977-10-11 | The Metalux Corporation | Purification of nickel and cobalt electroplating solutions |
SE420733B (sv) | 1974-05-30 | 1981-10-26 | Exploaterings Ab Tbf | Gelprodukt, innehallande tiosulfatgrupper samt sett for framstellning derav |
JPS5261124A (en) | 1975-11-15 | 1977-05-20 | Sagami Chem Res Center | Platinum recovering method |
JPS5294888A (en) | 1976-02-04 | 1977-08-09 | Chisso Corp | Granulated or molded product for removing heavy metals |
US4032416A (en) * | 1976-03-10 | 1977-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrolytic oxidation process |
JPS5315283A (en) | 1976-07-29 | 1978-02-10 | Chisso Corp | Granular formed product for removing heavy metals |
US4133755A (en) | 1976-07-26 | 1979-01-09 | Chisso Corporation | Agent for removing heavy metals |
JPS53149189A (en) | 1977-06-02 | 1978-12-26 | Chisso Corp | Granulating method for heavy metal removing agent |
JPS5366993A (en) | 1976-11-17 | 1978-06-14 | Chisso Corp | Polyvinyl (dialkylthiocarbamoylthio) acetate resin, its preparation and heav y metal removing agent containing the same |
US4180469A (en) * | 1977-12-30 | 1979-12-25 | Amchem Products, Inc. | Dithiocarbamate sulfonium salt inhibitor composition |
DE2910154A1 (de) | 1979-03-15 | 1980-09-25 | Bayer Ag | Kautschukdispersionen |
US4234455A (en) * | 1979-04-09 | 1980-11-18 | Uop Inc. | Catalyst preparation |
US4578195A (en) * | 1982-09-29 | 1986-03-25 | Olin Corporation | Process for the purification of effluents and purge streams containing trace elements |
NL8300446A (nl) | 1983-02-05 | 1984-09-03 | Unie Van Kunstmestfab Bv | Werkwijze voor het verwijderen van zware metalen uit waterige media. |
FR2548590B1 (fr) | 1983-07-05 | 1986-02-07 | Saint Gobain Isover | Composite haute densite a base de fibres minerales discontinues |
KR850001079Y1 (ko) | 1983-11-30 | 1985-05-31 | 삼성전자주식회사 | 전자식 타자기의 데이지 휘일 상하 구동장치 |
US4770788A (en) * | 1985-04-25 | 1988-09-13 | Kollmorgen Technologies Corp. | Process for removing metal complexes from waste solutions |
US4971775A (en) | 1987-06-30 | 1990-11-20 | Dowell Schlumberger | Process for removal of nickel from effluent containing EDTA |
SU1727054A1 (ru) * | 1989-04-28 | 1992-04-15 | Институт химии им.В.И.Никитина | Способ определени серебра |
USRE34272E (en) | 1989-05-04 | 1993-06-08 | Rem Chemicals, Inc. | Method and composition for refinement of metal surfaces |
FR2651781B1 (fr) * | 1989-09-14 | 1991-12-06 | Norsolor Sa | Polymeres a groupements disulfure de thiurame et leur preparation. |
US5189112A (en) * | 1989-10-19 | 1993-02-23 | Elf Atochem S.A. | Polymers having pendant thiuram disulphide functions |
UA27705C2 (uk) | 1990-07-11 | 2000-10-16 | Еколіт-Цеоліте Гмбх | СПОСІБ КАТАЛІТИЧНОЇ ІЗОМЕРИЗАЦІЇ С<sub>8 </sub>- АРОМАТИЧНИХ ВУГЛЕВОДНІВ |
CN1025670C (zh) | 1991-07-30 | 1994-08-17 | 陈丽妃 | 利用二硫胺基类蝥合剂处理废水中重金属的方法 |
US5492620A (en) | 1993-03-31 | 1996-02-20 | Evans; Steven T. | Apparatus for removing contaminants from a waste stream |
JP3479814B2 (ja) | 1994-07-27 | 2003-12-15 | 太平化学産業株式会社 | 有価物の回収方法 |
US5615862A (en) | 1995-02-02 | 1997-04-01 | Gaudette; Robert M. | Metal precipitation composition for treating spent dry film stripping solution |
US5753125A (en) | 1995-05-19 | 1998-05-19 | Kreisler; Lawrence | Method for recovering and separating metals from waste streams |
US6274045B1 (en) | 1995-05-19 | 2001-08-14 | Lawrence Kreisler | Method for recovering and separating metals from waste streams |
US5772776A (en) | 1995-07-07 | 1998-06-30 | Holbein; Bruce Edward | Process for the recovery of heavy metals such as lead from metal contaminated soil |
JP3411134B2 (ja) | 1995-09-01 | 2003-05-26 | ユニチカ株式会社 | 飛灰の処理法 |
US5649895A (en) | 1996-02-14 | 1997-07-22 | Ashland Inc. | Stabilization of heavy metals in ash |
US5696019A (en) * | 1996-06-24 | 1997-12-09 | Macronix International Co., Ltd. | Self-aligned trench isolation for memory array using sidewall spacers |
JP3677939B2 (ja) * | 1996-07-30 | 2005-08-03 | 日本精工株式会社 | 表面処理転動部材を有する転動装置 |
US6521131B1 (en) * | 1996-12-16 | 2003-02-18 | Solmetex, Inc. | Combined oxidation and chelating adsorption system for removal of mercury from water |
US5909559A (en) * | 1997-04-04 | 1999-06-01 | Texas Instruments Incorporated | Bus bridge device including data bus of first width for a first processor, memory controller, arbiter circuit and second processor having a different second data width |
JP4568386B2 (ja) | 1997-05-14 | 2010-10-27 | 日本ペイント株式会社 | 防錆コーティング剤および防錆処理方法 |
CN101139355A (zh) * | 1997-08-21 | 2008-03-12 | 通用电气公司 | 用于填充橡胶的封端巯基硅烷偶联剂 |
FR2778916B1 (fr) * | 1998-05-20 | 2000-06-30 | Rhone Poulenc Fibres | Nouveaux complexes organometalliques comprenant des carbenes heterocycliques cationiques et leur procede de preparation |
US6294220B1 (en) * | 1999-06-30 | 2001-09-25 | Alpha Metals, Inc. | Post-treatment for copper on printed circuit boards |
JP3973323B2 (ja) * | 1998-08-13 | 2007-09-12 | 日本ペイント株式会社 | 硫黄含有化合物とリン含有化合物によるノンクロム処理剤 |
US6515862B1 (en) * | 2000-03-31 | 2003-02-04 | Intel Corporation | Heat sink assembly for an integrated circuit |
JP2001288579A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-19 | Nippon Shokubai Co Ltd | 化成処理液、化成処理方法及び防錆処理方法 |
US6843923B2 (en) * | 2001-08-03 | 2005-01-18 | Canadus Technologies Llc | Compositions for removing metal ions from aqueous process solutions and methods of use thereof |
US7288672B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-10-30 | Council Of Scientific & Industriual Research | Process for preparation of esters of hydroxy tiglic Aldehydes |
-
2002
- 2002-08-01 US US10/212,028 patent/US6843923B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-01 US US10/211,406 patent/US6818135B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-01 KR KR10-2004-7001703A patent/KR20040035712A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-08-01 CA CA002455351A patent/CA2455351A1/en not_active Abandoned
- 2002-08-01 AU AU2002355854A patent/AU2002355854B2/en not_active Ceased
- 2002-08-01 JP JP2003517195A patent/JP2004536708A/ja active Pending
- 2002-08-01 WO PCT/US2002/024678 patent/WO2003012017A1/en active Application Filing
- 2002-08-01 CN CNB028186303A patent/CN1236034C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-01 EP EP02752678A patent/EP1421162A4/en not_active Withdrawn
- 2002-08-01 WO PCT/US2002/024679 patent/WO2003012018A1/en not_active Application Discontinuation
- 2002-08-01 US US10/211,471 patent/US6855259B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-01 MX MXPA04001110A patent/MXPA04001110A/es not_active Application Discontinuation
- 2002-08-01 WO PCT/US2002/024571 patent/WO2003014273A1/en not_active Application Discontinuation
-
2004
- 2004-09-21 US US10/945,685 patent/US7163634B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-29 US US10/977,166 patent/US20050247909A1/en not_active Abandoned
- 2004-10-29 US US10/976,375 patent/US7109366B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-13 HK HK05104926A patent/HK1072071A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-08-12 US US11/503,032 patent/US20060276327A1/en not_active Abandoned
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006226986A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-31 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | カドミウム測定方法およびその前処理装置 |
JP2009061450A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Evonik Energy Services Gmbh | 燃焼後の煙道ガスから水銀を除去する方法 |
JP2014155927A (ja) * | 2007-09-04 | 2014-08-28 | Steag Energy Services Gmbh | 燃焼後の煙道ガスから水銀を除去する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030032572A1 (en) | 2003-02-13 |
US6818135B2 (en) | 2004-11-16 |
WO2003014273A1 (en) | 2003-02-20 |
US7109366B2 (en) | 2006-09-19 |
EP1421162A1 (en) | 2004-05-26 |
CN1236034C (zh) | 2006-01-11 |
HK1072071A1 (en) | 2005-08-12 |
AU2002355854B2 (en) | 2007-10-04 |
CA2455351A1 (en) | 2003-02-13 |
MXPA04001110A (es) | 2005-04-28 |
WO2003012017A1 (en) | 2003-02-13 |
US6855259B2 (en) | 2005-02-15 |
KR20040035712A (ko) | 2004-04-29 |
US20030029804A1 (en) | 2003-02-13 |
WO2003012018A1 (en) | 2003-02-13 |
US7163634B2 (en) | 2007-01-16 |
CN1556849A (zh) | 2004-12-22 |
US20050061748A1 (en) | 2005-03-24 |
US20060276327A1 (en) | 2006-12-07 |
US20050247909A1 (en) | 2005-11-10 |
US6843923B2 (en) | 2005-01-18 |
US20030029801A1 (en) | 2003-02-13 |
US20060060538A1 (en) | 2006-03-23 |
EP1421162A4 (en) | 2005-11-16 |
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---|---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050728 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090428 |