JP2004532990A5 - - Google Patents

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Claims (15)

  1. 回転的におよび非回転的に対称光学素子を計測するための干渉方法であって、該干渉方法は、
    計測されるべきテスト光学素子および該テスト光学素子を所定の距離だけ密接して隣接して配置された少なくとも1つの非球面基準面を位置合わせするステップと、
    少なくとも1つの非球面基準表面に所定の波面を有するビームを照射するステップであって、該所定の波面の一部が、基準波面として機能するように非球面基準表面から反射され、一部が該所定の距離にわたって伝播するにつれて、その形状が変化する継続的非球面波面として伝達され、それにより、一部が該テスト光学素子の予想された形状に実質的に一致する形状を有するとともに該テスト光学素子上で衝突し、かつ該非球面基準表面に向かって再度進行する計測波面として該テスト光学素子から戻るように、該ビームを照射するステップと、
    該テスト光学素子によって生成された該波面の形状を示す位相情報を含む干渉図形を形成するために該基準および計測波面を組み合わせるステップと
    を包含する、干渉方法。
  2. 前記干渉図形を光検出器上に結像するステップ、および該テスト光学素子によって生成された予測された波面の形状と実際の性能との間の差に対応する位相情報を含む電気信号を生成するステップをさらに包含する、請求項1に記載の干渉方法。
  3. 前記電気信号から前記位相情報を抽出し、前記テスト光学素子性能を計算するために位相シフト干渉法を実行するステップをさらに包含する、請求項2に記載の干渉方法。
  4. 前記計算された情報をファイル、英数字ハードコピー、ディスプレイ、およびグラフィックの内の1つ以上に出力するステップをさらに包含する、請求項3に記載の干渉方法。
  5. 前記テスト光学素子は、回転対称非球面反射表面であり、前記基準非球面表面は、
    Figure 2004532990
    の式の形状を有し、ここでdは、該基準非球面表面および該テスト非球面表面を分離する距離であり、Zは、rの関数としてテスト非球面表面の形状であり、αは、垂直入射における基準およびテスト非球面表面の局所的な勾配であり、
    Figure 2004532990
    によって与えられる、請求項1に記載の干渉方法。
  6. 前記テスト光学素子は、非回転対称非球面反射表面であり、該基準非球面表面は、
    Figure 2004532990
    の式を有し、ここでdは、該基準非球面表面および該テスト非球面表面を分離する距離であり、Zは、rの関数として該テスト非球面表面の形状であり、αおよびαは、垂直入射における該基準非球面表面および該テスト非球面表面の局所的な勾配であり、
    Figure 2004532990
    によって与えられる、請求項1に記載の干渉方法。
  7. 前記テスト光学素子は屈折し、前記基準非球面表面は、少なくとも2つの基準非球面表面を含み、該基準非球面表面の各々1つは、前記屈折テスト光学素子のいずれかの面上に配置される、請求項1に記載の干渉方法。
  8. 対称テスト光学素子を回転的におよび非回転的に計測するための干渉装置であって、
    該テスト光学素子が精密に位置合わせされる場合、該テスト光学素子が照射され得るように、計測されるテスト光学素子を取り付けるための手段と、
    計測される該テスト光学素子に位置合わせされ、隣接して接近して配置され、そして該テスト光学素子から所定の距離だけ間隔が開けられた少なくとも1つの基準非球面表面と、
    所定の波面を有するビームで少なくとも1つの基準非球面表面を照射する手段であって、該所定の波面の形状は、該基準非球面表面の形状と実質的に同じであり、それにより該所定の波面の一部が基準波面として機能するように該基準非球面表面から反射され、一部は、該テスト光学素子上に衝突する継続する非球面波面として伝達され、該基準非球面表面に向かって再度進行する計測波面として該テスト光学素子から戻り、該基準および計測波面が組み合わせられて、該テスト光学素子によって生成された波面の形状を示す位相情報を含む干渉図形を形成する、手段と
    を含む、干渉計装置。
  9. 前記干渉図形を光検出器に結像する、および前記テスト光学素子によって生成された波面の予測された形状とその実際の性能との間の差に対応する位相情報を含む電気信号を生成する手段をさらに含む、請求項8に記載の干渉計装置。
  10. 前記電気信号からの前記位相情報を抽出するため、および前記テスト光学素子性能を計算するために、位相シフト干渉法を実行する手段をさらに含む、請求項9に記載の干渉装置。
  11. ファイル、英数字ハードコピー、ディスプレイ、およびグラフィックの内の1つ以上において前記計算された情報を出力するための手段をさらに含む、請求項10に記載の干渉装置。
  12. 前記テスト光学素子は、回転対称反射非球面表面であり、前記基準非球面表面は、
    Figure 2004532990
    の式の形状を有し、ここで、dは、前記基準非球面表面および前記テスト非球面表面を分離する距離であり、Zは、rの関数として該テスト非球面表面の形状であり、αは、垂直入射における該基準非球面表面および該テスト非球面表面の局所的な勾配であり、
    Figure 2004532990
    によって与えられる、請求項8に記載の干渉装置。
  13. 前記テスト光学素子は、非回転対称非球面反射表面であり、前記基準非球面表面は、
    Figure 2004532990
    の式の形状を有し、ここでdは、該基準非球面表面および該テスト非球面表面を分離する距離であり、Zは、rの関数として該テスト非球面表面の形状であり、αおよびαは、垂直入射における該基準非球面表面および該テスト非球面表面の局所的な勾配であり、
    Figure 2004532990
    によって与えられる、請求項8に記載の干渉装置。
  14. 前記テスト光学素子は屈折的し、前記基準非球面表面は、少なくとも2つの基準非球面表面を含み、該基準非球面表面の各々1つは、該屈折テスト光学素子のいずれかの面上に配置される、請求項8の干渉装置。
  15. 少なくともテスト反射非球面表面を計測する前に、前記基準非球面表面と前記照射している所定の波面とを位置合わせとする手段をさらに含む、請求項13の干渉装置。
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Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005509874A (ja) 2001-11-15 2005-04-14 ザイゴ コーポレイション 非球面フィゾーの高速インサイチュ習得
US7260803B2 (en) * 2003-10-10 2007-08-21 Lsi Corporation Incremental dummy metal insertions
JP4963231B2 (ja) * 2003-10-20 2012-06-27 ザイゴ コーポレイション 再構成可能干渉計システム
JP2005140673A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Olympus Corp 非球面偏心測定装置及び非球面偏心測定方法
US7342667B1 (en) * 2003-11-26 2008-03-11 Carl Zeiss Smt Ag Method of processing an optical element using an interferometer having an aspherical lens that transforms a first spherical beam type into a second spherical beam type
GB0402941D0 (en) * 2004-02-11 2004-03-17 Qinetiq Ltd Surface shape measurement
US20050225774A1 (en) * 2004-04-05 2005-10-13 Carl Zeiss Smt Ag Method for measuring and manufacturing an optical element and optical apparatus
US7728987B2 (en) * 2004-05-14 2010-06-01 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical element
US7034271B1 (en) * 2004-05-27 2006-04-25 Sandia Corporation Long working distance incoherent interference microscope
US7274467B2 (en) * 2005-01-04 2007-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Phase shifting interferometric method, interferometer apparatus and method of manufacturing an optical element
US7545511B1 (en) 2006-01-13 2009-06-09 Applied Science Innovations, Inc. Transmitted wavefront metrology of optics with high aberrations
US8743373B1 (en) 2006-01-13 2014-06-03 Applied Science Innovations, Inc. Metrology of optics with high aberrations
US8018602B1 (en) 2006-01-13 2011-09-13 Applied Science Innovations, Inc. Metrology of optics with high aberrations
US7612893B2 (en) * 2006-09-19 2009-11-03 Zygo Corporation Scanning interferometric methods and apparatus for measuring aspheric surfaces and wavefronts
CN101334334B (zh) * 2007-06-25 2010-06-02 佛山普立华科技有限公司 镜片偏心检测系统
US7880897B2 (en) 2007-12-28 2011-02-01 Fujinon Corporation Light wave interferometer apparatus
JP5279280B2 (ja) * 2008-01-16 2013-09-04 博雄 木下 形状測定装置
US8294904B2 (en) * 2008-05-29 2012-10-23 Corning Incorporated Fizeau lens having aspheric compensation
US8269981B1 (en) * 2009-03-30 2012-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Method and an apparatus for measuring a deviation of an optical test surface from a target shape
US8169620B1 (en) 2009-09-21 2012-05-01 The United States Of America, As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Sub-pixel spatial resolution wavefront phase imaging
JP5430473B2 (ja) 2009-10-01 2014-02-26 キヤノン株式会社 面形状計測装置
JP5430472B2 (ja) 2009-10-01 2014-02-26 キヤノン株式会社 面形状計測装置
JP5486379B2 (ja) 2009-10-01 2014-05-07 キヤノン株式会社 面形状計測装置
JP5543765B2 (ja) * 2009-12-08 2014-07-09 株式会社ミツトヨ フィゾー型干渉計、及びフィゾー型干渉計の測定方法
JP5721420B2 (ja) * 2010-12-17 2015-05-20 キヤノン株式会社 計測方法及び計測装置
CN102506750A (zh) * 2011-10-28 2012-06-20 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 部分补偿非球面反射镜面形检测方法
JP5955001B2 (ja) * 2012-01-25 2016-07-20 キヤノン株式会社 非球面形状計測方法、形状計測プログラム及び形状計測装置
DE102012217800A1 (de) * 2012-09-28 2014-04-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Diffraktives optisches Element sowie Messverfahren
US9212901B2 (en) * 2013-04-17 2015-12-15 Corning Incorporated Apparatus and methods for performing wavefront-based and profile-based measurements of an aspheric surface
CN108955569B (zh) * 2018-09-27 2023-10-27 成都太科光电技术有限责任公司 大口径长焦距菲索型球面干涉测试装置
CN110319793B (zh) * 2019-08-06 2024-03-22 清华大学深圳研究生院 一种透射旋转对称非球面检测系统和方法
US11391564B2 (en) * 2019-09-30 2022-07-19 Opto-Alignment Technology, Inc. Active alignment technique for measuring tilt errors in aspheric surfaces during optical assembly using lens alignment station (LAS)
CN110686618B (zh) * 2019-11-22 2020-09-15 北京理工大学 结合全反射角定位的非球面参数误差干涉测量方法及系统
JP2024504261A (ja) * 2020-12-17 2024-01-31 ルメヌイティ、エルエルシー 部分反射器を活用する高倍率写真撮影における像補正及び処理のための方法及びシステム
DE102021202911A1 (de) 2021-03-25 2022-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform
DE102021202909A1 (de) 2021-03-25 2022-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4340306A (en) * 1980-02-04 1982-07-20 Balasubramanian N Optical system for surface topography measurement
US4387994A (en) * 1980-02-04 1983-06-14 Balasubramanian N Optical system for surface topography measurement
NL8005259A (nl) 1980-09-22 1982-04-16 Philips Nv Inrichting voor het meten aan het oppervlak van een voorwerp.
JPS6170434A (ja) * 1984-09-14 1986-04-11 Hoya Corp 非球面レンズの検査装置
US4758089A (en) * 1985-08-22 1988-07-19 Tokyo Kogaku Kikai Kabushiki Kaisha Holographic interferometer
DE3707331A1 (de) * 1987-03-07 1988-09-15 Zeiss Carl Fa Interferometer zur messung von optischen phasendifferenzen
DE3836564A1 (de) * 1988-10-27 1990-05-03 Zeiss Carl Fa Verfahren zur pruefung von optischen elementen
US5416586A (en) * 1993-10-15 1995-05-16 Tropel Corporation Method of testing aspherical optical surfaces with an interferometer
US5737079A (en) * 1994-11-07 1998-04-07 Rayleigh Optical Corporation System and method for interferometric measurement of aspheric surfaces utilizing test plate provided with computer-generated hologram
US5625454A (en) * 1995-05-24 1997-04-29 Industrial Technology Research Institute Interferometric method for optically testing an object with an aspherical surface
DE19944021A1 (de) * 1998-09-14 2000-05-04 Nikon Corp Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche
US6312373B1 (en) * 1998-09-22 2001-11-06 Nikon Corporation Method of manufacturing an optical system
JP2000097666A (ja) * 1998-09-22 2000-04-07 Nikon Corp 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法
US6359692B1 (en) 1999-07-09 2002-03-19 Zygo Corporation Method and system for profiling objects having multiple reflective surfaces using wavelength-tuning phase-shifting interferometry
US6643024B2 (en) 2001-05-03 2003-11-04 Zygo Corporation Apparatus and method(s) for reducing the effects of coherent artifacts in an interferometer

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