DE19944021A1 - Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche - Google Patents
Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer TestoberflächeInfo
- Publication number
- DE19944021A1 DE19944021A1 DE19944021A DE19944021A DE19944021A1 DE 19944021 A1 DE19944021 A1 DE 19944021A1 DE 19944021 A DE19944021 A DE 19944021A DE 19944021 A DE19944021 A DE 19944021A DE 19944021 A1 DE19944021 A1 DE 19944021A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light
- light source
- test surface
- point
- measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 69
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 252
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 30
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims description 23
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 claims 29
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 3
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 37
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 17
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 12
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 229920000148 Polycarbophil calcium Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229940085806 fibercon Drugs 0.000 description 1
- 210000003734 kidney Anatomy 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- NQLVQOSNDJXLKG-UHFFFAOYSA-N prosulfocarb Chemical compound CCCN(CCC)C(=O)SCC1=CC=CC=C1 NQLVQOSNDJXLKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02034—Interferometers characterised by particularly shaped beams or wavefronts
- G01B9/02038—Shaping the wavefront, e.g. generating a spherical wavefront
- G01B9/02039—Shaping the wavefront, e.g. generating a spherical wavefront by matching the wavefront with a particular object surface shape
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/255—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures for measuring radius of curvature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
- G01B9/02072—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Offenbart sind eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche, z. B. einer sphärischen oder asphärischen Oberfläche einer refraktiven oder reflektiven optischen Komponente. Die Testoberfläche wird dadurch vermessen, daß der Zustand von Interferenzstreifen detektiert wird, welche durch Interferenz eines Referenzlichtstrahls und eines Meßlichtstrahls, die auf der Testoberfläche wechselwirken (z. B. von ihr reflektiert werden) erzeugt sind. Referenz- und Meßstrahl werden von einer punktförmigen Lichtquelle mit einer reflektiven Oberfläche erzeugt. Die punktförmige Lichtquelle ist zwischen einer Quelle für eingespeistes Licht und der Testoberfläche angeordnet. Der Meßstrahl (nach seinem Wechselwirken mit der Testoberfläche) und der Referenzstrahl werden zur gegenseitigen Interferenz gebracht, so daß ein erster Zustand von Interferenzstreifen erzeugt wird. Der Abstand zwischen der punktförmigen Lichtquelle und der Testoberfläche kann zwischen dem Erzeugen des ersten Zustandes von Interferenzstreifen und dem Erzeugen eines zweiten Zustandes von Interferenzstreifen geändert werden. Das Profil der Testoberfläche wird durch eine Analyse der resultierenden Interferenzstreifen ermittelt. Zum Konvertieren einer sphärischen Wellenfront des Meßstrahls in eine der asphärischen Testoberfläche entsprechende asphärische Wellenfront oder zum Konvertieren einer durch Reflexion einer sphärischen Wellenfront von einer asphärischen ...
Description
Die Erfindung betrifft Vorrichtungen und Verfahren zur Verwen
dung beim Vermessen von Oberflächenformen (Oberflächentopogra
phien) mit hoher Genauigkeit und Präzision. Insbesondere be
trifft die Erfindung solche Vorrichtungen und Verfahren, die
zum Vermessen topographischer Merkmale einer Oberfläche einer
Probe, wie z. B. einer optischen Komponente, Interferometrie
einsetzen.
Eine herkömmliche Verwendungsweise eines Fizeau-Interferometers
oder eines Twyman-Green-Interferometers ist das Vermessen der
Form (das heißt der Oberflächentopographie) einer sphärischen
Oberfläche, wie z. B. der Oberfläche einer sphärischen Linse.
Zum Durchführen einer solchen Vermessung, die ein Interferome
ter einer dieser Arten verwendet, wird herkömmlicherweise eine
Referenzoberfläche benötigt. Das heißt, bei herkömmlichen Ver
messungsmethoden wird die Oberflächentopographie einer sphäri
schen Oberfläche einer Probe durch Vergleich mit einer tatsäch
lichen entsprechenden "idealen" Referenzoberfläche ermittelt.
Folglich kann die Genauigkeit der Vermessung die Genauigkeit
der Referenzoberfläche nicht übersteigen.
Ein herkömmlicher Weg zum Lösen eines solchen Problems ist in
der japanischen offengelegten (Kokai) Patentanmeldung
Nr. 2-228505 offenbart, welche ein Interferometer offenbart, das
keine Referenzoberfläche benötigt. Insbesondere offenbart diese
Referenz ein sogenanntes Punktbeugungs-Interferometer, abge
kürzt "PDI" (point-diffraction-interferometer). Ein PDI ver
wendet als Referenzwellenfront eine Welle mit ideal sphärischer
Oberfläche, welche Welle durch Beugung von durch eine Lochblen
de tretendem Licht erzeugt wird. Solch eine Anordnung erlaubt
ein hochgenaues und hochpräzises Vermessen der Topographie
einer sphärischen Oberfläche.
Leider ist die herkömmliche oben zusammengefaßte PDI-Technik
zum Vermessen der Oberflächentopographie einer asphärischen
Oberfläche nicht verwendbar. Dies kommt daher, daß, wenn eine
sphärische Oberfläche vermessen wird, von Bereichen der Ober
fläche, in denen der Krümmungsradius der von der Lochblende
erzeugten sphärischen Welle mit dem Krümmungsradius der Probe
übereinstimmt, sehr wenige Interferenzstreifen (das heißt ein
"spärliches" Streifenmuster) erzeugt werden. Wenn dagegen eine
asphärische Oberfläche vermessen wird, variiert der Krümmungs
radius mit dem Ort auf der Oberfläche; folglich sind die Inter
ferenzstreifen nur in denjenigen Bereichen spärlich, das heißt
in großem Abstand angeordnet, die zum Vermessen zu dicht sind.
Angesichts der Unzulänglichkeiten des konventionellen Standes
der Technik, wie er obenstehend zusammengefaßt worden ist, ist
es ein Ziel der Erfindung, Vorrichtungen und Verfahren zum
Durchführen von hochgenauen Vermessungen an der Oberflächen
topographie von asphärischen Oberflächen als auch von sphäri
schen Oberflächen zu liefern.
Zu diesem Zweck und entsprechend einem ersten Aspekt der Erfin
dung werden mehrere repräsentative Ausführungsformen einer Vor
richtung zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Test
oberfläche einer Probe vorgestellt. Eine erste repräsentative
Ausführungsform einer solchen Vorrichtung weist eine punktför
mige Lichtquelle auf, die bezüglich eines Detektors und der
Proben so konfiguriert und angeordnet ist, daß aus eingespeistem
Licht ein Lichtstrahl erzeugt wird, der sich als von einem
Punkt auf der punktförmigen Lichtquelle ausgehende vorgeschrie
bene Wellenfront divergent ausbreitet. Der Strahl weist einen
Meßstrahl-Teil auf, der so auf die Testoberfläche gerichtet
wird, daß er von der Testoberfläche reflektiert wird, und einen
Referenzstrahl-Teil. Der Lichtdetektor ist so konfiguriert, daß
er ein Ausgangssignal erzeugt, welches Daten codiert, die einem
Interferenzmerkmal des von dem Detektor erhaltenen Lichtes ent
sprechen. Die punktförmige Lichtquelle weist auch eine reflek
tive Oberfläche auf, die so ausgerichtet ist, daß sie den von
der Testoberfläche reflektierten Meßstrahl-Teil empfängt und
den Meßstrahl-Teil zum Zurückkehren zur punktförmigen Licht
quelle veranlaßt, so daß er von der reflektiven Oberfläche aus
zum Detektor reflektiert wird. Der von der Testoberfläche re
flektierte Meßstrahl-Teil und der Referenzstrahl-Teil inter
ferieren miteinander, so daß ein Interferenzstreifen erzeugt
wird, der von dem Detektor empfangen wird. Der Interferenz
streifen weist ein Merkmal auf, das der Oberflächentopographie
der Testoberfläche bezüglich der vorgeschriebenen Wellenfront
entspricht. Ein Aktuator ist so konfiguriert und angeordnet,
daß er zumindest eines der beiden Bestandteile, Probe und
punktförmige Lichtquelle, relativ zueinander zu bewegen vermag,
so daß der Abstand zwischen der Testoberfläche und der punkt
förmigen Lichtquelle nach Bedarf veränderbar ist. Ein Prozessor
ist so angeordnet, daß er das Ausgangssignal des Detektors emp
fängt. Der Prozessor ist so konfiguriert, daß er, ausgehend von
den vom Detektor empfangenen Interferenzstreifen, ein Vermessen
der Oberflächentopographie liefert.
Die punktförmige Lichtquelle weist vorzugsweise einen reflek
tiven Spiegel auf, der eine Lochblende definiert, wobei die
vorgeschriebene Wellenfront durch Beugung von eingespeistem
Licht, während das eingespeiste Licht durch die Lochblende
hindurchtritt, erzeugt wird. Der reflektive Spiegel kann so
ausgerichtet sein, daß er eine Ebene definiert, die senkrecht
zu einer Ausbreitungsachse des eingespeisten Lichtes steht,
welches auf die punktförmige Lichtquelle einfällt. Alternativ
kann-der reflektive Spiegel so ausgerichtet sein, daß er eine
Ebene definiert, die einen Winkel von weniger als 90° zu einer
Ausbreitungsachse des eingespeisten Lichtes, welches auf die
punktförmige Lichtquelle einfällt, aufweist.
Bei einer alternativen Konfiguration kann die punktförmige
Lichtquelle eine optische Faser aufweisen, die so konfiguriert
ist, daß sie das eingespeiste Licht leitet. Solch eine optische
Faser weist vorzugsweise eine Endfläche auf, die als reflektive
Oberfläche der punktförmigen Lichtquelle dient. Die Endfläche
dient auch als der Punkt, von dem aus sich die vorgeschriebene
Wellenfront durch Beugung des eingespeisten Lichtes divergent
ausbreitet.
Die vorgeschriebene Wellenfront kann eine sphärische Wellen
front sein. Alternativ kann die vorgeschriebene Wellenfront
eine beliebige von mehreren geeigneten asphärischen Wellen
fronten sein.
Die punktförmige Lichtquelle kann so konfiguriert und ausge
richtet sein, daß der Meßstrahl mit dem Referenzstrahl interfe
riert, wenn der von der Testoberfläche reflektierte Meßstrahl
zur reflektiven Oberfläche der punktförmigen Lichtquelle fort
schreitet. Alternativ kann die punktförmige Lichtquelle so kon
figuriert und ausgerichtet sein, daß der Meßstrahl mit dem Re
ferenzstrahl interferiert, wenn sich der von der reflektiven
Fläche der punktförmigen Lichtquelle reflektierte Meßstrahl zum
Detektor hin ausbreitet.
Die Vorrichtung kann weiter eine Lichtquelle aufweisen, die so
konfiguriert ist, daß sie das eingespeiste Licht erzeugt. Das
eingespeiste Licht kann, je nach Bedarf, eine einzelne oder
eine Vielzahl von Lichtwellenlängen aufweisen. Wenn das ein
gespeiste Licht eine Vielzahl von Wellenlängen aufweist, kann
ein Wellenlängenselektor vorgesehen sein, der ein Auswählen
einer einzelnen Wellenlänge aus der Vielzahl von Wellenlängen
des eingespeisten Lichtes zum Einspeisen in die punktförmige
Lichtquelle erlaubt. Bei einer solchen Konfiguration kann die
punktförmige Lichtquelle so konfiguriert sein, daß sie aus der
einzelnen Wellenlänge den Meßstrahl-Teil und den
Referenzstrahl-Teil erzeugt.
Die Vorrichtung kann weiter einen zwischen der Quelle des ein
gespeisten Lichts und der punktförmigen Lichtquelle angeordne
ten Lichtwegregler aufweisen. Der Lichtwegregler ist vorzugs
weise so konfiguriert, daß er bewirkt, daß die Weglänge des
Referenzstrahl-Teils mit der Weglänge des Meßstrahl-Teils
übereinstimmt, so daß ein Regulieren eines Kontrastparameters
des Interferenzstreifens möglich ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind Verfahren zum
Vermessen eines Profils einer Testoberfläche einer Probe vor
gesehen. Gemäß einer repräsentativen Ausführungsform eines sol
chen Verfahrens ist eine punktförmige Lichtquelle mit einer re
flektiven Oberfläche vorgesehen. Die punktförmige Lichtquelle
ist so angeordnet, daß sie eingespeistes Licht empfängt und aus
dem eingespeisten Licht einen Meßstrahl-Teil und einen Refe
renzstrahl-Teil erzeugt, die sich als von einem Punkt ausgehen
de vorgeschriebene Wellenfronten divergent ausbreiten. Die
Testoberfläche wird von dem Meßstrahl-Teil so beleuchtet, daß
der Meßstrahl-Teil zum Reflektiertwerden von der Testoberfläche
wird und dann zum Reflektiertwerden von der reflektiven Ober
fläche veranlaßt wird. Bei einem ersten Abstand der Testober
fläche von der punktförmigen Lichtquelle interferiert der von
der Testoberfläche reflektierte Meßstrahl-Teil mit dem Refe
renzstrahl-Teil derart, daß ein erstes Muster von Interferenz
streifen erzeugt wird. Es wird ein für das erste Muster von
Interferenzstreifen charakteristisches Muster detektiert. Der
erste Abstand der Testoberfläche von der punktförmigen Licht
quelle wird zu einem zweiten Abstand verändert. Bei dem zweiten
Abstand interferiert der von der Testoberfläche reflektierte
Meßstrahl-Teil mit dem Referenzteil-Teil derart, daß ein zwei
tes Muster von Interferenz streifen erzeugt wird. Es wird ein
für das zweite Muster von Interferenz streifen charakteristi
sches Muster detektiert, und das für das zweite Muster von
Interferenz streifen charakteristische Muster wird mit dem für
das erste Muster von Interferenzstreifen charakteristischen
Muster verglichen, so daß eine Vermessung eines topographischen
Profils der Testoberfläche erhalten wird.
Bei dem oben zusammengefaßten Verfahren kann die reflektive
Oberfläche der punktförmigen Lichtquelle eine Lochblende defi
nieren. Bei einer solchen Konfiguration wird die vorgeschriebe
ne Wellenfront des Meßstrahl- und des Referenzstrahl-Teils
durch Beugung von eingespeistem Licht, wenn das eingespeiste
Licht durch die Lochblende hindurchtritt, erzeugt. Alternativ
kann die punktförmige Lichtquelle als eine optische Faser kon
figuriert sein, die eingespeistes Licht leitet, wobei die opti
sche Faser mit einer Endfläche abschließt, die die reflektive
Oberfläche der punktförmigen Lichtquelle definiert. Bei dieser
alternativen Konfiguration ist die vorgeschriebene Wellenfront
des Meßstrahl- und des Referenzstrahl-Teils durch Beugung des
eingespeisten Lichts, wenn das eingespeiste Licht durch die
optische Faser geleitet wird und aus der Endfläche austritt,
erzeugt.
Das eingespeiste Licht kann eine Vielzahl von Wellenlängen auf
weisen. In einem solchen Fall wird aus der Vielzahl von Wellen
längen eine erste spezifische Wellenlänge aus dem eingespeisten
Licht ausgewählt, die von der punktförmigen Lichtquelle empfan
gen werden soll. Die punktförmige Lichtquelle erzeugt aus der
ersten spezifischen Wellenlänge den Meßstrahl- und den Refe
renzstrahl-Teil. Die Vermessung kann durchgeführt werden, wobei
der Meßstrahl-Teil und der Referenzstrahl-Teil die erste spezi
fische Wellenlänge haben. Dann wird aus dem eingestrahlten
Licht aus der Vielzahl von Wellenlängen eine zweite spezifische
Wellenlänge ausgewählt, die von der punktförmigen Lichtquelle
empfangen werden soll. Die punktförmige Lichtquelle erzeugt aus
der zweiten spezifischen Wellenlänge den Meßstrahl- und den
Referenzstrahl-Teil, mit welchen wieder die Vermessung erlangt
wird. Die Mustermerkmale aller Sätze von Interferenz streifen
werden verglichen, so daß man eine Vermessung eines topographi
schen Profils der Testoberfläche erhält.
Vorzugsweise werden die interferierenden Meßstrahl- und Refe
renzstrahlteile, während die Teile zur lichtempfindlichen Ober
fläche des Bilddetektors gerichtet werden, kollimiert. Eine
solche Kollimierung kann dadurch durchgeführt werden, daß die
Teile durch eine Linse hindurchtreten.
Wenn das eingespeiste Licht zeitlich inkohärentes Licht auf
weist, kann das Verfahren weiter das Liefern einer Quelle für
eingespeistes Licht zum Erzeugen des an die punktförmige Licht
quelle gelieferten eingespeisten Lichtes aufweisen. Nach dem
Entfernen der Probe aus der Meßposition wird die Strecke des
Lichtweges von der Quelle des eingespeisten Lichtes zur punkt
förmigen Lichtquelle justiert, bis Interferenzstreifen mit ma
ximalem Kontrast detektiert werden. Dann wird die Probe zurück
in die Meßposition gebracht und die Strecke des Lichtweges von
der Quelle des eingespeisten Lichtes zur punktförmigen Licht
quelle justiert, bis Interferenzstreifen mit maximalem Kontrast
detektiert werden. Die Differenz der Strecken des Lichtweges
von der Quelle des eingespeisten Lichtes zur punktförmigen
Lichtquelle wird aus der Anordnung, wenn die Probe sich in der
Meßposition befindet gegenüber der Anordnung, wenn sich die
Probe nicht in der Meßposition befindet ermittelt. Der Unter
schied liefert ein Maß für den Abstand von der punktförmigen
Lichtquelle zur Testoberfläche.
Die Erfindung erlaubt auch ein Vermessen des topographischen
Profils einer ganzen asphärischen Oberfläche auf einmal. Eine
repräsentative Vorrichtung zu einem solchen Zweck weist einen
Lichtdetektor auf, der so konfiguriert ist, daß er ein Aus
gangssignal erzeugt, welches Daten codiert, die einem Interfe
renzmerkmal von von dem Detektor empfangenen Licht entspricht.
Eine punktförmige Lichtquelle ist so konfiguriert und bezüglich
des Detektors und der Probe angeordnet, daß aus eingespeistem
Licht ein sich divergent ausbreitender Lichtstrahl als eine von
einem Punkt auf einer punktförmigen Lichtquelle ausgehende vor
geschriebene sphärische Wellenfront erzeugt wird. Der Strahl
weist einen Meßstrahl-Teil auf, der zur Testoberfläche gelenkt
wird, so daß er von der Testoberfläche reflektiert wird, und
einen Referenzstrahl-Teil. Die punktförmige Lichtquelle weist
eine reflektive Oberfläche auf, die so ausgerichtet ist, daß
sie den von den Testoberfläche reflektierten Meßstrahl-Teil
empfängt und den Meßstrahl-Teil zum Zurückkehren zur punktför
migen Lichtquelle veranlaßt, so daß er von der reflektiven
Oberfläche zum Detektor hin reflektiert wird. Der von der Test
oberfläche reflektierte Meßstrahl-Teil und der Referenzstrahl-
Teil interferieren miteinander, so daß ein Interferenz streifen
erzeugt wird, der von dem Detektor empfangen wird. Der Inter
ferenzstreifen weist ein Merkmal auf, das der Oberflächentopo
graphie der Testoberfläche bezüglich der vorgeschriebenen Wel
lenfront entspricht. Ein Prozessor ist so angeordnet, daß er
das Ausgangssignal von dem Detektor empfängt, und ist so kon
figuriert, daß er eine Vermessung der Oberflächentopographie
aus dem von dem Detektor erhaltenen Interferenz streifen er
mittelt. Zwischen der punktförmigen Lichtquelle und der Test
oberfläche ist eine optische Komponente angeordnet. Die opti
sche Komponente ist so konfiguriert, daß sie die sphärische
Wellenfront des Vermessungslichtes, welches sich von dem Punkt
zur Testoberfläche ausbreitet, in eine gewünschte asphärische
Wellenfront konvertiert.
Eine weitere Ausführungsform einer Vorrichtung zum Vermessen
eines Profils einer asphärischen Testoberfläche einer Probe
weist eine punktförmige Lichtquelle auf. Die punktförmige
Lichtquelle ist so konfiguriert und bezüglich der Probe so
angeordnet, daß aus eingespeistem Licht ein Meßstrahl erzeugt
wird, der aus Licht besteht, welches sich als die von einem
Punkt auf der punktförmigen Lichtquelle ausgehende vorgeschrie
bene sphärische Wellenfront zu der Testoberfläche hin ausbrei
tet. Ein Strahlteiler ist so angeordnet, daß er von der Test
oberfläche reflektiertes Licht des Meßstrahls empfängt. Der
Strahlteiler ist so konfiguriert, daß er den reflektierten Meß
strahl in einen ersten und in einen zweiten Teilmeßstrahl auf
spaltet, von denen sich jeder entlang eines jeweiligen Weges
ausbreitet. Im Weg des ersten Teilmeßstrahls ist eine licht
beugende Komponente angeordnet. Die lichtbeugende Komponente
ist so konfiguriert, daß sie das Licht des ersten Teilmeß
strahls in eine Vielzahl von Ordnungen von gebeugtem Licht
beugt. Die lichtbeugende Komponente ist so angeordnet, daß sie
das gebeugte Licht zum Interferieren mit Licht des zweiten
Teilmeßstrahls veranlaßt und Interferenzstreifen erzeugt. Ein
Detektor ist so konfiguriert und angeordnet, daß er die Inter
ferenzstreifen detektiert. Zwischen der Testoberfläche und dem
Strahlteiler kann eine optische Komponente angeordnet sein, und
diese kann so konfiguriert sein, daß sie die asphärische Wel
lenfront des von der Testoberfläche reflektierten Meßstrahls in
eine gewünschte sphärische Wellenfront konvertiert. Alternativ
kann die optische Komponente zwischen der punktförmigen Licht
quelle und der Testoberfläche angeordnet sein und so konfigu
riert sein, daß sie die sphärische Wellenfront des Meßstrahls
von der punktförmigen Lichtquelle in eine gewünschte asphäri
sche Wellenfront konvertiert.
Eine weitere Ausführungsform einer Vorrichtung zum Vermessen
eines Profils einer asphärischen Testoberfläche einer Probe
weist eine punktförmige Lichtquelle auf, wie oben zusammen
gefaßt ist, die einen Referenzstrahl und einen Meßstrahl er
zeugt. Von der Testoberfläche reflektiertes Licht des Meß
strahls interferiert mit dem Referenzstrahl, so daß Interfe
renzstreifen erzeugt werden. Ein Detektor empfängt die Inter
ferenzstreifen, und ein mit dem Detektor verbundener Prozessor
analysiert die Interferenzstreifen, so daß aus einer solchen
Analyse ein Zustand der Interferenzstreifen berechnet wird. Im
Lichtweg zwischen einer Quelle von eingespeistem Licht und der
Testoberfläche ist eine reflektive Oberfläche angeordnet, wobei
die reflektive Oberfläche so konfiguriert ist, daß sie die
punktförmige Lichtquelle definiert. In einem anderen Lichtweg
als dem sich von der Testoberfläche zur reflektiven Oberfläche
erstreckenden Lichtweg ist eine optische Komponente angeordnet.
Die optische Komponente konvertiert die sich von der Testober
fläche ausbreitende Wellenfront von einem Zustand mit einer
asphärischen Wellenfront in einen Zustand mit einer sphärischen
Wellenfront. Der von der punktförmigen Lichtquelle emittierte
Meßstrahl wird zuerst von der Testoberfläche und dann von der
reflektiven Oberfläche reflektiert und tritt dann durch die
optische Komponente hindurch.
Alternativ kann die optische Komponente in einem sich von der
Testoberfläche zu der reflektiven Oberfläche erstreckenden
Lichtweg angeordnet sein. Eine solche optische Komponente kon
vertiert die sich von der Testoberfläche ausbreitende Wellen
front von einem Zustand mit einer sphärischen Wellenfront in
einen Zustand mit einer asphärischen Wellenfront. In einem
anderen Lichtweg als dem sich von der Testoberfläche zur
reflektiven Oberfläche erstreckenden Lichtweg ist eine
lichtbeugende Komponente angeordnet. Die lichtbeugende
Komponente definiert eine punktförmige Lichtquelle und erzeugt
aus Licht, welches in die punktförmige Lichtquelle eintritt,
gebeugtes Licht, welches sich von der punktförmigen Lichtquelle
ausbreitet. Bei einer solchen Konfiguration tritt der von der
punktförmigen Lichtquelle emittierte Meßstrahl ein erstes Mal
durch die optische Komponente hindurch, wird von der
Testoberfläche reflektiert, tritt ein zweites Mal durch die
optische Komponente hindurch und wird von der reflektiven
Oberfläche zum Detektor reflektiert.
Die vorangehenden und weitere Merkmale und Vorteile der Erfin
dung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung er
sichtlich, die unter Bezugnahme auf die Zeichnung fortfährt.
Fig. 1 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer ersten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 2 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer zweiten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 3 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer dritten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 4 zeigt im vertikalen Schnitt den bei der ersten re
präsentativen Ausführungsform verwendeten Lochblendenspiegel.
Fig. 5 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer vierten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 6 veranschaulicht eine alternative Konfiguration der
vierten repräsentativen Ausführungsform.
Fig. 7 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer fünften repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 8 zeigt im vertikalen Schnitt ein Lochblenden-Ele
ment, das bei der fünften repräsentativen Ausführungsform zum
Erzeugen von Ordnungen gebeugten Lichts verwendet wird.
Fig. 9 zeigt im vertikalen Schnitt eine alternative Licht
weg-aufspaltende Komponente, die in der fünften repräsentativen
Ausführungsform verwendet werden kann.
Fig. 10 veranschaulicht eine repräsentative Weise, in wel
cher die Lichtweg aufspaltende Komponente aus Fig. 9 in der
fünften repräsentativen Ausführungsform verwendet werden kann.
Fig. 11 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer sechsten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 12 veranschaulicht eine erste alternative Konfigura
tion zum Erzeugen einer sphärischen Referenz-Wellenfront bei
der sechsten repräsentativen Ausführungsform.
Fig. 13 veranschaulicht eine zweite alternative Konfigura
tion zum Erzeugen einer sphärischen Referenz-Wellenfront bei
der sechsten repräsentativen Ausführungsform.
Fig. 14 veranschaulicht eine dritte alternative Konfigura
tion zum Erzeugen einer sphärischen Referenz-Wellenfront bei
der sechsten repräsentativen Ausführungsform.
Fig. 15 zeigt ein optisches Schema einer Vorrichtung gemäß
einer siebenten repräsentativen Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 16 veranschaulicht gewisse Beziehungen, wie sie bei
der ersten repräsentativen Ausführungsform besprochen sind.
Gemäß der Erfindung wird als am besten angepaßte Referenz zum
Vermessen einer asphärischen Oberfläche eine durch Beugung von
Licht durch eine Lochblende hindurch, welche eine punktförmige
Lichtquelle bildet, erzeugte sphärische Welle verwendet. Folg
lich wird, im Gegensatz zu einem Fizeau-Interferometer oder
Twyman-Green-Interferometer zum Auswerten der Oberflächentopo
graphie einer asphärischen Oberfläche einer Probe keine tat
sächliche Referenzoberfläche benötigt. Dies erlaubt ein hoch
genaues und hochpräzises Vermessen der Oberflächentopographie
von asphärischen Oberflächen als auch von sphärischen Oberflä
chen. Die Messungen sind nicht ungünstig beeinflußt durch Ab
weichungen einer Referenzoberfläche von der Perfektion.
Eine erste repräsentative Ausführungsform ist in Fig. 1 darge
stellt. Die Ausführungsform aus Fig. 1 weist eine Laser- (oder
eine analoge) Lichtquelle 1 und einen reflektiven Spiegel 3
auf, der die Apertur 3c einer Lochblende definiert. Der Spiegel
3 ist zwischen der Lichtquelle 1 und einer Oberfläche ("Test
oberfläche" TS, zum Beispiel einer apshärischen Oberfläche)
einer Probe 4 (zum Beispiel einer refraktiven oder reflektiven
optischen Komponente) angeordnet, die vermessen werden soll.
Im allgemeinen kann die durch Beugung von Licht durch die Aper
tur einer Lochblende hindurch erzeugte Wellenfront unter Bedin
gungen, unter welchen der Durchmesser ∅ der Apertur 3c der
Lochblende der Bedingung:
λ/2 < ∅ < λr/2a
genügt, (für die Testoberfläche TS) als ideale sphärische Wel
lenfront betrachtet werden, wobei λ die Wellenlänge ist, r der
gemessene ungefähre Krümmungsradius der Testoberfläche TS, und
a der effektive Durchmesser ("freie Apertur") der Testoberflä
che. Unter einer solchen Bedingung kann man eine hochgenaue und
hochpräzise Vermessung einer Probenoberfläche erhalten, ohne
daß eine tatsächliche Referenzoberfläche verwendet werden muß.
(Der Term r/2a entspricht dem von der Referenzprobe übertrage
nen Winkel an der Lochblende).
Als eine Alternative zu einer durch einen Spiegel 3 definierten
Lochblenden-Apertur 3c können eine optische Faser oder ein
optischer Wellenleiter verwendet werden, wie in gewissen ande
ren hier offenbarten repräsentativen Ausführungsformen bespro
chen ist. Bei einer solchen alternativen Konfiguration ist die
Variable ∅ der Durchmesser des transmittierenden Teils der
optischen Faser oder des optischen Wellenleiters. Immer wenn
eine optische Faser oder ein optischer-Wellenleiter eingesetzt
wird, bildet die Endfläche der optischen Faser oder des Wellen
leiters die reflektive Oberfläche.
Die Lochblenden-Apertur 3c im Spiegel 3 bildet vorzugsweise
eine punktförmige Lichtquelle. Deshalb werden der Spiegel 3 und
die Lochblenden-Apertur 3c zusammengenommen ein "Lochblenden
spiegel" genannt. Ein Lochblendenspiegel, wie er in Fig. 4 ge
zeigt ist, weist vorzugsweise ein Substrat 3b (z. B. Glas) mit
einer Oberfläche auf, auf welcher (zum Beispiel durch Vakuum
verdampfung oder Sputtern) ein Metallfilm 3a aufgebracht ist.
Der Metallfilm 3a definiert, vorzugsweise in der Mitte des
Spiegels, eine Apertur 3c einer Lochblende, die in dem Me
tallfilm 3b durch Ätzen oder dergleichen ausgebildet werden
kann. Als Alternative zum Definieren der Lochblenden-Apertur 3c
nur im Metallfilm 3a kann sich die Lochblenden-Apertur 3c auch
durch die Dicke des Spiegels 3 hindurch erstrecken.
Der Metallfilm 3a hat solche Eigenschaften, daß zum Beispiel,
wenn ein einfallender Lichtstrahl (zum Beispiel von der Test
oberfläche TS) eine ideale sphärische Wellenfront darstellt,
der entsprechende reflektierte Lichtstrahl auch eine ideale
sphärische Wellenfront darstellt. Würde der reflektierte Licht
strahl nicht exakt dem jeweils entsprechenden einfallenden
Lichtstrahl von der Testoberfläche TS entsprechen, dann wäre es
unmöglich, die Merkmale der tatsächlichen sich von der Teste
oberfläche TS her ausbreitenden Wellenfront mit Sicherheit zu
ermitteln.
Eine Linse 2 fokussiert von der Lichtquelle 1 emittiertes Licht
auf die Apertur 3c der Lochblende. Von der Lochblenden-Apertur
3c gebeugtes Licht breitet sich hinter der Lochblenden-Apertur
3c divergent als eine ideal sphärische Wellenfront SW aus
(Pfeile). Ein Teil der sphärischen Wellenfront SW wird als
"Meßstrahl" auf die Oberfläche (als die "Testoberfläche" TS be
zeichnet) der Probe gerichtet. Der von der Testoberfläche TS
reflektierte Meßstrahl wird auf den Spiegel 3 fokussiert. Diese
Fokussierung wird von der Testoberfläche durchgeführt. Daher
sollte die Testoberfläche so angeordnet-u sein, daß sich der
Spiegel 3 im oder im wesentlichen im Brennpunkt der Testober
fläche befindet. Der von dem Spiegel 3 reflektierte Meßstrahl
wird durch ein Hindurchtreten durch eine Linse 6 hindurch kol
limiert. Der Meßstrahl erreicht dann eine lichtempfindliche
Oberfläche eines Detektors 7, der vorzugsweise ein Charge
coupled Device (CCD) aufweist.
Zusätzlich zum Kollimieren des Meßstrahls fokussiert die Linse
6 ein Bild der Testoberfläche TS auf die lichtempfindliche
Oberfläche des Detektors 7. Zum genauen Bestimmen der Oberflä
chentopographie der Testoberfläche TS ist die Linse 6 vorzugs
weise so angeordnet, daß die Korrektur ihrer Verzerrung und
anderer Aberationen maximal ist. Die Koordinaten der Interfe
renzstreifen, wie sie auf der lichtempfindlichen Oberfläche des
Detektors 7 erhalten werden, sind vorzugsweise genau mit den
Koordinaten der entsprechenden Orte auf der Testoberfläche TS
korreliert, indem jeder von der Linse 6 hereingebrachte Versatz
der Koordinaten ermittelt wird. Das heißt der tatsächliche Ver
zerrungseffekt der Linse 6 auf jede Koordinate wird mit der
entsprechenden erwarteten Koordinate verglichen, die ansonsten
erhalten worden wäre, würde die Linse 6 entsprechend ihren ide
alen Designspezifikationen entsprechen. Jede notwendige Korrek
tur kann von einem mit dem Detektor 7 verbundenen Computer 8
durchgeführt werden.
Ein Teil der von der Apertur 3a der Lochblende erzeugten ideal
sphärischen Wellenfront wird von der Linse 6 kollimiert (zur
Verwendung als Referenzstrahl), wonach der Referenzstrahl den
Detektor 7 erreicht. Wenn die Testoberfläche asphärisch ist,
dann wird das Licht des von der Testoberfläche TS reflektierten
Meßstrahls normalerweise nicht auf einen Punkt auf dem Spiegel
3 fokussiert, sondern eher in einem gewissen Ausmaß über einen
Teil der Oberfläche des Spiegels 3 verteilt. Unter Bezugnahme
auf Fig. 16 bezeichnet W(h) einen Unterschied zwischen der
asphärischen Testoberfläche TS und einer am besten angepaßten
auf die Testoberfläche TS gerichten sphärischen Wellenfront.
Der Streuradius für reflektiertes Licht auf der Oberfläche das
Spiegels 3 ist (2r)dW(h)/dh. Wenn dWmax der Maximalwert von
dW(h)/dh innerhalb eines Bereichs ist, in welchem die Oberflä
chentopographie durch Analyse von Interferenz streifen ermittelt
werden kann, dann muß die Oberfläche 3a ausreichend genau sein
(eine ideale ebene Oberfläche), daß man eine genaue Vermessung
der Oberflächentopographie der Testoberfläche innerhalb des Be
reiches von (2r) (dWmax) erreicht.
Durch Interferenz zwischen dem Referenzstrahl und dem von der
Testoberfläche TS reflektierten Meßstrahl werden auf der licht
empfindlichen Oberfläche des Detektors 7 Interferenz streifen
erzeugt. Die Ausgabe des Detektors 7 wird in den Computer 8
eingespeist, der die codierten Daten in der Ausgabe analysiert.
Das topographische Profil der Testoberfläche TS wird aus dem
Muster der Interferenzstreifen, wie sie von dem Detektor 7
detektiert worden sind, berechnet.
Falls die Testoberfläche TS asphärisch ist, dann neigen die In
terferenzstreifen dazu, daß sie an Orten, an denen der lokale
Krümmungsradius der Testoberfläche TS mit dem Krümmungsradius
der beleuchtenden am besten angepaßten sphärischen Welle über
einstimmt, dünn gestreut angeordnet sind. Mit steigender Abwei
chung von der Übereinstimmung dieser Krümmungsradien ist die
Verteilung der Interferenzstreifen dichter.
Die Auflösung, mit welcher Interferenz streifen beobachtbar
sind, ist durch den Pixelabstand im Detektor 7 begrenzt. Wenn
die Periode der Interferenzstreifen kürzer ist als die kombi
nierte Breite von zwei aneinandergrenzenden Pixeln des Detek
tors 7, dann kann keine genaue Vermessung der Oberflächentopo
graphie durchgeführt werden. Dementsprechend ist es zum Sicher
stellen einer genauen und präzisen Vermessung wünschenswert und
bevorzugt, daß die Periode der Interferenzstreifen mindestens
gleich 4 mal der Breite eines Pixels des Detektors 7 ist.
Infolge der begrenzten Auflösung des Detektors 7 kann es, wenn
die Testoberfläche TS wesentlich von ihrem ideal sphärischen
Gegenstück abweicht, schwierig oder unmöglich sein, die Ober
flächentopographie der gesamten Testoberfläche auf einmal zu
vermessen. In einem solchen-Fall kann die Vermessung mehrfach
(mindestens 2 mal) durchgeführt werden, wobei jede Vermessung
jeweils nach einem Verändern des axialen Abstandes zwischen der
Testoberfläche TS und dem Spiegel 3 erhalten wird. Durch ein
Verändern des Abstandes zwischen einer asphärischen Testober
fläche und dem Spiegel wird eine entsprechende Änderung der
Position entlang der optischen Achse A der Testoberfläche, bei
welcher der Krümmungsradius der ideal sphärischen Wellenfront
mit einem Teil des Krümmungsradius der Testoberfläche überein
stimmt, durchgeführt. (Bei einer sphärischen Testoberfläche
tritt eine exakte Entsprechung des Krümmungsradius der Test
oberfläche und des Krümmungsradius der sphärischen Wellenfront
nur an einer einzigen axialen Position der Testoberfläche TS
bezüglich des Spiegels 3 auf).
Der Spiegel 3 ist durch das Betätigen eines Motors 9 (zum Bei
spiel eines Schrittmotors, eines Ultraschallmotors oder eines
anderen geeigneten Motors) bezüglich der Testoberfläche TS be
wegbar, wobei der Motor 9 über eine geeignete Einrichtung, die
dazu dient, den Spiegel 3 dazu zu bewegen, daß er sich bewegt
(beidseitiger Pfeil), wann immer der Motor 9 betätigt wird,
wirkungsmäßig mit dem Spiegel verbunden ist. Der Motor 9 ist
mit dem Computer 8 verbunden, so daß eine Zurückspeisung von
Daten betreffend die dem Spiegel 3 vermittelte quantitative Be
wegung bezüglich der Testoberfläche TS sichergestellt ist. Wenn
das quantitative Ausmaß der dem Spiegel 3 vermittelten Bewegung
signifikant ist, wird die Linse 2 vorzugsweise zusammen mit dem
Spiegel 3 bewegt, so daß eine saubere Konvergenz vom Licht von
der Quelle 1 bei der Lochblende 3c sichergestellt ist.
Bei jeder Stellung des Spiegels 3 wird ein Bereich auf der
Testoberfläche TS vermessen, welcher Bereich unterschiedlich
ist (daß heißt unterschiedlich hinsichtlich des Ortes oder der
Orte auf der Testoberfläche, an welchen Übereinstimmung der
Krümmungsradien auftritt) von dem bei der vorhergehenden Stel
lung des Spiegels und bei allen nachfolgenden Stellungen des
Spiegels jeweils vermessenen Bereich. Dies rührt daher, daß
eine genaue Vermessung nur in der Nähe des Bereichs möglich
ist, in welchem der Krümmungsradius der sphärischen Wellenfront
des Meßstrahls mit einem lokal bestmöglich angepaßten sphäri
schen Radius der asphärischen Oberfläche übereinstimmt. Daher
erhält man für gewöhnlich Daten von zumindest zwei Stellungen
des Spiegels. Der Computer 8 empfängt einerseits die Daten von
jedem Bereich und andererseits Daten betreffend die entspre
chenden Stellungen des Spiegels 3, kombiniert die Daten und
führt aus solchen Daten Berechnungen der Oberflächentopographie
der Testoberfläche TS durch. Das heißt, bei einer ersten Stel
lung des Spiegels 3 werden Vermessungen an Orten durchgeführt,
an welchen eine meßbare Verteilung von Interferenzstreifen be
steht. Dann wird die Anordnung des Spiegels 3 geändert, so daß
die Orte, an welchen eine meßbare Verteilung von Interferenz
streifen besteht, verschoben werden. Vorzugsweise überlagern
sich solche Bereiche bei der ersten und nachfolgenden Stellun
gen des Spiegels 3. Das Verfahren wird den Erfordernissen ent
sprechend wiederholt, so daß die gesamte Fläche der Testober
fläche abgedeckt ist. Die Ergebnisse der Vermessungen bei allen
Stellungen des Spiegels 3 werden kombiniert. Dadurch, daß Ver
messungen bei jeder der Vielzahl von Stellungen des Spiegels 3
erzielt werden, ist ein Vermessen einer breiteren Fläche einer
asphärischen Testoberfläche möglich, als dies mittels eines bei
einer einzigen Stellung des Spiegels durchgeführten Vermessung
möglich wäre.
Wie oben bemerkt wurde, ist der Abstand zwischen dem Spiegel 3
und der Testoberfläche TS über ein Bewegen der Testoberfläche
und/oder durch ein Bewegen des Spiegels veränderbar. (Bei die
ser Ausführungsform wird vorzugsweise der Spiegel 3 bewegt).
Falls die Testoberfläche TS bewegt wird, ist es zugunsten einer
bestmöglichen Genauigkeit und Präzision bevorzugt, daß das
quantitative Ausmaß der Bewegung sowie jede Änderung der Win
kelausrichtung der Testoberfläche (bezüglich der optischen Ach
se der Testoberfläche) sehr genau überwacht werden. Zu diesem
Zweck ist die Probe 4 vorzugsweise auf einem hochgenauen Tisch
S aufgebaut, dessen Stellung unter Verwendung eines Interfero
meters zur Längenmessung (nicht gezeigt) genau gemessen wird.
Jede während des Bewegens des Tisches S auftretende Änderung
der Neigung der Testoberfläche TS bezüglich der optischen Achse
A ist auf ähnliche Weise meßbar. Falls eine Änderung der Nei
gung der Testoberfläche S detektiert wird, ist die Neigung mit
tels des Computers 8 unter Verwendung einer Alignmentfehler-
Korrektur-Software "korrigierbar".
Als Alternative zum zuvor genannten Verfahren ist es, insbeson
dere, wenn die Testoberfläche rotationssymmetrisch ist, auch
möglich, daß die Resultate der Vermessung unter Verwendung des
folgenden Verfahrens mit hoher Genauigkeit kombiniert werden.
Die durch Analyse der Interferenz streifen erhaltene Phasenver
teilung wird zwischen 0 (Null) und 2π, oder 0 und λ/2 hinsicht
lich der Oberflächenform integriert. Dies ist so, da helle und
dunkle Interferenz streifen eine periodische Funktion mit einer
Periode von 2π(λ/2) darstellen und zwischen Unterschieden von
ganzzahligen Vielfachen von 2π(λ/2) nicht unterscheiden können.
Der Phasenunterschied zwischen einem Punkt in der Mitte, wo die
Interferenzstreifenphase 0 ist, und einem Punkt im äußeren Be
reich der Meßfläche, wo die Interferenzstreifenphase Null ist,
ist gleich einem ganzzahligen Vielfachen von λ/2. Daher ist die
Phase im äußeren Bereich der Meßfläche unter Verwendung der
Fläche in der Mitte als Referenz einstellbar. Der Wert der gan
zen Zahl ist nicht aus Messungen bestimmbar, aber er ist aus
dem Nominalwert der Testoberfläche abschätzbar. Die ganze Zahl
kann auch so bestimmt werden, daß keine Inkonsistenz beim Ver
messen von ringförmigen Streifen auftritt. Bei dem zuvor ange
führten Verfahren kann eine zwischen Vermessungen von unter
schiedlichen ringförmigen Streifen auftretende Drift Meßfehler
einführen; jedoch neigt das oben beschriebene alternative Ver
fahren nicht zu Driftfehlern, da bei ihm die Fläche in der Mit
te der Testoberfläche als Referenz verwendet wird.
Bei dem erfindungsgemäßen Interferometer ist zum Berechnen des
Profils eines Teils der asphärischen Testoberfläche TS mit ho
her Genauigkeit (aus detektierten Interferenz streifen) die
asphärische Testoberfläche TS unter Verwendung eines auf dem
Tisch S befestigten piezoelektrischen Elements 12 ein wenig
entlang der optischen Achse A der-Testoberfläche TS bewegbar
(daß heißt gemäß dem wohlbekannten Verfahren der Phasen-Ver
schiebungs-Interferometrie (Phase-Shift-Interferometrie)).
Da jedes zu einem einzelnen Zeitpunkt gemessene Profil einer
asphärischen Oberfläche nur einen Ausschnitt der Testoberfläche
TS darstellt, wäre die zum Vermessen des Profils der gesamten
Testoberfläche TS benötigte Meßzeit exzessiv groß. Um dieses
Problem zu lösen, kann ein sogenanntes "Nullelement" zwischen
die Lochblende 3c und die Testoberfläche TS eingefügt sein, so
daß eine auf die Testoberfläche einfallende Wellenfront ausge
bildet wird, die eher mit dem Profil der Testoberfläche über
einstimmt. Ein solches Verfahren erlaubt ein Vermessen der ge
samten Testoberfläche in einem einzigen Schritt oder zumindest
in wenigeren Schritten. Natürlich würde die Meßgenauigkeit
eines solchen Verfahrens von der Präzision abhängen, mit der
das Nullelement gefertigt ist.
Bei einem alternativen Verfahren kann zum Vermessen der Test
oberfläche ein Referenznormal (eine Referenzprobe mit einer ex
trem genau geformten Oberfläche), deren Profil zuvor genau ver
messen worden ist, in Verbindung mit einem Nullelement verwen
det werden (siehe Fig. 15 und zugehöriger Text). Zuerst wird
das Referenznormal unter Verwendung eines Verfahrens nach zum
Beispiel dieser repräsentativen Ausführungsform kalibriert.
Zweitens werden unter Verwendung eines Nullelementes, das wie
oben beschrieben eingesetzt wird, interferometrische Messungen
am Referenznormal vorgenommen. Die Meßergebnisse weisen jeden
Fehler des Nullelementes auf. Zum Ermitteln dieses Fehlers wer
den die Ergebnisse aus dem ersten Schritt von den Ergebnissen
aus dem zweiten Schritt subtrahiert. Dann wird das Referenz
normal durch die Probe mit der Testoberfläche ersetzt, und das
Profil der Testoberfläche wird unter Verwendung des Nullelemen
tes und in einer Konfiguration wie der unten in Fig. 6 und dem
begleitenden Text beschriebenen vermessen.
In der Praxis wird zuerst die Konfiguration aus Fig. 15 zum
Kalibrieren des Referenznormals verwendet. Zweitens wird die
Konfiguration aus Fig. 6 zum Vermessen des Profils der Test
oberfläche (die anstelle des Referenznormals eingefügt worden
ist) verwendet. Drittens wird das im ersten Schritt erhaltene
Ergebnis von dem im zweiten Schritt erhaltenen Ergebnis subtra
hiert; jeglicher Rest stellt einen Unterschied der Profile zwi
schen der Testoberfläche und dem Referenznormal dar. Alle er
haltenen Meßergebnisse der Testoberfläche werden gemäß jegli
cher gemessener Fehler des Referenznormals korrigiert, so daß
eine Vermessung des Fehlers des Profils der Testoberfläche her
vorgebracht wird.
In Fig. 1 ist die asphärische Testoberfläche TS, die vermessen
wird, auf einer Achse A angeordnet, die bezüglich der optischen
Achse der Linse 2 verkippt ausgerichtet ist. In Fällen, in de
nen das Profil der asphärischen Testoberfläche TS exzentrisch
bezüglich der Achse ist, kann die Probe 4 so angeordnet sein,
daß die Achse der asphärischen Testoberfläche mit der optischen
Achse der Linse 2 zusammenfällt. (Falls die Testoberfläche TS
eine Symmetrieachse besitzt, aber diese Achse nicht im Zentrum
der Testoberfläche liegt, hat die Testoberfläche ein "bezüglich
der Achse exzentrisches" Profil). Auch kann sie, falls die
asphärische Testoberfläche TS ringförmig ist, so angeordnet
sein, daß die Achse A der Testoberfläche mit der optischen
Achse der Linse 2 zusammenfällt. Es ist auch möglich, daß die
Linse 6 und der Detektor 7 auf der optischen Achse der Linse 2
angeordnet sind.
Diese alternativen Konfigurationen bieten Vorteile so wie z. B.
Kompaktheit des optischen Systems und Leichtigkeit der Justie
rung (da die optischen Achsen entlang einer geraden Linie ange
ordnet sind).
Eine Meßvorrichtung gemäß dieser Ausführungsform ist in Fig. 2
gezeigt, in der Komponenten, die die gleichen sind wie in der
Ausführungsform nach Fig. 1, jeweils die gleiche Bezugsziffer
haben und nicht weiter beschrieben werden. Bei der Ausführungs
form nach Fig. 2 wird anstelle des bei der Ausführungsform nach
Fig. 1 verwendeten Lochblendenspiegel 3 eine optische Faser
verwendet. Die optische Faser 20 weist eine Endfläche 20f auf,
die der reflektiven Oberfläche 3a des Lochblendenspiegels 3 bei
der Ausführungsform nach Fig. 1 entspricht. Die Endfläche 20f
weist einen lichtdurchlässigen Teil auf (von welchem der Meß
strahl emittiert wird), der der Lochblende 3c aus der Ausfüh
rungsform nach Fig. 1 entspricht.
Bei dieser Ausführungsform vereinfacht das Verwenden einer
optischen Faser 20 anstelle eines Spiegels die Anordnung des
optischen Systems der Vermessungsvorrichtung vorteilhaft. Auch
ist das zum Vermessen unterschiedlicher asphärischer Testober
flächen erforderliche Justieren des optischen Systems leicht
durchführbar. Zum Beispiel erreicht man ein Justieren des Ab
standes zwischen der asphärischen Testoberfläche TS und der
Endfläche 20f der optischen Faser 20 auf einfache Weise durch
ein Bewegen der Endfläche 20f (beidseitiger Pfeil).
Die Endfläche 20f weist vorzugsweise eine reflektive Oberfläche
auf, die größer ist als 2(r)dWmax.
Bei einer alternativen Konfiguration kann diese Ausführungsform
eine Mehrzahl von Lichtquellen 1 mit verschiedenen jeweiligen
Oszillationswellenlängen aufweisen. Jede solche Lichtquelle ist
jeweils mit einer optischen Faser 20 zum Transmittieren des
Lichtes von der jeweiligen Quelle versehen. Alle optischen
Fasern enden vorzugsweise in derselben Endfläche. Solch eine
Konfiguration ist nützlich zum relativ einfachen Durchführen
von Vermessungen bei verschiedenen Wellenlängen. Die Wellen
länge(n), die tatsächlich an die Endfläche 20f geliefert wird
(werden) und aus der Endfläche 20f ausgelöst wird (werden), ist
(sind) unter Verwendung eines Wellenlängenselektors auswählbar.
Der Bereich, über welchen das Profil einer asphärischen Ober
fläche auf einmal meßbar ist, wird umgekehrt proportional mit
der verwendeten Wellenlänge schmaler. Andererseits wird die
Meßauflösung in direkter Proportionalität zur Wellenlänge ge
ringer. Also ist die Meßgenauigkeit über die gesamte asphäri
sche Testoberfläche TS hinweg dadurch erhöhbar, daß Messungen
unter Verwendung einer Mehrzahl von Wellenlängen durchgeführt
werden und die jeweiligen Ergebnisse kombiniert werden, so daß
ein Profil der gesamten Testoberfläche erzielt wird. Eine sol
che Konfiguration erlaubt auch eine simultanes Messen auf Grund
lage einer Kombination von zwei oder mehr Wellenlängen (wobei
jede Wellenlänge von einer jeweiligen Quelle erzeugt ist), so
daß die Meßgenauigkeit zu jedem Zeitpunkt erhöht ist.
Das Durchführen von Vermessung unter Verwendung von mehreren
Wellenlängen ist auch immer dann nützlich, wenn die Testober
fläche TS beschichtet ist (zum Beispiel mit einem reflektiven
oder einem antireflektiven Film). Wenn zum Beispiel die Test
oberfläche TS ein reflektiver Spiegel für die Verwendung bei
der Extrem-Ultraviolett-Lithographie (im folgenden als "EUVL"
bezeichnet) ist, wird nach dem Ausbilden der gekrümmten Ober
fläche des Spiegels ein Vielschicht-Reflexionsfilm (multi-layer
Reflexionsfilm) für das EUVL-Belichtungslicht aufgebracht. Um
sicher zu stellen, daß das Oberflächenprofil des Spiegels durch
Aufbringen des Vielschichtfilms nicht verzerrt oder anderweitig
verändert wird, ist es bevorzugt, daß ein Vermessung des Ober
flächenprofils des Spiegels vor und nach dem Aufbringen des
Vielschichtfilms durchgeführt wird. Jedoch ist es bei der kon
ventionellen in der Praxis durchgeführten Vorgehensweise bei
der nach dem Aufbringen des Vielschichtfilms durchgeführten
Vermessung unmöglich, Änderungen im Profil von durch Reflexion
am Vielschichtfilm verursachten Phasenänderungen zu unterschei
den. Durch das Durchführen von Vermessungen bei mehreren Wel
lenlängen und die Verwendung von zum Beispiel der Ausführungs
form aus Fig. 2 ist es nun möglich, sicherzustellen, ob die
Spiegeloberfläche eine tatsächliche physikalische Deformation
erlitten hat oder ob sie nun eine durch das Aufbringen des
Vielschichtfilms verursachte Phasenänderung aufzeigt.
Die Probe 4 mit einer asphärischen Testoberfläche TS kann auf
einem drehbaren Tisch S aufgebaut werden, so daß ein Drehen der
Probe 4 um ihre optische Achse A während der Vermessung möglich
ist. Man erhält mehrere Messungen bei jeweils unterschiedlichen
Winkelausrichtungen der Probe 4 um die optische Achse A. Auf
Grundlage der so erhaltenen Ergebnisse der mehreren Messungen
werden die Berechnungen der Oberflächentopographie durchge
führt. So ist ein Aufdecken von rotationssymmetrischen Merk
malen und nicht rotationssymmetrischen Merkmalen der Testober
fläche TS möglich.
Hinter der Bild-fokussierenden Linse 6 kann ein halbdurchlässi
ger Spiegel (nicht gezeigt) angeordnet ist, der ein simultanes
Lenken von Licht durch mehrere Detektoren 7 erlaubt. Ein solche
Konfiguration ist insbesondere dann von Vorteil, wenn jeder
Detektor 7 eine Bildaufnahmevorrichtung (zum Beispiel CCD) mit
jeweils unterschiedlichen Pixelabstand oder unterschiedlicher
Pixeldichte aufweist. Die simultane Verwendung von Detektoren
mit unterschiedlichen Pixelfeldern erlaubt die Durchführung von
Messungen auf jeweils unterschiedlichen Auflösungsniveaus.
Es ist auch möglich, daß mehrere Linsen 6 verwendet werden, von
denen jede eine andere, unterschiedliche Vergrößerung hat, und
die unabhängig voneinander auswählbar sind (zum Beispiel da
durch, daß sie auf einem Revolverkopf oder dergleichen angeord
net sind). Alternativ kann die Linse 6 als "Zoom"-Linse ausge
führt sein. So können Messungen bei unterschiedlichen Vergröße
rungen durchgeführt werden. Durch eine Erhöhung der Vergröße
rung können Oberflächenmerkmale vermessen werden, die Interfe
renzstreifen mit einer hohen räumlichen Frequenz erzeugen.
Bei dieser Ausführungsform legt der sich von der Endfläche 20f
und von der Testoberfläche zum Detektor ausbreitende Meßstrahl
eine längere Strecke zurück als der sich von der Endfläche 20f
zum Detektor 7 ausbreitende Referenzstrahl. Bei solchen Weg
längenunterschieden können äußere Störungen (zum Beispiel Kon
vektionen des Mediums, durch welches hindurch sich die jeweili
gen Strahlen ausbreiten) in einem Strahl relativ zu dem anderen
stärker ausgeprägt sein, was zu einer Abnahme der Meßgenauig
keit führt. Konvektion ist eine wichtige äußere Störung, die
minimiert werden sollte. Konvektion manifestiert sich als Fluk
tuation des Brechungsindex in einem Lichtweg bezüglich des an
deren Lichtwegs. Zum Verringern von Brechungsindexfluktuationen
ist das optische System hinter der Endfläche 20f der optischen
Faser 20 vorzugsweise in einer Atmosphären 40 aus Helium oder
einem anderen seltenen Gas angeordnet. Gasförmiges Helium zeigt
bei Veränderungen der Temperatur kleinere Änderungen des Bre
chungsindex als Luft. Ein ähnlicher vorteilhafter Effekt kann
dadurch verwirklicht werden, daß man das Meßlicht sich im Vaku
um statt durch eine Atmosphäre aus Helium oder einem anderen
seltenen Gas hindurch ausbreiten läßt.
Eine weitere, eine Schlüsselposition einnehmende externe Stö
rung, die minimiert werden sollte, sind Vibrationen. Vibratio
nen können die positionelle Beziehung zwischen der asphärischen
Testoberfläche TS und der Endfläche 20f der optischen Faser 20
signifikant verändern. Solche Positionsänderungen verursachen
entsprechende Änderungen der Phase der Interferenzstreifen. Zum
Verringern solcher Effekte kann die Vorrichtung auf einem
vibrationsdämpfenden Unterbau aufgebaut sein. Ein Aufbauen auf
einem vibrationsdämpfenden Unterbau alleine ist jedoch für ge
wöhnlich immer dann ungenügend, wenn eine extreme hohe Meßge
nauigkeit erforderlich ist, wie zum Beispiel beim Vermessen
optischer Komponenten für optische EUVL-Systeme. Damit solch
strengen Anforderungen genügt ist, kann im Interferometer ein
optisches Anpassungssystem zum Einsatz gebracht sein. Zum Bei
spiel wird die Meßwellenfront mittels einer Sammellinse auf
einen vierteiligen Detektor fokussiert. Jede laterale Abwei
chung zwischen der Endfläche 20b der optischen Faser 20 und der
asphärischen Testoberfläche TS ist meßbar.
Zusätzlich kann eine Änderung des Abstandes zwischen der End
fläche 20f der optischen Faser 20 und der asphärischen Test
oberfläche TS dadurch gemessen werden, daß Änderungen des
Brennpunkts der Meßwellenfront gemessen werden. Dies kann zum
Beispiel durch konventionelle Verfahren erreicht werden, wie
zum Beispiel das Foucault-Verfahren oder das Verfahren der
astigmatischen Aberration. Ein Lenken solcher Daten als Feed
back an den Motor 9 in Echtzeit ermöglicht es, die gewünschte
feste positionelle Beziehung zwischen der Endfläche 20f der
optischen Faser 20 und der sphärischen Testoberfläche TS kon
stant aufrechtzuerhalten. Wenn der Spotdurchmesser des von der
Testoberfläche TS kommenden Meßlichtes auf der Endfläche 20f
wegen einer großen Abweichung der asphärischen Testoberfläche
TS von der bestmöglich angepaßten sphärischen Oberfläche über
mäßig groß ist, ist nur der zentrale Teil der Meßwellenfront
verwendbar. Ein ähnlicher Effekt ist dadurch verwirklichbar,
daß Daten als Feedback an den Tisch S, auf welchem die Probe 4
aufgebaut ist, gelenkt werden und der Tisch S so in Echtzeit
beeinflußt wird, wie es zum Aufrechthalten der gewünschten
festen positionellen Beziehung zwischen der Testoberfläche TS
und der Endfläche 20f erforderlich ist.
Natürlich kann jedes der vorangehend beschriebenen Verfahren
zum zumindest Verringern der Auswirkungen externer Störungen
mit gleicher Leichtigkeit auf jede der hier offenbarten reprä
sentativen Ausführungsformen angewendet werden.
Die dritte repräsentative Ausführungsform ist in Fig. 3 ge
zeigt, wo gleiche Komponenten wie bei der ersten repräsenta
tiven Ausführungsform jeweils mit den gleichen Bezugszeichen
bezeichnet sind und nicht weiter beschrieben werden. Von einer
Quelle 1 wird zeitlich inkohärentes Laserlicht erzeugt. Die
Quelle 1 kann zum Beispiel ein Exzimerlaser sein. Alternativ
kann die Quelle 1 einer von verschiedenen anderen Lasern oder
eine Kombination von Lasern mit jeweils unterschiedlichen
Wellenlängen sein oder sogar eine Weißlichtquelle. Licht von
der Quelle 1 wird mittels eines Strahlteilers 30 in
einen Meßstrahl und einen Referenzstrahl aufgespalten. Der Meß
strahl tritt durch den Strahlteiler 30 hindurch und trifft auf
einen bewegbaren reflektiven Spiegel 31, der eine Einrichtung
zur Lichtwegregelung bildet. Der Meßstrahl tritt erneut durch
den Strahlteiler 30 hindurch, und die Trajektorie des Meß
strahls wird durch Reflexion an einem Ablenkspiegel 33 abge
lenkt. Der Meßstrahl wird mittels einer Linse 2 auf die Apertur
3c einer Lochblende fokussiert, welche Apertur durch einen
Lochblendenspiegel 3 definiert ist.
Der Referenzstrahl wird währenddessen von dem Strahlteiler 30
reflektiert und trifft auf einen feststehenden reflektiven
Spiegel 32. Der Referenzstrahl tritt wieder in den Strahlteiler
30 ein und wird von dem Strahlteiler zum Umlenkspiegel 33 re
flektiert. Der Umlenkspiegel lenkt den Referenzstrahl zur Linse
2, die den Referenzstrahl auf die Lochblende 3c fokussiert.
Der durch die Lochblende 3c hindurchtretende Meßstrahl beleuch
tet die asphärische Testoberfläche TS der Probe 4. Das Meßlicht
wird von der Testoberfläche TS reflektiert und wieder auf den
Lochblendenspiegel 3 fokussiert. Das Meßlicht wird von dem
Lochblendenspiegel 3 reflektiert und tritt durch eine Bild
fokussierende Linse 6 hindurch auf eine lichtempfindliche
Fläche eines Detektors 7 (zum Beispiel CCD).
Der durch die Lochblende 3c hindurchtretende Referenzstrahl
propagiert direkt durch die Linse 6 hindurch zur lichtempfind
liche Fläche des Detektors 7. Die beiden die Oberfläche des De
tektors 7 erreichenden Lichtstrahlen bilden Interferenzstreifen
aus, und das Profil der asphärischen Testoberfläche TS wird auf
ähnliche Weise ermittelt wie bei der ersten repräsentativen
Ausführungsform.
Bei der Ausführungsform aus Fig. 3 können Interferenz streifen
mit optimalem Kontrast dadurch erzielt werden, daß der beweg
bare Spiegel 31 geeignet bewegt wird (beidseitiger Pfeil). Eine
solche Justierung des bewegbaren Spiegels 31 wird so lange
durchgeführt, bis die jeweiligen Weglängen der Trajektorien von
Meßstrahl und Referenzstrahl übereinstimmen, wobei übereinstim
men bedeutet, daß sie die gleiche Weglänge bei axialer Ausbrei
tung haben.
Das bei dieser Ausführungsform verwendete Interferometer ist
auch zum genauen Bestimmen des Abstandes zwischen dem Lochblen
denspiegel 3 und der Testoberfläche TS nützlich und verwendbar.
Dies ist vorteilhaft, da, unter weiteren vorteilhaften Eigen
schaften, der Krümmungsradius der Testoberfläche mit hoher
Genauigkeit bestimmbar ist. Zuerst wird, bevor die Probe 4 auf
dem Tisch S aufgebaut wird, eine erste Messung der Weglängen
der Trajektorien von der Testoberfläche TS zu einem unmittelbar
an den Lochblendenspiegel 3 angrenzenden Punkt durchgeführt.
Zum Erzielen der Messung wird der Spiegel 31 nach Bedarf be
wegt, so daß Interferenzstreifen mit maximalen Kontrast erzielt
werden. Als nächstes wird die die asphärische Testoberfläche TS
aufweisende Probe 4 auf dem Tisch S aufgebaut. Eine zweite
Messung der Weglänge der Trajektorie von der Testoberfläche TS
zu einem unmittelbar an dem Lochblendenspiegel 3 angrenzenden
Punkt, wobei Interferenzstreifen mit optimalen Kontrast erzeugt
werden, wird dadurch durchgeführt, daß der Spiegel 31 geeignet
bewegt wird. Die eingestellte Position der Testoberfläche TS
kann durch Berechnen der Differenz der bei der ersten und bei
der zweiten Messung erhaltenen Weglängen der Trajektorien genau
bestimmt werden.
In Fällen, wenn Lichtstrahlen mit zwei oder mehr Wellenlängen
verwendet werden, und eine erste Interferenzstreifenbedingung
und eine zweite Interferenzstreifenbedingung analysiert werden,
ist auch der Abstand zwischen dem Lochblendenspiegel und der
Testoberfläche genau meßbar. Dies wird durch ein derartiges
Anordnen der Anordnung durchgeführt, daß der zentrale Bereich
der Testoberfläche vermessen wird.
Bei der in Fig. 5 dargestellten Ausführungsform sind Komponen
ten, die den in Fig. 1 gezeigten Komponenten entsprechen, mit
gleichen Bezugszeichen versehen und nicht weiter beschrieben.
Zwischen einer Lichtquelle 1 (vorzugsweise einem Laser) und
einer Probe 4 mit einer asphärischen Testoberfläche TS, die
vermessen werden soll, ist ein Lochblendenspiegel 3 angeordnet.
Der Lochblendenspiegel 3 weist eine reflektive Oberfläche 3a
auf, die die Apertur 3c einer Lochblende definiert, wie oben
bei der ersten repräsentativen Ausführungsform beschrieben
worden ist.
Das von der Quelle 1 emittierte Licht wird von einer Linse 2
fokussiert und zum Konvergieren auf die Lochblende 3c gebracht.
Das Licht wird von der-Lochblende 3c gebeugt und divergiert
hinter dem Lochblendenspiegel 3 als eine ideal sphärische Welle
SW. Ein Teil der sphärischen Wellenfront SW wird als Meßstrahl
LM verwendet. Der Meßstrahl LM wird mittels eines Nullelements
14 in eine asphärische Wellenfront konvertiert, die idealer
weise an allen Bereichen einer ideal asphärischen Oberfläche,
die der tatsächlichen Testoberfläche TS entspricht, senkrecht
und gleichphasig einfallen würde. Der Meßstrahl LM wird von der
Testoberfläche TS reflektiert, so daß er über das Nullelement
14 auf den Lochblendenspiegel 3 hin konvergiert.
Immer wenn die Testoberfläche TS ein entsprechendes ideal
asphärisches topographisches (Oberflächen-) Profil aufweist,
ist die Wellenfront des auf den Lochblendenspiegel 3 fokussier
ten Meßstrahls LM eine sphärische Welle. Der Meßstrahl LM wird
von dem Lochblendenspiegel 3 reflektiert und breitet sich wei
ter zu einer Bild-fokussierenden Linse 6 aus, die den Meßstrahl
zum Einfallen auf eine lichtempfindliche Oberfläche eines De
tektors 7 (zum Beispiel CCD) kollimiert. Die Linse 6 dient auch
zum Fokussieren eines Bildes auf der Testoberfläche TS auf die
lichtempfindliche Oberfläche des Detektors 7. Wie in bezug auf
die erste repräsentative Ausführungsform besprochen worden ist,
ist die Linse 6 so konfiguriert, daß sie eine minimale Verzer
rung ausübt.
Währenddessen tritt ein der Teil von der Lochblende 3c aus di
vergierenden ideal sphärischen Welle SW als Referenzstrahl LR
durch die Linse 6 hindurch und wird somit kollimiert, so daß er
auf die lichtempfindliche Oberfläche des Detektors 7 fällt.
Das gemeinsame Fortschreiten des Meßstrahls LM und des Refe
renzstrahls LR zum Detektor 7 erzeugt Interferenz streifen, die
von dem Detektor 7 empfangen und detektiert werden. Die latera
len Koordinaten der Interferenzstreifen werden gemessen. Dazu
ist der Detektor 7 mit einem Computer verbunden (nicht gezeigt,
aber siehe erste repräsentative Ausführungsform). Wie in bezug
auf die erste repräsentative Ausführungsform beschrieben worden
ist, werden jegliche Abweichungen der Koordinaten der durch von
der tatsächlichen Testoberfläche TS reflektiertes Meßlicht er
zeugten Interferenzstreifen von den entsprechenden idealen
nominellen Koordinaten gemessen. Somit wird eine genaue Bezie
hung zwischen Koordinaten auf der Testoberfläche TS und jewei
ligen Koordinaten auf der lichtempfindlichen Oberfläche des
Detektors 7 hergestellt.
Immer wenn die Testoberfläche TS eine für das spezielle Null
element 14 ideale Form aufweist, stimmen die Wellenfront des
Meßstrahls und die Wellenfront des Referenzstrahls überein (das
heißt sie löschen sich gegenseitig aus). Dies erlaubt ein
Vermessen des gesamten Profils einer Testoberfläche TS auf
einmal.
Der Computer (nicht gezeigt) analysiert die Interferenzstrei
fendaten vom Detektor 7 und berechnet aus solchen Daten das
Profil der Testoberfläche TS. Normalerweise wird zum Berechnen
des Profils der Testoberfläche TS aus den Interferenzstreifen
die Probe 4 während des Messens der Interferenz streifen gering
fügig entlang der optischen Achse A bewegt. Diese Technik des
axialen Bewegens der Probe 4 ist üblicherweise als "Phasenver
schiebungs-Interferenz"-Technik ("phase-shift-Interferenz"-Technik)
bekannt. Das Bewegen der Probe 4 wird vorzugsweise
durch die Verwendung eines piezoelektrischen Elementes oder
einer analogen Vorrichtung bewirkt (in den Figuren nicht ge
zeigt, aber siehe bei der ersten repräsentativen Ausführungs
form).
Beispiele von Nullelementen 14 umfassen auf, sind aber nicht
beschränkt auf: Elemente mit Linsen einschließend sphärische
und ebene Oberflächen, Elemente einschließend Spiegel, Elemente
einschließend sphärische und ebene Spiegel, Elemente einschlie
ßend asphärische Linsen, Elemente einschließend asphärische
Spiegel, Elemente einschließend transmittierende beugende opti
sche Komponenten und Elemente einschließend reflektierende beu
gende optische Komponenten.
Bei einer in Fig. 6 gezeigten Variation dieser Ausführungsform
wird eine konvexe asphärische Testoberfläche TS durch Verwen
dung eines Nullelements 14a vermessen, welches eine ideal sphä
rische Wellenfront SW, die sich von der Lochblende 3c aus di
vergent ausbreitet, in eine asphärische Wellenfront konver
tiert. Die resultierende Wellenfront fällt senkrecht und
gleichphasig auf die konvexe Testoberfläche TS ein.
Während bei dieser Ausführungsform zum Erzeugen einer sphäri
schen Referenzwellenfront ein Lochblendenspiegel 3 verwendet
wird, ist auch möglich, daß zum Erzeugen einer solchen Wellen
front eine optische Faser oder ein optischer Wellenleiter ver
wendet wird, wie allgemein bei der zweiten repräsentativen
Ausführungsform behandelt worden ist.
In Fig. 7 ist eine fünfte repräsentative Ausführungsform ver
anschaulicht, wobei gleiche Komponenten wie in Fig. 1 mit je
weils den gleichen Bezugszeichen versehen sind und nicht weiter
beschrieben werden.
Ähnlich wie die Ausführungsform aus Fig. 1 weist diese fünfte
repräsentative Ausführungsform einen Lochblendenspiegel 3 auf.
Jedoch ist im Gegensatz zur Ausführungsform aus Fig. 1 der
Lochblendenspiegel 3, wie unten behandelt wird, bezüglich der
Ausbreitungsachse A von von der Testoberfläche TS der Probe 4
reflektiertem Licht verkippt.
Die Quelle 1 ist vorzugsweise ein Laser. Die Linse 2 fokussiert
von der Quelle 1 emittiertes Licht auf die Lochblende 3c in dem
Spiegel 3. Die Lochblende 3c beugt durch sie hindurchtretendes
Licht. Das resultierende gebeugte Licht breitet sich hinter der
Lochblende 3c divergent als eine ideal sphärische Wellenfront
SW1 aus. Ein Teil des Lichts mit sphärischer Wellenfront SW1
fällt auf die Testoberfläche TS einer Probe 4 und wird von ihr
reflektiert. Das reflektierte Licht konvergiert auf den Loch
blendenspiegel 3 zu und wird zu einem Detektor 7 hin reflek
tiert. Der Lochblendenspiegel 3 ist mit einem solchen Winkel
bezüglich der Achse A ausgerichtet, daß von dem Lochblenden
spiegel 3 reflektiertes Licht 21 nicht innerhalb der sphä
rischen Wellenfront SW1 liegt.
Das von dem Lochblendenspiegel 3 reflektierte Licht 21 tritt
durch ein Nullelement 11 hindurch, das so konfiguriert ist, daß
es die (durch Reflexion von der Testoberfläche TS gebildete)
asphärische Wellenfront des Lichts 21 in eine sphärische Wel
lenfront 22 konvertiert. Jegliche Abweichung der sich hinter
dem Nullelement 11 ausbreitenden sphärischen Wellenfront 22 von
einer ideal sphärischen Wellenfront läßt sich einem entspre
chenden Fehler der Oberflächentopographie der asphärischen
Testoberfläche TS zuordnen. Der Lichtstrahl 22 tritt durch ein
Beugungsgitter 23 hindurch, das Licht verschiedener Beugungs
ordnungen in verschiedene Richtungen bezüglich des Beugungsgit
ters 23 ablenkt. Das Beugungsgitter 23 dient als eine hinter
dem Nullelement 11 selbst, aber vor dem Brennpunkt des Nullele
ments 11 angeordnete, den Lichtweg aufspaltende Einrichtung.
Hinter dem Beugungsgitter 23 ist ein Lochblendenelement 13 an
geordnet. Das in Fig. 8 gezeigte Lochblendenelement 13 weist
einen auf die Oberfläche eines transparenten Substrates 13a
(zum Beispiel Glas) (zum Beispiel durch Vakuumverdampfung) auf
gebrachten Metallfilm 13b auf. Der Metallfilm 13b definiert
eine Lochblende 13c und ein Fenster 13d. Das Lochblendenelement
13 ist im Brennpunkt des Nullelements 11 angeordnet. Das Loch
blendenelement 13 ist so konfiguriert und angeordnet, daß ge
beugtes Licht nullter Ordnung auf die Lochblende 13c fokussiert
wird und gebeugtes Licht erster Ordnung durch das Fenster 13d
hindurchtritt. Licht aller anderen Beugungsordnungen wird von
dem Metallfilm 13b blockiert.
Das durch die Lochblende 13c hindurchtretende nullter Ordnung
gebeugte Licht weist eine ideal sphärische Wellenfront SW2 auf.
Die Wellenfront SW2, sowie auch das durch das Fenster 13d hin
durchtretende, erster Ordnung gebeugte Licht werden durch ihr
Hindurchtreten durch eine Bild-fokussierende Linse 6 fokus
siert, so daß sie auf eine lichtempfindliche Oberfläche eines
Detektors 7 (zum Beispiel CCD) fallen.
Die Linse 6 dient auch zum Fokussieren eines Bildes der asphä
rischen Testoberfläche TS auf die lichtempfindliche Oberfläche
des Detektors 7. Die Linse 6 ist so konfiguriert, daß Verzer
rung soweit wie möglich minimiert ist, so daß das Profil der
asphärischen Testoberfläche TS genau bestimmt werden kann. Wie
bei der ersten repräsentativen Ausführungsform behandelt worden
ist, werden die lateralen Koordinaten von Interferenzstreifen,
wie sie auf der lichtempfindlichen Oberfläche des Detektors 7
ausgebildet werden, bestimmt. Außerdem werden die tatsächlichen
Werte der Verzerrung mit den entsprechenden theoretischen Nomi
nalwerten verglichen. So wird jeder nachteilige Beitrag durch
die Linse 6 subtrahiert. Durch solche Berechnungen wird eine
genaue Beziehung zwischen lateralen Koordinaten der Testober
fläche TS und entsprechenden lateralen Koordinaten der licht
empfindlichen Oberfläche des Detektors 7 bestimmt.
Das durch das Lochblendenelement 13 hindurchtretende Licht
nullter Ordnung und erster Ordnung interferieren miteinander.
Die resultierenden Interferenz streifen werden, wie sie auf die
lichtempfindliche Oberfläche des Detektors 7 fallen, detek
tiert. Immer wenn die Testoberfläche TS ein ideal asphärisches
Profil aufweist, stimmen die Wellenfronten der beiden Strahlen
überein und löschen sich gegenseitig aus. Unter solchen Bedin
gungen ist das Profil einer gesamten asphärischen Testoberflä
che TS auf einmal meßbar.
Die Ausgabe des Detektors 7 wird in einen Computer eingespeist
(nicht gezeigt, aber verständlicherweise wie in Fig. 1 gezeigt
mit dem Detektor verbunden). Der Computer analysiert in der De
tektorausgabe verschlüsselte Daten. Jede topographische Anoma
lie des asphärischen Profils der Testoberfläche TS macht sich
in einer entsprechenden Abweichung der von dem Nullelement 11
erzeugten Wellenfront bemerkbar, die wiederum über eine Ände
rung der Interferenzstreifen detektiert wird. Der Fehler des
Profils der asphärischen Testoberfläche TS wird durch eine
Analyse des Interferenzstreifenmusters bestimmt.
Zum Berechnen des Profils der asphärischen Oberfläche TS aus
den Interferenzstreifen ist das Beugungsgitter 23 ein wenig in
einer Richtung senkrecht zu der optischen Achse A2 und senk
recht zu den Strichen des Beugungsgitters 23 bewegbar. Vorzugs
weise wird eine solche Bewegung durch den steuernden Einfluß
eines piezoelektrischen Elements (nicht gezeigt), an welchem
das Beugungsgitter 23 befestigt ist, bewirkt. Somit ist die
Genauigkeit, mit welcher die Testoberfläche TS mit einem ent
sprechenden gewünschten theoretischen Profil übereinstimmt,
durch Phasenverschiebungs-Interferometrie mit hoher Genauigkeit
meßbar.
Beispiele von Nullelementen 11 sind bei der Beschreibung der
vierten repräsentativen Ausführungsform weiter oben aufgeli
stet.
Da der Längenunterschied der Lichtwege zwischen den zwei Licht
strahlen, die die Interferenzstreifen ausbilden, im wesentli
chen Null ist, sind Messungen selbst dann durchführbar, wenn
die Lichtquelle 1 eine kurze Kohärenzlänge aufweist. Da sich
die zwei Lichtstrahlen im wesentlichen längs desselben Lichtwe
ges ausbreiten, ist diese Ausführungsform dahingehend vorteil
haft, daß das System relativ unanfällig ist gegenüber Auswir
kungen von Luftfluktuationen und mechanischen Erschütterungen.
Obwohl diese Ausführungsform in dem Zusammenhang beschrieben
ist, daß Licht nullter von dem Beugungsgitter 23 als u-sphärische
Referenzwellenfront verwendet wird (wobei Licht erster Ordnung
als Testwellenfront zum Erzeugen von Interferenzstreifen ver
wendet wird), ist verständlicherweise auch eine jede von ver
schiedenen anderen Konfigurationen möglich, bei der Licht ande
rer Beugungsordnungen verwendet wird.
Obwohl bei dieser Ausführungsform ein Beugungsgitter 23 als die
den Lichtweg aufspaltende Einrichtung verwendet wird, ist auch
die Verwendung einer den Lichtweg aufspaltenden Komponente 24
der Art, wie sie in Fig. 9 gezeigt ist, möglich. In Fig. 9
sind eine Strahlteileröffnung 24d und Lochblende 24c in einer
undurchsichtigen Schicht 24b auf einem Substrat 24a (zum Bei
spiel Glas) definiert. Weiter ist es möglich, daß alternativ
eine andere den Lichtweg aufspaltende Einrichtung verwendet
wird.
Ein optisches Schema, das eine repräsentative Verwendung der
den Lichtweg aufspaltenden Komponente 24 zeigt, ist in Fig. 10
veranschaulicht. Ein Teil des Lichtstrahls wird (nachdem er von
dem Nullelement 11 konvertiert worden ist) von der Strahltei
leröffnung 24d reflektiert, von der Linse 6 kollimiert, und
propagiert dann zur lichtempfindlichen Oberfläche des Detektors
7. Währenddessen wird durch die Strahlteileröffnung 24d hin
durchtretendes Licht von einer Linse 15 kollimiert. Das resul
tierende kollimierte Licht wird durch einen Doppelspiegel 16 in
einem vorgeschriebenen Winkel zurückgelenkt. Die Linse 15 bün
delt das zurückkehrende Licht auf die Lochblende 24c. Eine
durch Beugung an der Lochblende 24c erzeugte ideal sphärische
Wellenfront wird von der Linse 6 kollimiert und propagiert zur
lichtempfindlichen Oberfläche des Detektors 7</ 14752 00070 552 001000280000000200012000285911464100040 0002019944021 00004 14633BOL<. Jeder Fehler des
Profils der asphärischen Testoberfläche TS wird aus den Inter
ferenzstreifen, die durch Interferenz der beiden die lichtemp
findliche Oberfläche des Detektors 7 erreichenden Lichtstrahlen
erzeugt sind, bestimmt.
Wenn eine den Lichtweg aufspaltende Komponente 24 auf die Weise
verwendet wird, wie es in Fig. 10 gezeigt ist, ist Phasenver
schiebungs-Interferometrie dadurch durchführbar, daß der Dop
pelspiegel 16 ein wenig auf der optischen Achse der Linse 15
bewegt wird. Bei einer solchen Konfiguration sind Vermessungen
mit höherer Genauigkeit durchführbar, als dies andernfalls bei
dem Verfahren der Phasenverschiebungs-Interferometrie möglich
wäre, wenn die Testoberfläche TS um einen kleinen Betrag bewegt
wird.
Diese Ausführungsform ist so konfiguriert, daß der von dem
Lochblendenspiegel 3 reflektierte Meßstrahl 21 durch sein Hin
durchtreten durch das Nullelement 11 in eine sphärische Wellen
front konvertiert wird. Bei einer alternativen Konfiguration
ist das Nullelement zwischen der Lochblende 3c und der Test
oberfläche TS angeordnet, wobei der Meßstrahl senkrecht und
gleichphasig auf die Testoberfläche TS einfällt.
Fig. 11 zeigt die Konfiguration einer sechsten repräsentativen
Ausführungsform, wobei Komponenten, die dieselben wie die bei
der Ausführungsform aus Fig. 7 sind, jeweils mit den selben
Bezugszeichen benannt sind und nicht weiter beschrieben werden.
Diese Ausführungsform weist nicht nur den oben behandelten
Lochblendenspiegel 3 auf, sondern auch einen ähnlich wie den
Lochblendenspiegel 3 konfigurierten zweiten Lochblendenspiegel
25.
Von einer Lichtquelle 1 emittiertes Laserlicht wird von einer
Linse 2 auf die durch den Lochblendenspiegel 3 definierte
Lochblende 3c fokussiert. Die Lochblende 3c beugt das durch die
Lochblende 3c hindurchtretende Licht und bildet eine divergente
ideal sphärische Wellenfront SW1 aus, die sich hinter der Loch
blende 3c ausbreitet. Ein Teil des Lichts der sphärischen Wel
lenfront wird durch die asphärische Testoberfläche TS einer
Probe 4 reflektiert, die das reflektierte Licht konvergent auf
den Lochblendenspiegel 3 lenkt. Das Licht wird als Meßstrahl 21
reflektiert. Der Winkel des Lochblendenspiegels 3 bezüglich der
Ausbreitungsachse A von von der Testoberfläche TS reflektiertem
Licht ist ausreichend, so daß sichergestellt ist, daß der Meß
strahl 21 nicht mit der sphärischen Wellenfront SW1 wechsel
wirkt. Der Strahl 21 propagiert zu einem Nullelement 11, das so
konfiguriert ist, daß der Meßstrahl 21 (mit einer asphärischen
Wellenfront, die durch Reflexion der Wellenfront SW1 von der
asphärischen Testoberfläche TS erzeugt ist) in einen Strahl 40
mit sphärischer Wellenfront konvertiert wird. Jede Abweichung
der Wellenfront des Strahls 40 von einem ideal sphärischen Pro
fil entspricht einer entsprechenden Anomalie des Profils der
Testoberfläche TS gegenüber ihrem ideal asphärischen Profil.
Der Strahl 40 vom Nullelement 11 fällt ungefähr am Ort einer
durch den Lochblendenspiegel 25 definierten-Lochblende 25c auf
den zweiten Spiegel 25. Von dem zweiten Lochblendenspiegel 25
reflektiertes Licht des Strahls 40 wird durch sein Hindurchtre
ten durch eine Bild-fokussierende Linse 6 kollimiert und fällt
dann auf die lichtempfindliche Oberfläche eines Detektors 7
(zum Beispiel CCD) auf. Die Linse 6 dient auch zum Fokussieren
eines Bildes der Testoberfläche TS auf die lichtempfindliche
Oberfläche des Detektors 7. Die Linse 6 ist vorzugsweise so
konfiguriert, daß sie eine minimale Verzerrung aufweist, so daß
das Profil der Testoberfläche TS genau bestimmt werden kann.
Wie in bezug auf die erste repräsentative Ausführungsform be
sprochen worden ist, werden die lateralen Koordinaten der auf
der lichtempfindlichen Oberfläche des Detektors 7 ausgebildeten
Interferenz streifen unter Verwendung theoretischer Nominalwerte
(Designwerte) und tatsächlich gemessener Werte auf Verzerrungen
hin korrigiert. So kann eine genaue Beziehung zwischen Koordi
naten auf der Testoberfläche TS und lateralen Koordinaten auf
der lichtempfindlichen Oberfläche des Detektors 7 hergestellt
werden.
Licht von der Quelle 1 tritt währenddessen durch einen Strahl
teiler 28 und eine fokussierende Linse 29 hindurch und wird
mittels einer optischen Faser 26 auf den zweiten Lochblenden
spiegel 25 geleitet. Das von dem Abschluß der optischen Faser
26 emittierte Licht wird mittels einer Linse 27 auf die Loch
blende 25c fokussiert. Beim Durchtreten des Lichtes von der
optischen Faser 26 durch die Lochblende 25c wird infolge der
Beugung durch die Lochblende 25c eine ideal sphärische Wellen
front SW2 erzeugt. Das Licht der sphärischen Wellenfront wird
durch sein Hindurchtreten durch die Linse 6 hindurch kollimiert
und breitet sich zur lichtempfindlichen Oberfläche des Detek
tors 7 aus.
Licht der sphärischen Wellenfront SW2 interferiert mit dem von
dem Lochblendenspiegel 25 reflektierten Strahl 40. Der Detektor
7 empfängt die resultierenden Interferenzstreifen. Falls die
Testoberfläche TS ein ideal asphärisches Profil aufweist, stim
men die beiden Wellenfronten exakt überein (d. h. sie löschen
sich gegenseitig aus). Ein solches Übereinstimmen erlaubt es,
daß das gesamte Profil der Testoberfläche TS auf einmal vermes
sen wird. Die Ausgabe des Detektors 7 wird in einen Computer
(nicht gezeigt, aber siehe Fig. 1) eingespeist, der zum Analy
sieren der Interferenzstreifendaten vom Detektor 7 und zum
Ermitteln des Profils der Testoberfläche TS aus solchen Daten
programmiert ist.
Zum Berechnen des Profils der Testoberfläche TS aus den Inter
ferenzstreifen wird die Testoberfläche TS vorzugsweise gering
fügig längs der optischen Achse A bewegt. Eine solche Bewegung
wird vorzugsweise in kontrollierter Weise durch ein piezoelek
trisches Element (nicht gezeigt, aber siehe Element 12 in Fig. 1)
bewirkt. Eine solche Bewegung erlaubt es, daß das Profil der
Testoberfläche TS durch Phasenverschiebungs-Interferometrie mit
hoher Genauigkeit vermessen wird.
Das Nullelement 11 kann ein beliebiges von unterschiedlichen
geeigneten Elementen sein, wie oben bezüglich der vierten
repräsentativen Ausführungsform besprochen worden ist.
Bei dieser Ausführungsform erhält man eine sphärische Referenz
welle dadurch, daß die Lochblende 25c mit Licht von der opti
schen Faser 26 beleuchtet wird. Alternativ ist es möglich, daß
durch die Lochblende 25c hindurchtretendes Licht unter Verwen
dung eines sphärischen Spiegels 41 zurückfokussiert wird, so
daß die sphärische Referenzwellenfront SW2 ausgebildet wird,
wie in Fig. 12 gezeigt ist. Es ist auch möglich, daß der in
Fig. 12 gezeigte sphärische Spiegel 41, wie in Fig. 13 ge
zeigt ist, durch einen Parabolspiegel 42 und einen ebenen Spie
gel 43 ersetzt ist. Gemäß einer weiteren Alternative ist es
möglich, daß der sphärische Spiegel 41 aus Fig. 12, wie in
Fig. 14 gezeigt ist, durch eine Linse 44 und einen Eckwürfel-
Reflektor (corner-cube reflector) 45 ersetzt sein.
Bei der in Fig. 13 gezeigten Konfiguration kann durch ein ge
ringfügiges Bewegen des ebenen Spiegels 43 entlang einer Achse
A3 Phasenverschiebungs-Interferometrie durchgeführt werden. Bei
der in Fig. 14 gezeigten Konfiguration kann Phasenverschie
bungs-Interferometrie durch ein geringfügiges Bewegen des Eck
würfel-Reflektors 45 entlang der Achse A3 durchgeführt werden.
Eine solche Phasenverschiebungs-Interferometrie liefert Messun
gen mit höherer Genauigkeit, als sie andernfalls durch ein ge
ringfügiges Bewegen der Testoberfläche TS entlang der Achse A
erzielbar sind.
Diese Ausführungsform ist so konfiguriert, daß der "Meßstrahl"
40 mit sphärischer Wellenfront durch ein hinter dem ersten
Lochblendenspiegel 3 angeordnetes Nullelement 11 erzeugt wird.
Bei einer alternativen Konfiguration kann das Nullelement zwi
schen der Lochblende 3c und der Testoberfläche TS angeordnet
sein, wobei der Meßlichtstrahl senkrecht und gleichphasig auf
die Testoberfläche TS einfällt.
Eine siebente repräsentative Ausführungsform ist in Fig. 15 ge
zeigt, wobei Komponenten, die die gleichen sind, wie die in
einer der oben besprochenen repräsentativen Ausführungsformen
gezeigten, mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind und
nicht weiter besprochen werden. Bei dieser Ausführungsform wird
ein Lochblendenspiegel 3 verwendet, der dem bei der ersten re
präsentativen Ausführungsform verwendeten und oben beschriebe
nen Lochblendenspiegel ähnlich ist.
Von einer Lichtquelle 1 emittiertes Laserlicht wird durch eine
Linse 2 auf eine durch den Lochblendenspiegel 3 definierte
Lochblende 3c fokussiert. Durch die Lochblende 3c hindurchtre
tendes Licht wird, wie oben beschrieben, gebeugt, so daß eine
ideal sphärische Wellenfront SW ausgebildet wird, die sich hin
ter der Lochblende 3c ausbreitet. Ein Teil des Strahls SW mit
sphärischer Wellenfront wird durch die asphärische Testoberflä
che TS einer Probe 4 als Meßstrahl LM reflektiert, der auf den
Lochblendenspiegel 3 hinzukonvergiert. Der Meßstrahl LM wird
durch den Lochblendenspiegel 3 reflektiert und durch eine Linse
50 kollimiert. Die Wellenfront des Meßstrahls LM weist eine
Aberration auf, die dem Profil der asphärischen Testoberfläche
TS entspricht. Der kollimierte Meßstrahl LM fällt auf eine
optische Beugungskomponente 51 ein. Das resultierende durch das
Beugungselement hindurchtretende gebeugte Licht erster Ordnung
breitet sich durch eine Linse 52, durch eine durch einen zwei
ten Lochblendenspiegel 53 definierte Lochblende 53c und durch
eine Linse 6 hindurch bis zur lichtempfindlichen Oberfläche des
Detektors 7 (z. B. CCD) aus.
Währenddessen wird ein Teil des Strahls SW mit sphärischer Wel
lenfront durch eine Linse 50 kollimiert, so daß ein Referenz
strahl LR ausgebildet wird. Der Referenzstrahl LR fällt auf das
optische Beugungselement 51 auf. Als Referenzstrahl erzeugtes
Licht nullter Ordnung tritt durch die optische Beugungskompo
nente 51 hindurch und breitet sich durch die Linse 52, die
Lochblende 53c und die Linse 6 hindurch bis zur lichtempfind
lichen Oberfläche des Detektors 7 aus.
Die optische Beugungskomponente 51 weist vorzugsweise ein auf der
Seite des einfallenden Lichtes der Beugungskomponente 51
ausgebildetes Beugungsmuster auf und ist so konfiguriert, daß
erster Ordnung gebeugtes Licht des Meßstrahls LM (von einer
ideal asphärischen Testoberfläche) eine ebene Wellenfront auf
weist. Daher stimmen, immer wenn die asphärische Testoberfläche TS
ein ideal asphärisches Profil aufweist, die Wellenfronten
des gebeugten Lichts erster Ordnung des Meßstrahls LM und des
gebeugten Lichts nullter Ordnung des Referenzstrahls LR über
ein. D.h., diese Wellenfronten löschen sich gegenseitig aus,
was es erlaubt, daß die gesamte Testoberfläche TS auf einmal
vermessen wird. Sobald sie durch die Linse 52 hindurchgetreten
sind, werden das Licht erster Ordnung des Meßstrahls LM und das
Licht nullter Ordnung des Referenzstrahls LR jeweils in sphä
rische Wellenfronten konvertiert. Diese Wellenfronten treten
durch die Lochblende 53c hindurch. Der Lochblendenspiegel 53
schirmt gebeugtes Licht anderer Ordnungen ab.
Die Linse 6 dient auch zum Fokussieren eines Bildes der Test
oberfläche TS auf die lichtempfindliche Oberfläche des Detek
tors 7. Wie bei den vorangehenden Ausführungsformen besprochen
worden ist, weist die Linse 6 eine minimale Verzerrung auf, so
daß das Profil der Testoberfläche TS genau bestimmt werden
kann. Durch eine Korrektur der lateralen Koordinaten der Inter
ferenzstreifen entsprechend der tatsächlichen Verzerrung der
Testoberfläche mit idealen Nominalwerten kann eine genaue
Beziehung zwischen den Koordinaten auf der Testoberfläche TS
und den entsprechenden Koordinaten auf dem Detektor 7 erzielt
werden.
Während bei dieser Ausführungsform ein Lochblendenspiegel 3 zum
Erzeugen einer sphärischen Referenzwellenfront verwendet wird,
ist es alternativ möglich, daß eine optische Faser oder ein
optischer Wellenleiter zu einem solchen Zweck verwendet werden.
Durch Verwendung eines Nullelementes 51 kann, wie oben bespro
chen, das Profil der gesamten Testoberfläche TS auf einmal ver
messen werden. Zu diesem Zweck macht das Nullelement 51 die
Verteilung der Interferenz streifen über die lichtempfindliche
Oberfläche des Detektors hinweg effektiv lichter und entspre
chend durch den Detektor 7 einfacher aufzulösen.
Da bei jeder dieser repräsentativen Ausführungsformen eine
durch Beugung von Licht durch eine Lochblende hindurch erzeugte
sphärische Wellenfront als Referenzstrahl verwendet wird, ist
im Gegensatz zu einem konventionellen Fizeau-Interferometer
oder Twyman-Green-Interferometer keine Referenzoberfläche er
forderlich. Deshalb ist bei jeder der unterschiedlichen hier
offenbarten Ausführungsformen eine Vermessung von asphärischen
Testoberflächen mit erhöhter Genauigkeit und Präzision erziel
bar, ohne daß die Messung durch die Genauigkeit und Präzision
einer Referenzoberfläche beeinflußt ist.
Claims (34)
1. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer Testoberfläche
(TS) einer Probe (4), welche Vorrichtung aufweist:
- (a) einen Lichtdetektor (7), der so konfiguriert ist, daß er ein Ausgabesignal erzeugt, das Daten entsprechend einer In terferenzcharakteristik von durch den Detektor (7) empfangenem Licht kodiert;
- (b) eine punktförmige Lichtquelle, die so konfiguriert und bezüglich des Detektors (7) und in einem Abstand von der Probe (4) so angeordnet ist, daß aus eingespeistem Licht ein Licht strahl erzeugt wird, der sich als von einem Punkt auf der punktförmigen Lichtquelle ausgehende vorgeschriebene Wellen front (SW) divergent ausbreitet, wobei der Strahl einen auf die Testoberfläche (TS) gerichteten Meßstrahl-Anteil (LM), der von der Testoberfläche (TS) reflektiert werden soll, und einen Re ferenzstrahl-Anteil (LR) aufweist;
- (c) wobei die punktförmige Lichtquelle eine reflektive Oberfläche (3a) aufweist, die so ausgerichtet ist, daß sie den von der Testoberfläche (TS) reflektierten Meßstrahl-Anteil (LM) empfängt und bewirkt, daß der zu der punktförmigen Lichtquelle zurückkehrende Meßstrahl-Anteil von der reflektiven Oberfläche zum Detektor (7) hin reflektiert wird, wobei der von der Test oberfläche (TS) reflektierte Meßstrahl-Anteil (LM) und der Re ferenzstrahl-Anteil (LR) miteinander interferieren, so daß ein Interferenz streifen erzeugt wird, der dann von dem Detektor (7) empfangen wird, wobei der Interferenzstreifen eine Charakteri stik aufweist, die der Oberflächentopographie der Testoberflä che (TS) bezüglich der vorgeschriebenen Wellenfront (SW) ent spricht;
- (d) ein Stellglied, das so konfiguriert und angeordnet ist, daß es zumindest entweder die Probe (4) oder die punkt förmige Lichtquelle relativ zueinanderbewegt, so daß der Abstand zwischen der Testoberfläche (TS) und der punktförmigen Lichtquelle nach Bedarf verändert wird; und
- (e) einen Prozessor, der so angeordnet ist, daß er das Ausgabesignal vom Detektor (7) empfängt, und der so konfigu riert ist, daß er eine Vermessung der Oberflächentopographie aus den durch den Detektor (7) empfangenen Interferenzstreifen liefert.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die punktförmige Licht
quelle einen reflektiven Spiegel (3) aufweist, der eine
Lochblende (3c) definiert, wobei die vorgeschriebene Wellen
front (SW) durch Beugung des eingespeisten Lichtes bei seinem
Hindurchtreten durch die Lochblende (3c) hindurch erzeugt-wird.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei der reflektive Spiegel
(3) eine Ebene definiert, die senkrecht zu der Ausbreitungs
achse des auf die punktförmige Lichtquelle einfallenden
eingespeisten Lichtes steht-.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei der reflektive Spiegel
(3) eine Ebene definiert, die einen Winkel von weniger als 90°
bezüglich der Ausbreitungsachse des auf die punktförmige
Lichtquelle einfallenden eingespeisten Lichtes aufweist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die punktförmige Licht
quelle eine optische Faser (20) aufweist, die zum Leiten des
eingespeisten Lichts konfiguriert ist, wobei die optische Faser
(20) eine Endfläche (20f) aufweist, die als reflektive Ober
fläche (3a) der punktförmigen Lichtquelle und als der Punkt
dient, von dem aus sich die vorgeschriebene Wellenfront (SW)
aufgrund von Beugung des eingespeisten Lichts divergent aus
breitet.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die vorgeschriebene Wel
lenfront (SW) eine sphärische Wellenfront ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die punktförmige Licht
quelle so konfiguriert und ausgerichtet ist, daß der Meßstrahl
(LM) mit dem Referenzstrahl (LR) interferiert, wenn sich der
von der Testoberfläche (TS) reflektierte Meßstrahl (LM) von der
reflektiven Oberfläche (3a) der punktförmigen Lichtquelle aus
gehend ausbreitet.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die punktförmige Licht
quelle so konfiguriert und angeordnet ist, daß der Meßstrahl
(LM) mit dem Referenzstrahl (LR) interferiert, wenn der von der
reflektiven Oberfläche (3a) der punktförmigen Lichtquelle re
flektierte Meßstrahl (LM) zum Detektor (7) hin propagiert.
9. Vorrichtung nach Anspruch 1, die weiter aufweist:
eine Lichtquelle (1) die so konfiguriert ist, daß sie ein gespeistes Licht mit mehreren Lichtwellenlängen aufweist; und
einen Wellenlängenselektor, der so konfiguriert ist, daß er aus den mehreren Wellenlängen von eingespeistem Licht eine einzelne Wellenlänge zum Einspeisen in die punktförmige Licht quelle auswählt, wobei die punktförmige Lichtquelle so konfigu riert ist, daß sie aus der einzelnen Wellenlänge den Meßstrahl- Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) ausbildet.
eine Lichtquelle (1) die so konfiguriert ist, daß sie ein gespeistes Licht mit mehreren Lichtwellenlängen aufweist; und
einen Wellenlängenselektor, der so konfiguriert ist, daß er aus den mehreren Wellenlängen von eingespeistem Licht eine einzelne Wellenlänge zum Einspeisen in die punktförmige Licht quelle auswählt, wobei die punktförmige Lichtquelle so konfigu riert ist, daß sie aus der einzelnen Wellenlänge den Meßstrahl- Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) ausbildet.
10. Vorrichtung nach Anspruch 1, die weiter aufweist:
eine Lichtquelle (1) mit Mehrwellenlängenlicht erzeugenden Elementen, von denen ein jedes eine unterschiedliche Lichtwel lenlänge emittiert; und
einen Wellenlängenselektor, der so konfiguriert ist, daß er aus den mehreren Wellenlängen des eingespeisten Lichts eine einzelne Wellenlänge zum Einspeisen in die punktförmige Licht quelle auswählt, wobei die punktförmige Lichtquelle so konfigu riert ist, daß sie aus der einzelnen Wellenlänge den Meßstrahl- Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) erzeugt.
eine Lichtquelle (1) mit Mehrwellenlängenlicht erzeugenden Elementen, von denen ein jedes eine unterschiedliche Lichtwel lenlänge emittiert; und
einen Wellenlängenselektor, der so konfiguriert ist, daß er aus den mehreren Wellenlängen des eingespeisten Lichts eine einzelne Wellenlänge zum Einspeisen in die punktförmige Licht quelle auswählt, wobei die punktförmige Lichtquelle so konfigu riert ist, daß sie aus der einzelnen Wellenlänge den Meßstrahl- Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) erzeugt.
11. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Meßstrahl-Anteil
(LM) und der Referenzstrahl-Anteil (LR) sich durch ein Vakuum
hindurch ausbreiten.
12. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Meßstrahl-Anteil
(LM) und der Referenzstrahl-Anteil (LR) sich durch eine Inert
gas-Atmosphäre (40) hindurch ausbreiten.
13. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das inerte Gas Helium
ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 1, die weiter eine Eingangslicht
quelle (1) aufweist, die so konfiguriert und angeordnet ist,
daß sie das eingespeiste Licht erzeugt und das eingespeiste
Licht auf die punktförmige Lichtquelle leitet.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, wobei die Eingangslichtquelle
(1) eine zeitlich inkohärente Lichtquelle aufweist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, die weiter einen zwischen der
Eingangslichtquelle (1) und der punktförmigen Lichtquelle ange
ordneten Lichtwegregler aufweist, wobei der Lichtwegregler so
konfiguriert ist, daß er bewirkt, daß die Weglänge des Refe
renzstrahl-Anteils (LR) mit der Weglänge des Meßstrahl-Anteils
(LM) übereinstimmt, so daß ein Kontrastparameter des Interfe
renzstreifens geregelt wird.
17. Verfahren zum Vermessen eines Profils einer Testoberfläche
(TS) einer Probe (4), das aufweist:
- (a) Bereitstellen einer punktförmigen Lichtquelle mit einer reflektiven Oberfläche (3a) und Anordnen der punktförmi gen Lichtquelle, so daß sie eingespeistes Licht empfängt und aus dem eingespeisten Licht einen Meßstrahl-Anteil (LM) und einen Referenzstrahl-Anteil (LR) erzeugt, die sich als eine von einem Punkt ausgehende vorgeschriebene Wellenfront (SW) diver gent ausbreiten;
- (b) Beleuchten der Testoberfläche (TS) mit dem Meßstrahl- Anteil (LM), so daß bewirkt wird, daß der Meßstrahl-Anteil (LR) von der Testoberfläche (TS) reflektiert wird und dann von der reflektiven Oberfläche (3a) reflektiert wird;
- (c) bei einem ersten Abstand der Testoberfläche (TS) von der punktförmigen Lichtquelle Bewirken des Interferierens des von der Testoberfläche reflektierten Meßstrahl-Anteils (LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR), so daß ein erstes Muster von Interferenz streifen erzeugt wird;
- (d) Detektieren eines Musters, das für das erste Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist;
- (e) Ändern des ersten Abstandes der Testoberfläche (TS) von der punktförmigen Lichtquelle zu einem zweiten Abstand;
- (f) bei dem zweiten Abstand Bewirken eines Interferierens des von der Testoberfläche (TS) reflektierten Meßstrahl-Anteils (LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR), so daß ein zweites Muster von Interferenz streifen erzeugt wird;
- (g) Detektieren eines Musters, das für das zweite Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist;
- (h) Vergleichen des Musters, das für das zweite Muster von Interferenz streifen charakteristisch ist, mit dem Muster, das für das erste Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist, so daß eine Vermessung des topographischen Profils der Testoberfläche (TS) erzielt wird.
18. Verfahren nach Anspruch 17, wobei:
in Schritt (a) die reflektive Oberfläche (3a) der punkt förmigen Lichtquelle eine Lochblende (3c) definiert;
die vorgeschriebene Wellenfront (SW) des Meßstrahl-Anteils LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR) jeweils durch Beugung des eingespeisten Lichts bei seinem Hindurchtreten durch die Lochblende (3c) erzeugt wird.
in Schritt (a) die reflektive Oberfläche (3a) der punkt förmigen Lichtquelle eine Lochblende (3c) definiert;
die vorgeschriebene Wellenfront (SW) des Meßstrahl-Anteils LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR) jeweils durch Beugung des eingespeisten Lichts bei seinem Hindurchtreten durch die Lochblende (3c) erzeugt wird.
19. Verfahren nach Anspruch 17, wobei:
die in Schritt (a) vorgesehene punktförmige Lichtquelle eine optische Faser (20) aufweist, die zum Leiten des einge speisten Lichts konfiguriert ist, wobei die optische Faser (20) mit einer Endfläche (20f) abschließt, die die reflektive Ober fläche (3a) der punktförmigen Lichtquelle bildet;
die vorgeschriebene Wellenfront (SW) des Meßstrahl-Anteils (LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR) durch Beugung des ein gespeisten Lichts, wenn das eingespeiste Licht durch die opti sche Faser (20) geleitet wird und aus der Endfläche (20f) heraus austritt, erzeugt wird.
die in Schritt (a) vorgesehene punktförmige Lichtquelle eine optische Faser (20) aufweist, die zum Leiten des einge speisten Lichts konfiguriert ist, wobei die optische Faser (20) mit einer Endfläche (20f) abschließt, die die reflektive Ober fläche (3a) der punktförmigen Lichtquelle bildet;
die vorgeschriebene Wellenfront (SW) des Meßstrahl-Anteils (LM) und des Referenzstrahl-Anteils (LR) durch Beugung des ein gespeisten Lichts, wenn das eingespeiste Licht durch die opti sche Faser (20) geleitet wird und aus der Endfläche (20f) heraus austritt, erzeugt wird.
20. Verfahren nach Anspruch 17, wobei:
das eingespeiste Licht mehrere Wellenlängen aufweist; und
in Schritt (a) aus den mehreren Wellenlängen des einge speisten Lichts eine erste spezifische Wellenlänge ausgewählt wird, die von der punktförmigen Lichtquelle empfangen werden soll, wobei die punktförmige Lichtquelle aus der ersten spezi fischen Wellenlänge den Meßstrahl-Anteil (LM) und den Referenz strahl-Anteil (LR) erzeugt.
das eingespeiste Licht mehrere Wellenlängen aufweist; und
in Schritt (a) aus den mehreren Wellenlängen des einge speisten Lichts eine erste spezifische Wellenlänge ausgewählt wird, die von der punktförmigen Lichtquelle empfangen werden soll, wobei die punktförmige Lichtquelle aus der ersten spezi fischen Wellenlänge den Meßstrahl-Anteil (LM) und den Referenz strahl-Anteil (LR) erzeugt.
21. Verfahren nach Anspruch 20, wobei die Schritte (a) bis (h)
mit dem Meßstrahl-Anteil (LM) und dem Referenzstrahl-Anteil
(LR) mit der ersten spezifischen Wellenlänge durchgeführt
werden.
22. Verfahren nach Anspruch 21, das weiter, nach Schritt (h),
die Schritte aufweist:
Auswählen einer zweiten spezifischen Wellenlänge aus den mehreren Wellenlängen des eingespeisten Lichts, die von der punktförmigen Lichtquelle empfangen werden soll, wobei die punktförmige Lichtquelle aus der zweiten spezifischen Wellen länge den Meßstrahl-Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) erzeugt;
Durchführen der Schritte (b) bis (c) mit der zweiten spe zifischen Wellenlänge, so daß ein drittes Muster von Interfe renzstreifen erzeugt wird;
Detektieren eines Musters, das für das dritte Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist;
Durchführen der Schritte (e) bis (f) bei der zweiten spe zifischen Wellenlänge, so daß ein viertes Muster von Interfe renzstreifen erzeugt wird;
Detektieren eines Musters, das für das vierte Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist; und
Vergleichen der Muster, die für das erste, das zweite, das dritte und das vierte Muster von Interferenzstreifen charakte ristisch sind, so daß man eine Vermessung eines topographischen Profils einer Testoberfläche (TS) erzielt.
Auswählen einer zweiten spezifischen Wellenlänge aus den mehreren Wellenlängen des eingespeisten Lichts, die von der punktförmigen Lichtquelle empfangen werden soll, wobei die punktförmige Lichtquelle aus der zweiten spezifischen Wellen länge den Meßstrahl-Anteil (LM) und den Referenzstrahl-Anteil (LR) erzeugt;
Durchführen der Schritte (b) bis (c) mit der zweiten spe zifischen Wellenlänge, so daß ein drittes Muster von Interfe renzstreifen erzeugt wird;
Detektieren eines Musters, das für das dritte Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist;
Durchführen der Schritte (e) bis (f) bei der zweiten spe zifischen Wellenlänge, so daß ein viertes Muster von Interfe renzstreifen erzeugt wird;
Detektieren eines Musters, das für das vierte Muster von Interferenzstreifen charakteristisch ist; und
Vergleichen der Muster, die für das erste, das zweite, das dritte und das vierte Muster von Interferenzstreifen charakte ristisch sind, so daß man eine Vermessung eines topographischen Profils einer Testoberfläche (TS) erzielt.
23. Verfahren nach Anspruch 17, wobei jeder der Schritte (d)
und (g) das Lenken der interferierenden Meßstrahl- (LM) und
Referenzstrahl- (LR) Anteile auf die lichtempfindliche Ober
fläche eines Bilddetektors (7) aufweist.
24. Verfahren nach Anspruch 23, das weiter den Schritt des
Kollimierens der interferienden Meßstrahl- (LM) und Referenz
strahl- (LR) Anteile, wenn die Anteile auf die lichtempfind
liche Oberfläche des Bilddetektors (7) gelenkt werden, auf
weist.
25. Verfahren nach Anspruch 24, wobei die interferierenden Meß
strahl- (LM) und Referenzstrahl- (LR) Anteile dadurch kolli
miert werden, daß die Anteile durch eine Linse (6) hindurchtre
ten.
26. Verfahren nach Anspruch 17, wobei der Meßstrahl-Anteil (LM)
und der Referenzstrahl-Anteil (LR) durch Vakuum hindurch trans
mittiert werden.
27. Verfahren nach Anspruch 17, wobei der Meßstrahl-Anteil (LM)
und der Referenzstrahl-Anteil (LR) durch eine Inertgasatmosphä
re (40) hindurch transmittiert werden.
28. Verfahren nach Anspruch 17, wobei
das eingespeiste Licht mehrere modulierte Wellenlängen aufweist;
Schritt (d) das Bestimmen einer Differenz der Länge des durch den Meßstrahl-Anteil (LM) zurückgelegten Lichtweges ge genüber der Länge des von dem Referenzstrahl-Anteil (LR) zu rückgelegten Lichtweges aufweist, wobei die Differenz durch ein Messen der quantitativen Phasenmodulation der Interferenzstrei fen, die man durch eine entsprechende Modulation der Wellen länge des eingespeisten Lichtes erreicht, bestimmt wird; und
Schritt (h) das Bestimmen einer Abstandsdifferenz von der punktförmigen Lichtquelle und der Testoberfläche (TS) aus der Differenz der jeweiligen Lichtweglängen aufweist.
das eingespeiste Licht mehrere modulierte Wellenlängen aufweist;
Schritt (d) das Bestimmen einer Differenz der Länge des durch den Meßstrahl-Anteil (LM) zurückgelegten Lichtweges ge genüber der Länge des von dem Referenzstrahl-Anteil (LR) zu rückgelegten Lichtweges aufweist, wobei die Differenz durch ein Messen der quantitativen Phasenmodulation der Interferenzstrei fen, die man durch eine entsprechende Modulation der Wellen länge des eingespeisten Lichtes erreicht, bestimmt wird; und
Schritt (h) das Bestimmen einer Abstandsdifferenz von der punktförmigen Lichtquelle und der Testoberfläche (TS) aus der Differenz der jeweiligen Lichtweglängen aufweist.
29. Verfahren nach Anspruch 17, wobei das eingespeiste Licht
zeitlich inkohärentes Licht aufweist, wobei das Verfahren wei
ter die Schritte aufweist:
Bereitstellen einer Eingangslichtquelle (1) zum Erzeugen des an die punktförmige Lichtquelle gelieferten eingespeisten Lichts;
Entfernen der Probe (4) aus einer Meßposition und Einstel len einer Lichtwegentfernung von der Eingangslichtquelle (1) zur punktförmigen Lichtquelle, bis Interferenz streifen mit maximalem Kontrast detektiert werden;
Anordnen der Probe (4) in der Meßposition und Einstellen der Lichtwegentfernung von der Eingangslichtquelle zur punkt förmigen Lichtquelle, bis Interferenz streifen mit maximalem Kontrast detektiert werden; und
Bestimmen einer Differenz der Lichtwegentfernungen von der Eingangslichtquelle (1) zur punktförmigen Lichtquelle, wenn die Probe (4) in der Meßposition angeordnet ist gegenüber wenn die Probe (4) nicht in der Meßposition angeordnet ist, wobei die Differenz ein Maß für die Entfernung von der punktförmigen Lichtquelle zur Testoberfläche (TS) liefert.
Bereitstellen einer Eingangslichtquelle (1) zum Erzeugen des an die punktförmige Lichtquelle gelieferten eingespeisten Lichts;
Entfernen der Probe (4) aus einer Meßposition und Einstel len einer Lichtwegentfernung von der Eingangslichtquelle (1) zur punktförmigen Lichtquelle, bis Interferenz streifen mit maximalem Kontrast detektiert werden;
Anordnen der Probe (4) in der Meßposition und Einstellen der Lichtwegentfernung von der Eingangslichtquelle zur punkt förmigen Lichtquelle, bis Interferenz streifen mit maximalem Kontrast detektiert werden; und
Bestimmen einer Differenz der Lichtwegentfernungen von der Eingangslichtquelle (1) zur punktförmigen Lichtquelle, wenn die Probe (4) in der Meßposition angeordnet ist gegenüber wenn die Probe (4) nicht in der Meßposition angeordnet ist, wobei die Differenz ein Maß für die Entfernung von der punktförmigen Lichtquelle zur Testoberfläche (TS) liefert.
30. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer asphärischen
Testoberfläche (TS) einer Probe (4), welche Vorrichtung auf
weist:
- (a) einen Lichtdetektor (7), der zum Erzeugen eines Aus gabesignals konfiguriert ist, das Daten entsprechend einer Interferenzcharakteristik von durch einen Detektor (7) empfan genem Licht kodiert;
- (b) eine punktförmige Lichtquelle, die so konfiguriert und bezüglich des Detektors (7) und der Probe (4) so angeordnet ist, daß sie aus eingespeistem Licht einen Lichtstrahl erzeugt, dessen Licht sich als eine von einem Punkt auf der punktförmi gen Lichtquelle aus ausgehende vorgeschriebene sphärische Wel lenfront (SW) divergent ausbreitet, wobei der Strahl einen Meß strahl-Anteil (LM), der so auf die Testoberfläche (TS) gerich tet wird, daß er von der Testoberfläche (TS) reflektiert wird, und einen Referenzstrahl-Anteil (LR) aufweist;
- (c) wobei die punktförmige Lichtquelle eine reflektive Oberfläche (3a) aufweist, die so ausgerichtet ist, daß sie den von der Testoberfläche (TS) reflektierten Meßstrahl-Anteil (LM) empfängt und bewirkt, daß der zu der punktförmigen Lichtquelle zurückkehrende Meßstrahl-Anteil (LM) von der reflektiven Ober fläche (3a) zum Detektor (7) hin reflektiert wird, wobei der von der Testoberfläche (TS) reflektierte Meßstrahl-Anteil (LM) und der Referenzstrahl-Anteil (LR) miteinander interferieren, so daß sie einen Interferenzstreifen erzeugen, der dann von dem Detektor (7) empfangen wird, wobei der Interferenzstreifen eine Charakteristik aufweist, die einer Oberflächentopographie der Testoberfläche (TS) bezüglich der vorgeschriebenen Wellenfront (SW) entspricht;
- (d) einen Prozessor (8), der so angeordnet ist, daß er das Ausgangssignal des Detektors (7) empfängt, und der so konfigu riert ist, daß er eine Vermessung der Oberflächentopographie aus dem durch den Detektor (7) empfangenen Interferenzstreifen ermittelt; und
- (e) eine zwischen der punktförmigen Lichtquelle und der Testoberfläche (TS) angeordnete optische Komponente (14), wobei die optische Komponente (14) so konfiguriert ist, daß sie die sphärische Wellenfront (SW) des Meßlichtes, das sich von dem Punkt zur Testoberfläche (TS) hin ausbreitet, in eine gewünsch te asphärische Wellenfront konvertiert.
31. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer asphärischen
Testoberfläche (TS) einer Probe (4), welche Vorrichtung auf
weist:
- (a) eine punktförmige Lichtquelle, die so konfiguriert und bezüglich der Probe (4) so angeordnet ist, daß sie aus einge speistem Licht einen Meßstrahl (LM) mit Licht erzeugt, das sich als eine von einem Punkt auf der punktförmigen Lichtquelle aus gehende vorgeschriebene sphärische Wellenfront (SW) zur Test oberfläche (TS) ausbreitet, so daß es von der Testoberfläche (TS) reflektiert wird;
- (b) einen Strahlteiler (30), der so angeordnet ist, daß er das von der Testoberfläche (TS) reflektierte Licht des Meß strahls empfängt, wobei der Strahlteiler (30) so konfiguriert ist, daß er den reflektierten Meßstrahl in einen ersten und einen zweiten Meßstrahl-Anteil aufspaltet, von denen jeder entlang eines jeweiligen Weges propagiert;
- (c) eine im Weg des ersten Meßstrahl-Anteils angeordnete lichtbeugende Komponente, wobei die lichtbeugende Komponente so konfiguriert ist, daß sie das Licht des ersten Meßstrahl-An teils in mehrere Ordnungen gebeugten Lichts beugt, und so ange ordnet ist, daß sie bewirkt, daß das gebeugte Licht mit Licht des zweiten Meßstrahl-Anteils interferiert und Interferenz streifen erzeugt;
- (d) einen Detektor (7), der so konfiguriert und angeordnet ist, daß er die Interferenzstreifen detektiert;
- (e) eine zwischen der Testoberfläche (TS) und dem Strahl teiler (30) angeordnete optische Komponente, die so konfigu riert ist, daß sie die asphärische Wellenfront des von der Testoberfläche (TS) reflektierten Meßstrahls in eine gewünschte sphärische Wellenfront konvertiert.
32. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer asphärischen
Testoberfläche einer Probe, welches Verfahren aufweist:
- (a) eine punktförmige Lichtquelle, die so konfiguriert und bezüglich der Probe (4) angeordnet ist, daß sie aus eingespei stem Licht einen Meßstrahl (LM) mit Licht erzeugt, das sich als eine von einem Punkt-auf der punktförmigen Lichtquelle ausge hende vorgeschriebene sphärische Wellenfront (SW) zur Testober fläche (TS) ausbreitet, so daß es von der Testoberfläche (TS) reflektiert wird;
- (b) einen Strahlteiler (30), der so angeordnet ist, daß er das von der Testoberfläche (TS) reflektierte Licht des Meß strahls (LM) empfängt, wobei der Strahlteiler (30) so konfigu riert ist, daß er den reflektierten Meßstrahl (LM) in einen ersten und einen zweiten Meßstrahl-Anteil aufspaltet, von denen ein jeder entlang eines jeweiligen Weges propagiert;
- (c) eine im Weg des ersten Meßstrahl-Anteils angeordnete lichtbeugende Komponente, wobei die lichtbeugende Komponente so konfiguriert ist, daß sie das Licht des ersten Meßstrahl-An teils in mehrere Ordnungen von gebeugtem Licht beugt, und so angeordnet ist, daß sie bewirkt, daß das gebeugte Licht mit Licht des zweiten Meßstrahl-Anteils interferiert und Inter ferenzstreifen erzeugt;
- (d) einen Detektor (7), der so konfiguriert und angeordnet ist, daß er die Interferenzstreifen detektiert;
- (e) eine zwischen der punktförmigen Lichtquelle und der Testoberfläche (TS) angeordnete optische Komponente (14), die so konfiguriert ist, daß sie die sphärische Wellenfront des Meßstrahls (LM) von der punktförmigen Lichtquelle in eine ge wünschte asphärische Wellenfront konvertiert.
33. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer asphärischen
Testoberfläche (TS) einer Probe, wobei die Vorrichtung eine
punktförmige Lichtquelle aufweist, die aus eingespeistem Licht
einen Referenzstrahl (LR) und einen von einem Punkt auf der
Lichtquelle ausgehenden Meßstrahl (LM) erzeugt, wobei der Refe
renzstrahl (LR) eine vorgeschriebene Wellenfront hat und der
Meßstrahl (LM) so gelenkt wird, daß er derart auf die Testober
fläche (TS) einfällt, daß das von der Testoberfläche (TS) re
flektierte Licht des Meßstrahls (LM) mit dem Referenzstrahl
(LR) interferiert, so daß Interferenzstreifen erzeugt werden;
einen Detektor (7), der so angeordnet ist, daß er die Inter
ferenzstreifen empfängt; und einen mit dem Detektor (7) ver
bundenen Prozessor (8), der so konfiguriert ist, daß er die
Interferenz streifen analysiert und aus solchen Analysen einen
Zustand von Interferenzstreifen berechnet; eine Verbesserung,
dahingehend, daß die Vorrichtung weiter aufweist:
- (a) eine im Lichtweg zwischen einer Quelle des eingespeis ten Lichts und der Testoberfläche (TS) angeordnete reflektive Oberfläche (3a), wobei die reflektive Oberfläche (3a) so konfi guriert ist, daß sie die punktförmige Lichtquelle definiert;
- (b) eine in einem Lichtweg, der nicht der Lichtweg ist, der sich von der Testoberfläche (TS) zur reflektiven Oberfläche (3a) erstreckt, angeordnete optische Komponente (11), wobei die optische Komponente (11) so konfiguriert ist, daß sie die sich von der Testoberfläche (TS) ausbreitende Wellenfront von einer asphärischen Wellenfront in eine sphärische Wellenfront konver tiert;
- (c) wobei der Meßstrahl (LM) von der punktförmigen Licht quelle emittiert wird, von der Testoberfläche (TS) reflektiert wird, von der reflektiven Oberfläche (3a) reflektiert wird und zum Hindurchtreten durch die optische Komponente (11) gebracht wird.
34. Vorrichtung zum Vermessen eines Profils einer asphärischen
Testoberfläche (TS) einer Probe (4), wobei die Vorrichtung eine
Lichtquelle aufweist, die einen Referenzstrahl (LR) und einen
Meßstrahl (LM) erzeugt, wobei der Referenzstrahl (LR) eine vor
geschriebene Wellenfront hat und der Meßstrahl (LM) so gelenkt
wird, daß er auf die Testoberfläche (TS) einfällt, wobei das
von der Testoberfläche (TS) reflektierte Licht des Meßstrahls
(LM) mit dem Referenzstrahl (LR) interferiert, so daß Interfe
renzstreifen erzeugt werden; einen Detektor (7), der so ange
ordnet ist, daß er die Interferenzstreifen empfängt; und einen
mit dem Detektor (7) verbundenen Prozessor (8), der so konfigu
riert ist, daß er die Interferenzstreifen analysiert und aus
solchen Analysen den Zustand der Interferenzstreifen berechnet;
eine Verbesserung dahingehend, daß die Vorrichtung weiter auf
weist:
- (a) eine im Lichtweg zwischen der Lichtquelle und der Testoberfläche (TS) angeordnete reflektive Oberfläche (3a);
- (b) eine im sich von der Testoberfläche (TS) zur reflek tiven Oberfläche (3a) erstreckenden Lichtweg angeordnete opti sche Komponente (14), wobei die optische Komponente so konfigu riert ist, daß sie die von der Testoberfläche (TS) propagieren de Wellenfront von einer sphärischen Wellenfront zu einer asphärischen Wellenfront konvertiert;
- (c) eine in einem Lichtweg, der nicht der sich von der Testoberfläche zur reflektiven Oberfläche (3a) erstreckenden Lichtweg ist, angeordnete lichtbeugende Komponente (11), wobei die lichtbeugende Komponente (11) eine punktförmige Lichtquelle definiert und so konfiguriert ist, daß sie aus in die punktför mige Lichtquelle eintretendem Licht gebeugtes Licht erzeugt, das sich von der punktförmigen Lichtquelle ausgehend ausbrei tet;
- (d) wobei der Meßstrahl (LM) von der punktförmigen Licht quelle emittiert wird, ein erstes Mal durch die optische Kompo nente (11) hindurchtritt, von der Testoberfläche (TS) reflek tiert wird, ein zweites Mal durch die optische Komponente (11) hindurchtritt und von der reflektiven Oberfläche (3a) zum De tektor reflektiert wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10260698A JP2000088546A (ja) | 1998-09-14 | 1998-09-14 | 形状測定装置および測定方法 |
JP10266117A JP2000097650A (ja) | 1998-09-21 | 1998-09-21 | 非球面形状測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19944021A1 true DE19944021A1 (de) | 2000-05-04 |
Family
ID=26544713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944021A Withdrawn DE19944021A1 (de) | 1998-09-14 | 1999-09-14 | Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6344898B1 (de) |
DE (1) | DE19944021A1 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10065127A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-08-29 | Alexander Grossmann | Fizeau-Interferometer für die Phasenschiebungsinterferometrie in einem abgeschlossenen Behälter |
EP1436570A1 (de) * | 2001-10-16 | 2004-07-14 | Zygo Corporation | Messung komplexer oberflächenformen unter verwendung einer sphärischen wellenfront |
US6972850B2 (en) | 2002-03-06 | 2005-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for measuring the shape of an optical surface using an interferometer |
US7061626B1 (en) | 2004-05-14 | 2006-06-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing an optical element using a hologram |
DE10192962B4 (de) * | 2000-07-20 | 2012-09-27 | Mycrona Gesellschaft für innovative Messtechnik mbH | Verfahren zur optischen Vermessung einer Oberfläche eines Objektes |
WO2012171935A3 (de) * | 2011-06-15 | 2013-02-28 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur optischen dreidimensionalen vermessung eines dentalen objekts |
WO2020164786A1 (de) * | 2019-02-12 | 2020-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines testobjekts |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6771375B2 (en) * | 2001-06-20 | 2004-08-03 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring aspherical optical surfaces and wavefronts |
US7023562B2 (en) * | 2001-09-10 | 2006-04-04 | Zygo Corporation | Characterization of period variations in diffraction gratings |
TW582062B (en) * | 2001-09-14 | 2004-04-01 | Sony Corp | Laser irradiation apparatus and method of treating semiconductor thin film |
JP4782958B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2011-09-28 | 株式会社リコー | 表面形状測定装置及びその方法、プログラム並びに記憶媒体 |
US7187449B2 (en) * | 2002-04-26 | 2007-03-06 | Sony Precision Technology Inc. | Light-receiving/emitting composite unit, method for manufacturing the same, and displacement detection device |
US7218403B2 (en) * | 2002-06-26 | 2007-05-15 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
JP2004061515A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Cark Zeiss Smt Ag | 光学系による偏光状態への影響を決定する方法及び装置と、分析装置 |
US20040027583A1 (en) * | 2002-08-09 | 2004-02-12 | Lev Dulman | Pre-established reference scale for interferometric topological metrology |
US7136168B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-11-14 | Angstrovision, Inc. | Interferometric topological metrology with pre-established reference scale |
US6999181B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-02-14 | Angstrovision, Inc. | Advanced signal processing technique for translating fringe line disturbances into sample height at a particular position above an interferometer's sample stage |
US6876456B2 (en) * | 2002-09-27 | 2005-04-05 | The Regents Of The University Of California | Absolute calibration of optical flats |
US7289223B2 (en) * | 2003-01-31 | 2007-10-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Method and apparatus for spatially resolved polarimetry |
WO2005003862A1 (de) * | 2003-07-05 | 2005-01-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur polarisationsspezifischen untersuchung eines optischen systems |
GB2404014B (en) * | 2003-07-18 | 2006-06-28 | Taylor Hobson Ltd | Surface profiling method and apparatus |
WO2005031466A1 (en) * | 2003-09-26 | 2005-04-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of determining optical properties and projection exposure system comprising a wave front detection system |
GB0402941D0 (en) * | 2004-02-11 | 2004-03-17 | Qinetiq Ltd | Surface shape measurement |
TW200606391A (en) * | 2004-05-10 | 2006-02-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | Device and method for optical precision measurement |
JP4630611B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
DE102004058044B4 (de) * | 2004-12-01 | 2014-02-06 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Ortsfrequenzfiltervorrichtung und Verfahren zur Ortsfrequenzfilterung von Laserstrahlen |
DE102005056914A1 (de) * | 2005-11-29 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsystem |
DE102006055070B4 (de) * | 2006-11-22 | 2008-07-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts |
FR2915281B1 (fr) * | 2007-04-20 | 2010-05-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede de determination d'une perturbation d'une onde optique |
JP2010060366A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Canon Inc | 計測方法、光学素子の製造方法、基準原器及び計測装置 |
IL197417A (en) | 2009-03-05 | 2014-01-30 | Elbit Sys Electro Optics Elop | Imaging device and method for correcting longitudinal and transverse chromatic aberrations |
DE102010064442A1 (de) | 2010-07-30 | 2015-04-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
DE102010038697B4 (de) * | 2010-07-30 | 2012-07-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Qualifizierung einer Optik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
US8526008B2 (en) * | 2010-12-17 | 2013-09-03 | Corning Incorporated | Interferometer with paraboloidal illumination and imaging optic and tilted imaging plane |
US8692999B1 (en) | 2011-06-23 | 2014-04-08 | Exelis, Inc. | Crosstalk cancellation for a simultaneous phase shifting interferometer |
JP5932306B2 (ja) * | 2011-11-16 | 2016-06-08 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
JP5894464B2 (ja) * | 2012-03-01 | 2016-03-30 | キヤノン株式会社 | 計測装置 |
CN104034279B (zh) | 2014-06-14 | 2016-09-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种利用小孔衍射波面拼接测量面形的检测装置及方法 |
CN105277338B (zh) * | 2014-07-04 | 2018-10-26 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 大数值孔径移相式双针孔衍射干涉仪及其测试方法 |
DE102015209490A1 (de) * | 2015-05-22 | 2016-11-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messanordnung |
CN109406107B (zh) * | 2018-10-19 | 2020-02-14 | 中国兵器工业标准化研究所 | 红外光学材料均匀性测试的试样面形误差的控制方法 |
CN110455828A (zh) * | 2019-09-02 | 2019-11-15 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种大尺寸tft基板玻璃无损微波纹度检测方法 |
DE102021202820B3 (de) | 2021-03-23 | 2022-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrisches Messverfahren und interferometrische Messanordnung |
CN113465540B (zh) * | 2021-07-07 | 2022-10-25 | 西安交通大学 | 一种针孔点衍射干涉测量系统用孔板相移解相位方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4594003A (en) * | 1983-07-20 | 1986-06-10 | Zygo Corporation | Interferometric wavefront measurement |
DE3836564A1 (de) * | 1988-10-27 | 1990-05-03 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zur pruefung von optischen elementen |
JP2679221B2 (ja) | 1989-03-02 | 1997-11-19 | 株式会社ニコン | 干渉計 |
US5548403A (en) * | 1994-11-28 | 1996-08-20 | The Regents Of The University Of California | Phase shifting diffraction interferometer |
US5835217A (en) | 1997-02-28 | 1998-11-10 | The Regents Of The University Of California | Phase-shifting point diffraction interferometer |
-
1999
- 1999-09-14 DE DE19944021A patent/DE19944021A1/de not_active Withdrawn
- 1999-09-14 US US09/396,491 patent/US6344898B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10192962B4 (de) * | 2000-07-20 | 2012-09-27 | Mycrona Gesellschaft für innovative Messtechnik mbH | Verfahren zur optischen Vermessung einer Oberfläche eines Objektes |
DE10065127A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-08-29 | Alexander Grossmann | Fizeau-Interferometer für die Phasenschiebungsinterferometrie in einem abgeschlossenen Behälter |
EP1436570A1 (de) * | 2001-10-16 | 2004-07-14 | Zygo Corporation | Messung komplexer oberflächenformen unter verwendung einer sphärischen wellenfront |
EP1436570B1 (de) * | 2001-10-16 | 2010-06-23 | Zygo Corporation | Messung komplexer oberflächenformen unter verwendung einer sphärischen wellenfront |
US6972850B2 (en) | 2002-03-06 | 2005-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for measuring the shape of an optical surface using an interferometer |
DE10309586B4 (de) * | 2002-03-06 | 2007-02-22 | Canon K.K. | Form-Messverfahren und -vorrichtung unter Verwendung eines Interferometers |
US7061626B1 (en) | 2004-05-14 | 2006-06-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing an optical element using a hologram |
WO2012171935A3 (de) * | 2011-06-15 | 2013-02-28 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur optischen dreidimensionalen vermessung eines dentalen objekts |
US9980651B2 (en) | 2011-06-15 | 2018-05-29 | Sirona Dental Systems Gmbh | Method for the optical three-dimensional measurement of a dental object |
WO2020164786A1 (de) * | 2019-02-12 | 2020-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines testobjekts |
US11879720B2 (en) | 2019-02-12 | 2024-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Device and method for characterizing the surface shape of a test object |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6344898B1 (en) | 2002-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19944021A1 (de) | Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche | |
DE19782060B4 (de) | Interferometer mit katadioptrischem Abbildungssystem mit erweitertem numerischem Aperturbereich | |
EP0370229B1 (de) | Interferometrisches Verfahren zur Prüfung von asphärische Wellenfronten erzeugenden optischen Elementen | |
DE102005047162B4 (de) | Interferometersysteme zur Messung von Verlagerungen und diese Systeme benutzende Belichtungssysteme | |
DE102017128158A9 (de) | Abstandsmessungsvorrichtung und Verfahren zur Messung von Abständen | |
DE60015239T2 (de) | Wellenlängenüberwachung für Laser | |
WO2001063233A2 (de) | Vorrichtung zur wellenfronterfassung | |
CH693968A5 (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer die Topographiepruefung von Oberflaechen. | |
EP3100011B9 (de) | Strahlpropagationskamera und verfahren zur lichtstrahlanalyse | |
DE102012209412A1 (de) | Optisches Verfahren und optische Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels für EUV-Anwendungen | |
DE102008030664A1 (de) | Optische Abbildungseinrichtung mit Bestimmung von Abbildungsfehlern | |
JPH11264714A (ja) | 被測定面を測定するための幾何学的に低感度の干渉計及びその干渉深さの調節方法 | |
DE102010062720B4 (de) | EUV-Lithographiesystem | |
DE19950778A1 (de) | Geometrisch-Entsensibilisiertes Interferometer, das einen optischen Aufbau mit hoher Streustrahlmanagementfähigkeit enthält | |
DE19911671A1 (de) | Schmalbandmodul-Prüfvorrichtung | |
DE19681500C2 (de) | Interferometer mit Compound-Optik und Messverfahren mit diesem | |
DE102020216337A1 (de) | Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Probe im extremen ultravioletten Spektralbereich | |
DE102006057606B4 (de) | Verfahren und Messvorrichtung zur Vermessung einer optisch glatten Oberfläche | |
DE2758149C2 (de) | Interferometrisches Verfahren mit λ /4-Auflösung zur Abstands-, Dicken- und/oder Ebenheitsmessung | |
DE102006055070B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts | |
DE19520305C2 (de) | Verfahren und Meßvorrichtung zur interferometrischen Abstandsmessung | |
DE102010006749A1 (de) | Messgerät zum Messen zumindest einer Positionsänderung und/oder zumindest einer Winkeländerung und ein Verfahren zum dynamischen Messen zumindest einer Positionsänderung und/oder einer Winkeländerung | |
DE10304822A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Polarisationszustandsbeeinflussung durch ein optisches System und Analysator | |
DE10325601B3 (de) | Schaltbares Punktlichtquellen-Array und dessen Verwendung in der Interferometrie | |
DE4413758A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung für die Topographieprüfung von Oberflächen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |