JP2004307851A - 光学シート - Google Patents

Abstract

【課題】 十分な平滑性を有し、線膨張係数が小さく、透明性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子用の光学シートなどとしてガラスに代替可能な透明複合体組成物を提供する。
【解決手段】 透明樹脂(ａ)及びガラス繊維布(ｂ)からなるシート（Ａ）上の少なくとも片面に、１層以上の有機コート層（ｃ）を積層し、少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シート。シート（Ａ）の少なくとも片面に、１層以上の厚み１〜３０μｍ有機コート層（ｃ）を積層するのが望ましい。

Description

本発明は線膨張係数が小さく、表面平滑性、透明性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、ガラスに代替可能な光学シートに関する。この光学シートは、例えば、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好ましい。

一般に、アクティブマトリックスタイプなどの液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子用の表示素子基板、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等には、ガラス板が広く用いられている。しかしながら、ガラス板は割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きであるなどの理由から、近年、その代替えとして種々のプラスチック素材が検討されている。

例えば、特許文献１には、非晶質の熱可塑性樹脂及び活性エネルギー線硬化の可能なビス(メタ)アクリレートからなる樹脂組成物に対し、活性エネルギー線を用いて硬化を行った部材が液晶基板などとして、ガラス基板に代えて用い得ると記載されている。また、特許文献２には、脂環式構造、芳香族等の特定のビス(メタ)アクリレートを含む組成物を活性エネルギー線等により硬化成形した透明基板を用いた液晶表示素子が記載されている。
また、特許文献３や特許文献４には、エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤及び硬化触媒を含むエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化体からなる液晶表示素子用透明樹脂基板が記載されている。

しかしながら、これら従来のガラス代替用のプラスチック材料は、いずれもガラス板に比べ線膨張係数が大きく、表示素子用基板、特にアクティブマトリックス表示素子基板に用いると、製造工程において反りやアルミ配線の断線などの不具合を生じる可能性があり、これらの用途への使用は困難である。このように、表示素子基板、特にアクティブマトリックス表示素子用基板に要求される、透明性、耐溶剤性、耐熱性等を満足しつつ、線膨張係数の小さなプラスチック素材が求められている。

線膨張係数を低減するためには、樹脂にガラスパウダーやガラスクロスなどの無機フィラーを配合する材料の複合化も種々行われている。例えば、特許文献５には、エポキシ樹脂及びガラス繊維製布状体を含む樹脂シートが示されている。しかしながら、特にガラスクロスを用いた場合、線膨張係数の低減効果は大きいが、樹脂とガラスとの線膨張係数の差、樹脂の硬化収縮等により、成形後のシート表面にはガラスクロス由来の凹凸が生じ、表面平滑性が求められる光学シートにおいては改善が必要とされていた。

特開平１０−７７３２１号公報 特開平１０−９０６６７号公報 特開平６−３３７４０８号公報 特開平７−２１０７４０号公報 特開２００４−５１９６０号公報

本発明の目的は十分な平滑性を有し、線膨張係数が小さく、透明性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、ガラスに代替可能な光学シートを提供することにある。本発明の光学シートは、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラ
ーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などの用途に適する。

本発明者らは、かかる課題を解決すべく鋭意検討した。その結果、透明樹脂(ａ)とガラス繊維(ｂ)からなるシート（Ａ）に有機コート層（ｃ）を積層し、ガラス繊維由来の凹凸を低減し、少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シートは、低線膨張係数であって、表面平滑性にも優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などの用途に好適に用いられることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の透明複合体組成物は、十分な平滑性を有し、低線膨張係数で透明性、耐熱性、耐溶剤性等に優れるため、例えば、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル等に好適に利用でき、特にアクティブマトリックスタイプの液晶表示素子基板や有機ＥＬ素子基板用の光学シートとして好ましい。

以下に、本発明をさらに具体的に説明する。
本発明の光学シートの少なくとも片面は、表面凹凸が１５０ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、最も好ましくは３０ｎｍ以下である。特に液晶用途に用いる場合は、セル内面の平滑性は１００ｎｍ以下、更にＳＴＮ液晶に用いる場合は３０ｎｍ以下であることが好ましい。表面凹凸が１５０ｎｍ以上である場合、セルギャップが不均一になり、表示ムラの原因となる恐れがある。
有機コート層（ｃ）の厚みはシート片面につき、１μｍ〜３０μｍ、好ましくは２μｍ〜１５μｍである。厚みが１μｍ以下の場合、シートの凹凸以下となり、有機コート層（ｃ）による埋め込みが十分に行なわれない。３０μｍ以上の場合、硬化後の反り、クラックが生じるため好ましくない。

前記のように、透明樹脂（ａ）とガラスクロス（ｂ）より作成されたシート（Ａ）は、ガラスクロスと樹脂の硬化収縮率や線膨張係数の差により表面に凹凸が発生しやすい。多くの場合、表面凹凸が１５０ｎｍを超えるため、有機コート層（ｃ）を積層することにより表面凹凸を埋めることが好ましい。
有機コート層（ｃ）の厚みはシート片面につき、１μｍ〜３０μｍ、好ましくは２μｍ〜１５μｍである。厚みが１μｍ以下の場合、有機コート層（ｃ）による埋め込みが十分に行なわれない。３０μｍ以上の場合、硬化後の反り、クラックが生じるため好ましくない

有機コート層（ｃ）に用いる樹脂のガラス転移温度は、好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２００℃以上である。樹脂のガラス転移温度がこれより低いと、特に、アクティブマトリックス型の表示素子基板に用いた場合、ＴＦＴ素子形成工程で有機コート層（ｃ）が変形し、表面凹凸が増大する場合がある。

このような有機コート層(ｃ)に用いる樹脂の例としては、アクリレート、エポキシなどの反応性モノマーを活性エネルギー線および／または熱で架橋させた樹脂などが挙げられる。これらのうち、耐熱性、透明性、耐溶剤性、耐擦傷性に優れていることから２官能以上のアクリレートを構成成分として含む架橋樹脂、または２官能以上のエポキシ樹脂を構成成分として含む硬化樹脂が好ましい。
２官能以上のアクリレートとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソシアヌレート構造を有するアクリレート、環状エーテル
構造を有するアクリレート、脂環式構造を有するアクリレートなどが挙げられるが、イソシアヌルレートを有するアクリレート、環状エーテルを有する構造アクリレート、脂環式構造を有するアクリレートは耐熱性、透明性に優れるためより好ましい。さらにイソシアヌレート構造を有するアクリレートとしては、下式（１）のアクリレート、環状エーテル構造を有するアクリレートとしては下式（２）のアクリレートがより耐熱性に優れるため、更に好ましい。

２官能以上のエポキシ樹脂としては、トリグリシジルイソシアヌレートや脂環式構造を有するエポキシから選ばれた１種以上を構成成分として含む硬化樹脂がより好ましい。中でも下記化学式（３）〜（５）で示される脂環式エポキシ樹脂から選ばれた１種以上が更に好ましい。

一般に、優れた耐熱性を得るためには、芳香族等の共役二重結合を有する環を持つアクリレート樹脂、エポキシ樹脂が用いられるが、可視光のうち短波長側（４００ｎｍ前後）の光線透過率が落ち、黄色味がかった色目になりやすく、光学フィルムとしては好ましくない。上記アクリレート樹脂、エポキシ樹脂は共役二重結合を持たない環状構造を有するため耐熱性に優れ、かつ可視光全範囲での光線透過率の変化が少なく、着色が殆ど見られないため、好適に使用出来る。

本発明の有機コート層（ｃ）には、必要に応じ、透明性、耐溶剤性、耐熱性等の特性を損なわない範囲で、熱可塑性又は熱硬化性のオリゴマーやポリマーを併用してよい。この場合、吸水率を低減させるなどの目的で、脂環式構造やカルド骨格を有するオリゴマーやポリマーを使用することが好ましい。

有機コート層（ｃ）に用いるアクリレート樹脂またはエポキシ樹脂を架橋させるには、活性エネルギー線により硬化させる方法、熱をかけて熱重合させる方法等があり、これらを併用してもよい。アクリレート樹脂を用いる場合には、活性エネルギー線により硬化させる方法が好ましい。また、反応の完結、シートに対する密着性を向上させる等の目的で、活性エネルギー線による硬化及び／又は熱をかけて熱重合させる工程の後に、さらに高温での熱処理を併用することが好ましい。特に反応が完結していない場合、表示素子製造工程におけるの加熱工程中に反応が進み、表面凹凸が増大する場合がある。使用する活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、メタルハライドタイプ、高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。活性エネルギー線による硬化及び／又は熱重合による架橋後に高温で熱処理する場合は、加熱による着色を抑えるため、窒素雰囲気下又は真空状態で行なうのが好ましく、加熱温度１５０〜３００℃、１〜２４時間の熱処理工程を加えるのが好ましい。

有機コート層（ｃ）に用いるアクリレート樹脂を紫外線等の活性エネルギー線により架橋、硬化させるには、樹脂組成物中にラジカルを発生する光重合開始剤を加えるのが好ましい。かかる光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２,６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドが挙げられる。これらの光重合開始剤は２種以上を併用しても良い。

光重合開始剤の複合体組成物中における含有量は、適度に硬化させる量であればよく、２官能以上のアクリレートの合計１００重量部に対し、０.０１〜５重量部が好ましく、
さらに好ましくは、０.０２〜１重量部であり、最も好ましくは、０.１〜０.５重量部で
ある。光重合開始剤の添加量が多すぎると、重合が急激に進行し、着色、硬化時の割れ等の問題が発生する。また、少なすぎると組成物を充分に硬化させることができない恐れがある。

有機コート層（ｃ）に用いるエポキシ樹脂は、硬化剤もしくは重合開始剤存在下、加熱もしくは活性エネルギー線を照射し、硬化して用いる。用いる硬化剤は、優れた透明性の硬化物が得られやすいことから、酸無水物系硬化剤やカチオン系触媒が好ましい。酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチル水添無水ナジック酸、水添無水ナジック酸などがあげられ、なかでも透明性が優れることからメチルヘキサヒドロ無水フタル酸やメチル水添無水ナジック酸が好ましい。

酸無水物系硬化剤を使用する場合は、硬化促進剤を併用することが好ましい。この硬化促進剤としては、１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、トリエチレンジアミン等の三級アミン類、２−エチル−４−メチルイミダゾールや１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のリン化合物、四級アンモニウム塩、有機金属塩類、およびこれらの誘導体等があげられ、これらのなかでも透明性が優れることからリン化合物や１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類が好ましい。これら硬化促進剤は、単独で用いても２種以上を併用して用いても良い。

エポキシ樹脂と酸無水物系硬化剤との配合割合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基１当量に対して、酸無水物系硬化剤における酸無水物基が０．５〜１．５当量に設定することが好ましく、０．７〜１．２当量がより好ましい。
カチオン系触媒としては、酢酸、安息香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、三フッ化ホウ素アミン錯体、三フッ化ホウ素のアンモニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨウドニウム塩、アルミニウム錯体を含有するカチオン系触媒等をあげることができ、これらのなかでもアルミニウム錯体を含有するカチオン系触媒、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨウドニウム塩が好ましい。
用途によっては、光学シートの両面が平滑であることは必ずしも必要ではない。しかし、有機コート層（ｃ）をシート（Ａ）の片面のみ積層した場合、耐薬品性や耐殺傷性の不足といった問題が発生することがあり、その場合は有機コート層（ｃ）をシート（Ａ）の両面に積層する必要がある。

有機コート層（ｃ）をシート（Ａ）上に塗付する方式としては、グラビアコート、キスコート、スピンコート、バーコート、ディップコートなどがあるが、特に方式は限定しない。また、生産性、塗付外観の向上のため、溶剤や界面活性剤を使用しても構わない。

有機コート層（ｃ）とシート（Ａ）との密着性を向上させるため、シランカップリング剤などの公知の表面処理剤で処理しても構わない。処理方法としては、コート塗布面にカップリング剤を処理する方法（直接処理法）、有機コート樹脂中に混合する方法（インテグラルブレンド法）などがあるが、いずれの処理法でも構わない。具体的には、反応性モノマーとして２つ以上の官能基を持つアクリレート樹脂を用いた場合にはアクリルシラン、メルカプトシラン、アミノシランで処理することが好ましい。

また、本発明の有機コート層（ｃ）に用いる樹脂には、必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱性等の特性を損なわない範囲で、少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、他の無機フィラー等の充填剤等を配合してもよい。

本発明の光学シートを、光学用途、すなわち液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル、等として用いる場合は、３０〜１５０℃の平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下であること
が好ましい。特にアクティブマトリックス表示素子基板に用いる場合は、前記平均線膨張係数が３０ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０ｐｐｍ以下である。前記値を越えると、製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じる恐れがあるが、線膨張係数が前記の値以下であると従来のガラス基板を用いた場合の設備を大きく変更せずにＴＦＴ形成工程を実施できる。

本発明のシートを、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル等として用いる場合、基板の厚さは５０〜２０００μｍであることが好ましく、５０〜１０００μｍであるのがより好ましい。基板の厚さがこの範囲内にあれば、平坦性に優れ、ガラス基板と比較して、基板の軽量化を図ることができる。

本発明に用いる透明樹脂(ａ)の例としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマーなどの熱可塑性樹脂、アクリレート、エポキシなどの反応性モノマーを熱及び／または活性エネルギー線で架橋させた樹脂などが挙げられる。熱可塑性樹脂の場合は成形時のリタデーションや、耐薬品性の不足といった問題があるが、アクリレート、エポキシなどの反応性モノマーを熱及び／または活性エネルギー線で架橋させた樹脂はリタデーションが小さく、耐薬品性にも優れる為好ましい。特に脂環式構造を有する反応性モノマーを含む場合は、耐熱性や光線透過率に優れるため、アクティブマトリックスタイプなどの液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子用の表示素子基板、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等により好適に使用される。

また、本発明の光学シートを表示基板用プラスチック基板として用いる場合、波長５５０ｎｍにおける平行光線透過率８０％以上であることが好ましく、さらに好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは８８％以上である。波長５５０ｎｍにおける平行光線透過率が８０％より低いと表示性能が充分でない。

かかる光学シートにおいて、波長５５０ｎｍにおける平行光線透過率を８０％以上にするには、透明樹脂（ａ）とガラス繊維（ｂ）の屈折率を一致させる方法が好ましい。透明樹脂(ａ)とガラス繊維(ｂ)との屈折率差は、優れた透明性を得るため０.０１以下である
必要があり、０.００５以下であるのがより好ましい。かかる屈折率差が０.０１より大きいと得られる複合体組成物の透明性が劣る傾向にある。

本発明の透明複合体組成物に配合するガラス繊維(ｂ)の屈折率は特に限定されるものではないが、組み合わせる樹脂の屈折率の調整が容易なように１.５０〜１.５７の範囲にあるのが好ましい。特にガラス繊維（ｂ）の屈折率が１.５０〜１.５４である場合は、ガラスのアッベ数に近い樹脂が選択でき好ましい。樹脂とガラスとのアッベ数が近いと広い波長領域において両者の屈折率が一致し、広い波長領域で高い光線透過率が得られる。

ガラスの種類としては、Ｅガラス、Ｃガラス、Ａガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、Ｔガラス、クォーツ、低誘導率ガラス、高誘導率ガラスなどがあげられ、中でもアルカリ金属などのイオン性不純物が少なく、入手が容易なＥガラス、Ｓガラス、Ｔガラス、ＮＥガラスが好ましい。

シート（Ａ）におけるガラス繊維の配合量は、１〜９０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。ガラス繊維の配合量がこれより少ないと、複合化による低線膨張化の効果が認められず、一方、これより多いと成形外観が低下する傾向にある。

シート（Ａ）の成形方法には制限がなく、例えば、透明樹脂として反応性モノマーを用
いる場合には、(1)反応性モノマーとガラスクロスとを直接混合し、必要な型に注型した
のち架橋させる方法、(2)反応性モノマーを溶剤に溶解しガラスクロスを分散させキャス
トした後、架橋させる方法、さらに(3)反応性モノマーをガラス繊維布に含浸させたのち
架橋させ、必要に応じてシート化する方法などが挙げられる。

本発明の光学シートを液晶表示用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラーフィルター用基板などに用いる場合は、ガスバリア層（ｅ）として無機酸化物を積層したものが、好ましく使用される。中でも、透明性、水蒸気および酸素に対するバリア性に優れていることから珪素酸化物、ＳｉＯx （x＝１．５〜１．８）がより好ましい。ｘが１．８より大きい
と、得られる無機層の透明性は高くなるが、バリア性は低下する。反対にＳｉＯx のｘが１．５以下であると、バリア性は高くなるものの、珪素酸化物はやや褐色を呈し、透明性が悪くなる。無機層は、慣用の方法、例えば、物理的方法（真空蒸着法、反応性蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、反応性イオンプレーティング法など）、化学的方法（ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法など）により、有機コート層（ｃ）の表面を、前記無機酸化物で被覆することにより形成できる。
ガスバリア層（ｅ）にキズ、クラックの欠陥が生じた場合、ガスバリア性の低下が起こり、性能が十分に発揮されない。よってガスバリア層を保護するために、その外側に耐殺傷性に優れる前記有機コート層（ｃ）を積層するのが好ましい。

ガスバリア層（ｅ）の成膜方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、ゾルゲル法などが挙げられるが、特に限定されるものではない。

本発明の光学シートを液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、タッチパネル基板、太陽電池用基板などに用いる場合は、最外層に導電層（ｄ）を積層したものがより好ましく使用される。本発明の光学シートに設けられる導電層（ｄ）は、従来公知のものであってよい。導電層の素材としては、酸化インジウム、インジウム−スズの合金酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ、フッ素を添加した酸化スズ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化セレン等の少なくとも一種からなる酸化物の単層体または積層体が例示される。これらのうち特に酸化インジウム、ＩＴＯ、フッ素を添加した酸化スズ、酸化亜鉛が好ましい。導電層の厚さは通常１００〜３０００Åが好ましい。導電層の厚さがこれより薄いと導電性が十分ではなく、一方、厚すぎると透明性が損なわれる。透明性と導電性のバランスから、酸化インジウムを主成分とした導電層がより好ましく、最も好ましいのはＩＴＯ（酸化インジウムと酸化スズの混合物）である。また、表示素子用として使用する場合は、導電層（ｄ）を成膜する面の凹凸が１５０ｎｍ以下であることが必要である。１５０ｎｍを超える場合は、セルギャップが不均一になる等の理由で、表示欠陥が生じる恐れがある。

導電層（ｄ）の成膜方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着法などが挙げられるが、特に限定されるものではない。

本発明の光学シートの層構成は特に限定しないが、例としては、(1)有機コート層（ｃ
）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）／有機コート層（ｃ）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／導電層（ｄ）、(2)有機コート層（ｃ）／ガス
バリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）／有機コート層（ｃ）／導電層（ｄ）、(3)有機コート層（ｃ）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）
／有機コート層（ｃ）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）、(4)有機コート層（
ｃ）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）／有機コート層（ｃ）、(5)有機コート層（ｃ）／ガスバリア層（ｅ）／有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）、(6)
有機コート層（ｃ）／シート（Ａ）／有機コート層（ｃ）、(7)有機コート層（ｃ）／シ
ート（Ａ）などである。ガスバリア層（ｅ）の保護、密着性向上のためガスバリア層（ｅ）に隣接する層には、有機コート層（ｃ）を設けることが好ましい。必要なガスバリア性が低度である場合はガスバリア層（ｅ）を省略してもよく、また、高度なバリア性が必要な場合はガスバリア層(ｅ)を多層成膜してもよく、また有機コート層（ｃ）とガスバリア層（ｅ）を交互に成膜してもよい。

以下に本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。

（実施例１）
ＮＥガラス系ガラスクロス(厚さ１００μｍ、屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだし
して有機物を除去した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラ
ン)で処理した。このガラスクロスにトリグリシジルイソシアヌレート(日産化学工業製ＴＥＰＩＣ)４０重量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製リカシッドＭＨ−７００) ５９重量部、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール(１Ｂ２ＰＺ)１重量部を１００℃で溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。樹脂を含浸したこのガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、１００℃にて２時間加熱後、さらに１２０℃にて２時間、１５０℃にて２時間、１７５℃にて２時間、順次加熱し、厚さ０.１ｍ
ｍの透明シートを得た。

このシートにイソシアヌル酸エチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成(株)製Ｍ
−３１５)１００重量部、及び光重合開始剤イルガキュア９０７(チバスペシャリティケミカル製)１重量部、イルガキュア６５１(チバスペシャリティケミカル製)０．５重量部と
からなる有機コート用樹脂組成物を８０℃に加熱溶解した後、バーコーターで厚み約５μmに塗布し、約３００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶ光を照射して硬化させた。シート反対面にも同
様に塗布、ＵＶ光を照射し、さらに真空オーブン中、約２００℃にて１時間加熱し、有機コート層を形成した。

（実施例２）
実施例１と同様にして作成したプラスチックシート(厚さ約０.１ｍｍ)にイソシアヌル
酸エチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成(株)製Ｍ−３１５)１００重量部、及び光重合開始剤イルガキュア９０７(チバスペシャリティケミカル製)１重量部、イルガキュア６５１(チバスペシャリティケミカル製)０．５重量部とからなる有機コート用樹脂組成物を８０℃で加熱溶解した後、バーコーターで厚み約５μmに塗布し、約３００ｍＪ／ｃ
ｍ^２のＵＶ光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約２００℃にて１時間加熱し、有機コート層を形成した。
続いて、この光学シートの一方の面に、スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０^−３Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０４Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０４Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。さらに酸化珪素膜上に、保護層として有機コート層を同様な方法で厚み約５μｍに塗布した。続いて、透明導電層として、酸化珪素膜を成膜したのとは反対面に、ＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０^-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０^-1Ｐａの条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉｎ＋Ｓｎ)の原子比が０．９８である酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×１０^-4Ω−ｃｍであった。

（実施例３）
１００μｍのＮＥガラス系ガラスクロス（日東紡製＃２１１６タイプ、屈折率１．５１０）を焼きだしして有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン（アクリルシラン）で処理した。このガラスクロスに、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、架橋後の屈折率１．４９３）８０重量部、ジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合成(株)製 Ｍ−２０３、架橋後の屈折率１．５２７）３重量部、ビス［４−（アクリロイロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（東亞合成（株）試作品
ＴＯ−２０６５）１７重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）０．５重量部とからなる樹脂（架橋後の屈折率１．５１０）を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面からトータルで約２０００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ光を照射して架橋させた。さらに真空オーブン中、１００℃で２時間、さらに２
５０℃で３時間熱処理し、０．１ｍｍの透明シートを得た。
このシートに実施例２と同様に有機コート層、酸化珪素膜、透明導電層を成膜した。

（実施例４）
実施例１と同様にして作成したプラスチックシート(厚さ約０.１ｍｍ)に化学式（３）
で示される脂環式エポキシ樹脂（商品名セロキサイド２０２１、ダイセル化学（株）製）１００重量部、及びカチオン系光重合開始剤ＣＰ１７０(旭電化工業製)３重量部とからなる有機コート用樹脂組成物をバーコーターで厚み約５μmに塗布し、約３００ｍＪ／ｃｍ
^２のＵＶ光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約２００℃にて１時間加熱し、有機コート層を形成した。更に実施例２と同様に酸化珪素膜、透明導電層を製膜した。

（実施例５）
実施例１と同様にして作成したプラスチックシート(厚さ約０.１ｍｍ)の片方の面に化
学式（４）で示される脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学（株）製Ｅ−ＢＰ）１００重量部、及びカチオン系光重合開始剤ＣＰ１７０(旭電化工業製)３重量部とからなる有機コート用樹脂組成物をバーコーターで厚み約５μmに塗布し、約３００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶ光
を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約２００℃にて１時間加熱し、有機コート層を形成した。更に実施例２と同様に酸化珪素膜、透明導電層を製膜した。

（実施例６）
実施例１と同様にして作成したプラスチックシート(厚さ約０.１ｍｍ)に化学式（５）
のＸが−(ＣＨ₃)₂−で示される脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学（株）製Ｅ−ＤＯＡ）１００重量部、及びカチオン系光重合開始剤ＣＰ１７０(旭電化工業製)３重量部とからなる有機コート用樹脂組成物をバーコーターで厚み約５μmに塗布し、約３００ｍＪ／ｃｍ
^２のＵＶ光を照射して硬化させた。さらに真空オーブン中、約２００℃にて１時間加熱し、有機コート層を形成した。更に実施例２と同様に酸化珪素膜、透明導電層を製膜した。

（比較例１）
実施例１と同様にして厚さ０．１ｍｍのプラスチックシートを作成し、有機コート層（ｃ）の形成は行なわなかった。

(評価方法)
前記の実施例にて作製したシート状のプラスチック基板(光学シート)について、下記の評価方法により各種の特性を測定した。

ａ)平均線膨張係数
セイコー電子(株)製ＴＭＡ／ＳＳ１２０Ｃ型熱応力歪測定装置を用いて、窒素の雰囲気下、１分間に５℃の割合で温度を３０℃から２５０℃まで上昇させた後、一旦０℃まで冷
却し、再び１分間に５℃の割合で温度を上昇させて３０℃〜１５０℃の時の値を測定して求めた。

測定は、独自に設計した石英引張チャック(材質：石英，線膨張係数０.５ｐｐｍ)を用
いた。一般に使われているインコネル製のチャックは、それ自体の線膨張が高いことやサンプルの支持形態に不具合があり、１００μｍを超える厚いシートに適用すると線膨張係数が圧縮モードで測定した結果よりも大きめに出たり、測定ばらつきが大きくなる問題があった。したがって、石英引張チャックを独自に設計し、それを用いて線膨張係数を測定することにした。この引張チャックを用いることにより、圧縮モードで測定した場合とほぼ同様の値で測定できることを確認している。
ｂ)表面凹凸
表面構造解析顕微鏡New View 5032(Zygo Corporation製)により視野：1.44mm×1.08mmで
観察を行い、隣り合った繊維布目の最高点と最低点との高さを測定した。測定結果は、実施例２〜６は酸化インジウム錫を成膜した方の面の数値とし、実施例１、比較例１は、両面の測定を行い、小さい方の数値とした。

ｃ)平行光線透過率
分光光度計Ｕ３２００(日立製作所製)で５５０ｎｍの平行光線透過率を測定した。
これら評価方法により、前記実施例、比較例にて得られた試料を評価した結果を次の表１に示す。

Claims (16)

1. 透明樹脂（ａ）及びガラス繊維（ｂ）からなるシート（Ａ）の少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シート。
2. 前記シート（Ａ）の少なくとも片面に、１層以上の厚み１〜３０μｍ有機コート層（ｃ）を積層した請求項１の光学シート。
3. 有機コート層（ｃ）に用いる樹脂のガラス転移温度が１５０℃以上である請求項２の光学シート。
4. 有機コート層（ｃ）が、２官能以上のアクリレート樹脂を構成成分として含む架橋樹脂である請求項３の光学シート。
5. ２官能以上のアクリレート樹脂がイソシアヌレート構造を有するアクリレート、環状エーテル構造を有するアクリレート、脂環式構造を有するアクリレートから選ばれた１種以上である請求項４の光学シート。
6. イソシアヌレート構造を有するアクリレートが下式（１）を含む請求項５の光学シート
   
7. 環状エーテル構造を有するアクリレートが下式（２）を含む請求項５の光学シート
   
8. 有機コート層（ｃ）が、２官能以上のエポキシ樹脂を構成成分として含む硬化樹脂である請求項３の光学シート。
9. ２官能以上のエポキシ樹脂がトリグリシジルイソシアヌレートまたは脂環式構造を有するエポキシから選ばれた１種以上である請求項８の光学シート。
10. ２官能以上のエポキシ樹脂が下記化学式（３）〜（５）で示される脂環式エポキシ樹脂から選ばれた１種以上である請求項８記載の光学シート。
    
11. ３０〜１５０℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である請求項１〜１０いずれかの光学シート。
12. 厚みが５０〜２０００μｍである請求項１〜１１いずれかの光学シート。
13. 波長５５０ｎｍの平行光線透過率が８０％以上である請求項１〜１２いずれかの光学シート。
14. ガスバリア層（ｅ）として、無機酸化物を積層した請求項１〜１３いずれかの光学シート。
15. 最外層に酸化インジウムを主成分とした導電層（ｄ）を設けた請求項１〜１４いずれかの光学シート。
16. 光学シートが、表示素子用プラスチック基板、またはアクティブマトリックス表示基板である請求項１〜１５いずれかの光学シート。