JP2004306248A

JP2004306248A - テクスチャ加工用潤滑液組成物

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Publication number: JP2004306248A
Application number: JP2004059030A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Tomota; 英幸友田; Hiroaki Otsubo; 宏誠大坪
Original assignee: Neos Co Ltd
Current assignee: Neos Co Ltd
Priority date: 2003-03-25
Filing date: 2004-03-03
Publication date: 2004-11-04
Anticipated expiration: 2024-03-03
Also published as: JP4675049B2

Abstract

【課題】アルミ磁気ディスクまたはガラス磁気ディスクのテクスチャ加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上、スクラッチ及びバリの低減等に有効な加工特性に優れたテクスチャ加工液を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含み、必要に応じて下記成分（Ｄ）及び（Ｅ）を含むテクスチャ加工用潤滑液組成物並びに当該テクスチャ加工用潤滑液組成物及び研磨砥粒を含むテクスチャ加工液に係る：
（Ａ）フェニル基を含有しないりん系界面活性剤
（Ｂ）グリコール系溶剤
（Ｃ）水
（Ｄ）炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸
（Ｅ）アルカノールアミン。
【選択図】なし

Description

本発明は、アルミ磁気ディスクまたはガラス磁気ディスクのテクスチャ加工用潤滑液組成物及びそれを用いたテクスチャ加工液に関する。より詳細には、アルミ磁気ディスクまたはガラス磁気ディスクのテクスチャ加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上、スクラッチ及びバリの低減等に有効な加工特性に優れたテクスチャ加工液並びに当該テクスチャ加工液を調製するためのテクスチャ加工用潤滑液組成物に関する。

ハードディスク及び磁気ヘッドからなるハードディスクドライブでは、ハードディスクは極めて高速で回転し、磁気ヘッドはその上で情報の記録及び読み取りを行っている。近年では、ハードディスク記憶容量の飛躍的な増大により、ハードディスクと磁気ヘッドとの間隔は０．１μｍ程度と極めて小さくなっている。

ハードディスクが完全な鏡面の場合には、ハードディスクと磁気ヘッドとが吸着して、ハードディスクドライブに異常をきたす。そのため、ハードディスク製造工程では、Ｎｉ−Ｐ等で被覆された鏡面アルミディスクまたはガラスディスク表面に、または鏡面ガラスディスク表面に直接に、微細かつ均一な条痕を形成するテクスチャ加工を行う。最近では、ハードディスクと磁気ヘッドとの間隔の狭小化に伴って、テクスチャ加工仕上面の精度として、より精密さが要求されている。

当該テクスチャ加工は、例えば、Ｎｉ−Ｐ等で被覆された鏡面アルミディスクまたはガラスディスク、鏡面ガラスディスクを回転させ、研磨砥粒スラリーを滴下しながら研磨テープ（例えば、ポリエステル、ナイロン等の超極細繊維を用いた織物テープ、不織布テープ等）を押し付けることにより行われる。これによりアルミディスクまたはガラスディスク表面に微細かつ均一な条痕が形成される。このときに使用する研磨砥粒スラリーが所謂テクスチャ加工液である。具体的には、テクスチャ加工液は、研磨砥粒を１質量％以下の割合で含むスラリーである。またテクスチャ加工液から研磨砥粒を除いた潤滑液が所謂テクスチャ加工用潤滑液である。

テクスチャ加工では、研磨砥粒として、例えば、ダイヤモンド、アルミナ等が使用されている。最近では、平均粒子径１μｍ以下、場合によっては０．１μｍ以下の微細研磨砥粒も使用されている。このような微細研磨砥粒は凝集し易い傾向がある。これに関連して、例えば、特許文献１には、テクスチャ加工液の加工レート、仕上げ面精度等の研磨特性を向上させるために、研磨砥粒の分散性が極めて優れたテクスチャ加工用潤滑液を含むテクスチャ加工液が開示されている。具体的には、特許文献１には、炭素原子数１０〜６０のジカルボン酸及び該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物質を含有するテクスチャ加工液調製用組成物が開示されている。

しかしながら、研磨砥粒の粒度が０．１μｍ程度の領域では、研磨砥粒の分散性のみを追求すると、テープ表面の繊維の隙間等がポケットのようになり、微細研磨砥粒がポケットに捕えられる。その場合には、むしろ条痕形成に必要な砥粒数が不足し、加工特性を悪化させるおそれがある。特許文献１に記載のテクスチャ加工液では、例えば、加工レートと仕上げ面粗さとの関係において一方のみが優れる場合には、スクラッチ、バリ等が発生するおそれがある。

他のテクスチャ加工液又はテクスチャ加工用潤滑液組成物としては、例えば、特許文献２には、スルホン酸塩、カルボン酸塩又は硫酸エステル塩で表される界面活性剤及びアルカノールアミンを含有してなるＮｉ系メッキ基板テクスチャ加工用水溶性油剤組成物が開示されている。また特許文献３には、界面活性剤としてグリコール系化合物を約１〜２５重量％含有した水溶液、及び０．００１〜３重量％の平均粒径１〜２０ｎｍの多結晶ダイヤモンド粒子からなる平均粒径０．０１〜２μｍの凝集多結晶ダイヤモンド粒子から成る磁気ディスク基板用テクスチャ加工液が開示されている。
特開２０００−２８２０１２号公報特開平８−２４９６５３号公報特開２００２−３０２７５号公報

本発明は、アルミ磁気ディスクまたはガラス磁気ディスクのテクスチャ加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上、スクラッチ及びバリの低減等に有効な加工特性に優れたテクスチャ加工液を提供することを主な目的とする。

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のテクスチャ加工用潤滑液組成物及び研磨砥粒を含む加工液が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、下記のテクスチャ加工用潤滑液組成物及びそれを用いたテクスチャ加工液に係る。
１．鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜アルミディスク、鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜ガラスディスクおよび鏡面ガラスディスクをテクスチャ加工するための、下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含むテクスチャ加工用潤滑液組成物：
（Ａ）フェニル基を含有しないりん系界面活性剤
（Ｂ）グリコール系溶剤
（Ｃ）水。
２．更に下記成分（Ｄ）及び（Ｅ）を含む上記項１に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物：
（Ｄ）炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸
（Ｅ）アルカノールアミン。
３．（Ａ）を０．１〜２０質量％含み、（Ｂ）を１〜９９質量％含み、残部が（Ｃ）からなる上記項１に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物。
４．（Ａ）を０．１〜１０質量％含み、（Ｂ）を１〜９９質量％含み、（Ｄ）を０．１〜１０質量％含み、（Ｅ）を０．５〜３０質量％含み、残部が（Ｃ）からなる上記項２に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物。
５．上記項１又は３に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物及び研磨砥粒を含むテクスチャ加工液。
６．上記項２又は４に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物及びダイヤモンド研磨砥粒を含むテクスチャ加工液。

本発明のテクスチャ加工用潤滑液組成物（以下「潤滑液組成物」とも言う）は、下記成分を含む：
（Ａ）フェニル基を含有しないりん系界面活性剤
（Ｂ）グリコール系溶剤
（Ｃ）水。

（Ａ）フェニル基を含有しないりん系界面活性剤としては、りん系界面活性剤であってフェニル基を含まないものであれば特に限定されないが、例えば、アルキル燐酸及びポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これらは金属塩又はアミン塩の状態でもよい。

具体的には、例えば、ラウリルリン酸、ラウリルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレン（５）セチルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレン（８）オレイルエーテルリン酸ナトリウム、オレイルリン酸ナトリウム、ジポリオキシエチレン（８）アルキルエーテルリン酸ナトリウム、ジポリオキシエチレン（８）アルキルエーテルリン酸のトリエタノールアミン塩、ジポリオキシエチレン（１０）アルキルリン酸、ジポリオキシエチレン（１０）アルキルエーテルリン酸ナトリウム、ジポリオキシエチレン（１０）アルキルエーテルリン酸のトリエタノールアミン塩、トリポリオキシエチレン（８）アルキルエーテルリン酸ナトリウム、トリポリオキシエチレン（８）アルキルエーテルリン酸のトリエタノールアミン塩、トリポリオキシエチレン（１０）アルキルリン酸、トリポリオキシエチレン（１０）アルキルエーテルリン酸、トリポリオキシエチレン（１０）アルキルエーテルリン酸ナトリウム、トリポリオキシエチレン（１０）アルキルエーテルリン酸のトリエタノールアミン塩等が挙げられる。これらのフェニル基を含有しないりん系界面活性剤は、単独又は２種以上を混合して使用できる。

りん系界面活性剤の中には、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナトリウムのように、環境ホルモンとして問題となっているアルキルフェニルエーテル基を含むものがあるが、本発明におけるりん系界面活性剤はフェニル基を含有しないため、このような基を含まない点から好ましい。

（Ｂ）グリコール系溶剤としては特に限定されない。例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチルカルビトール、ヘキシレングリコール、ブタンジオール、ブチルジグリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。これらのグリコール系溶剤は、単独又は２種以上を混合して使用できる。

上記の中でも、特にエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチルカルビトール、ヘキシレングリコール、ブタンジオール及びグリセリンから選ばれる少なくとも１種が好ましい。

（Ｃ）水としては、純水又は蒸留水が使用できる。

潤滑液組成物における成分（Ａ）〜（Ｃ）の含有量は特に限定されないが、フェニル基を含有しないりん系界面活性剤（Ａ）の含有量としては０．１〜２０質量％が好ましく、０．３〜１５質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。成分（Ａ）の含有量が上記範囲であれば、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面に十分に吸着する量であり、テクスチャ加工時に十分な潤滑性・加工性が得られる。また潤滑液組成物の安定性も良好となる。

グリコール系溶剤（Ｂ）の含有量としては１〜９９質量％が好ましく、５〜９５質量％がより好ましく、１０〜９０質量％が最も好ましい。成分（Ｂ）の含有量が上記範囲であれば、潤滑液組成物の安定性が良好となり、かつ十分な洗浄性も発揮する。

水（Ｃ）の含有量は、残部である。

上記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む本発明の潤滑液組成物は、ダイヤモンド、アルミナ等に代表される公知の研磨砥粒を懸濁させてテクスチャ加工液として使用できる。テクスチャ加工液を調製する際には、潤滑液組成物はそのまま用いてもよく、水で希釈して用いてもよい。希釈水としては純水又は蒸留水が使用できる。希釈倍率は１〜１００倍程度であるが、希釈倍率はテクスチャ加工条件にも影響するため、１〜１００倍の範囲で加工特性が最も優れるように設定すればよい。

研磨砥粒の粒子径は特に限定的ではないが、平均粒子径は通常０．０１〜１μｍ程度である。テクスチャ加工液中の研磨砥粒の含有量は特に限定されないが、通常１質量％以下、好ましくは０．００１〜０．５質量％である。

かかる大きさの研磨砥粒は、粒子径が小さいために、一般に凝集し易い傾向にある。しかし本発明のテクスチャ加工液では、研磨砥粒は分散しつつも一部凝集して存在する。研磨砥粒の凝集の程度としては、二次凝集研磨粒子径が研磨粒子（一次粒子）の１００倍以下、好ましくは２〜１０倍程度である。

研磨砥粒が分散しつつも一部凝集しているため、テクスチャ加工時には０．０１〜１μｍ程度の微細な研磨砥粒を用いても、研磨粒子が研磨テープ表面の繊維の隙間（ポケット）等に捕えられず、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面の条痕形成に必要な砥粒数を十分に確保できる。また砥粒どうしの凝集力自体は弱いため、研磨テープを加工面に押し付けることにより容易に分散してスクラッチ等の発生の原因とならない。但し、上記凝集の程度が１００倍を超える場合には、スクラッチ、バリ等が発生するおそれがある。

潤滑液組成物と組み合わせる研磨砥粒がダイヤモンド研磨砥粒である場合には、成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む潤滑液組成物に、更に下記成分（Ｄ）及び（Ｅ）を配合することにより、テクスチャ加工特性をより高めることができる：
（Ｄ）炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸
（Ｅ）アルカノールアミン。

（Ｄ）炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸としては特に限定されない。炭素数１６〜４０のカルボン酸としては、炭素数１６〜４０の脂肪酸が好ましい。かかる脂肪酸としては、例えば、オレイン酸、リノール酸、ステアリン酸、１２ヒドロキシステアリン酸、エイコ酸、ベヘニン酸、エルカ酸、ダイマー酸、リシノール酸等が挙げられる。リシノール酸二量体も使用できる。これらは単独又は２種以上を混合して使用できる。
また、炭素数１６〜４０のジカルボン酸としては、例えば、ヒドロキシ脂肪酸と二塩基酸の半エステル化物（例えば、リシノール酸とセバシン酸の１：１反応物）、シクロヘキサノンをフェントン試薬により開環二量化する方法により得られるジカルボン酸、共役不飽和脂肪酸と二重結合含有脂肪酸とから誘導されるジカルボン酸（例えば、リノール酸とアクリル酸の反応物）等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を混合して使用できる。

（Ｅ）アルカノールアミンとしては特に限定されない。例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチルモノエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ノルマルブタノールアミン、イソブタノールアミン、ｔｅｒｔ−ブタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を混合して使用できる。

潤滑液組成物における成分（Ａ）〜（Ｅ）の含有量は特に限定されないが、フェニル基を含有しないりん系界面活性剤（Ａ）の含有量としては０．１〜１０質量％が好ましく、０．２〜５質量％がより好ましい。成分（Ａ）の含有量を上記範囲とすれば、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面に十分に吸着する量であり、テクスチャ加工時に十分な潤滑性・加工性が得られる。また潤滑液組成物の安定性も良好となる。

グリコール系溶剤（Ｂ）の含有量としては１〜９９質量％が好ましく、１０〜９０質量％がより好ましい。成分（Ｂ）の含有量を上記範囲とすれば、潤滑液組成物の安定性が良好となり、かつ十分な洗浄性を発揮できる。

炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸（Ｄ）の含有量としては０．１〜１０質量％が好ましく、０．２〜５質量％がより好ましい。成分（Ｄ）の含有量を上記範囲とすれば、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面に十分に吸着する量であり、テクスチャ加工時に十分な潤滑性・加工性が得られる。また潤滑液組成物の安定性が良好となり、かつ十分な洗浄性が発揮される。

アルカノールアミン（Ｅ）の含有量としては０．５〜３０質量％が好ましく、２〜２０質量％がより好ましい。成分（Ｅ）の含有量を上記範囲とすれば、りん系界面活性剤（Ａ）並びに炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸（Ｄ）を十分に中和して水溶性とできる。また当該含有量であれば、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスクを腐食するおそれもない。

水（Ｃ）の含有量は、残部である。

各成分の含有量の好適な範囲については上記の通りであるが、特に成分（Ａ）と成分（Ｄ）と成分（Ｅ）との含有量の関係は、次のようであることが好ましい。即ち、［成分（Ａ）のモル濃度＋成分（Ｄ）のモル濃度］：成分（Ｅ）のモル濃度＝（１：１．２）〜（１：３０）が好ましく、（１：１．５）〜（１：１０）がより好ましい。かかる範囲とすれば、テクスチャ加工特性をより向上できる。

このような成分（Ａ）〜（Ｅ）を含む潤滑液組成物は、研磨砥粒としてダイヤモンド研磨砥粒を用いた場合に、ダイヤモンド粒子を分散しつつ一部凝集する効果が非常に高い。ダイヤモンド研磨砥粒の大きさとしては、平均粒子径０．０１〜１μｍ程度が好ましい。テクスチャ加工液中のダイヤモンド研磨砥粒の含有量は特に限定されないが、通常１質量％以下、好ましくは０．００１〜０．５質量％である。

テクスチャ加工液中では、ダイヤモンド研磨粒子は分散しつつも一部凝集しているため、テクスチャ加工時には、０．０１〜１μｍ程度の微細な研磨砥粒を用いても研磨粒子が研磨テープ表面の繊維の隙間（ポケット）等に捕えられず、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面の条痕形成に必要な砥粒数を十分に確保できる。また砥粒どうしの凝集力自体は弱いため、研磨テープを加工面に押し付けることにより容易に分散してスクラッチ、バリ等の発生の原因ともならない。但し、凝集の程度が１００倍を超える場合には、スクラッチ等が発生するおそれがある。

なお、本発明の潤滑液組成物には、必要に応じて、成分（Ａ）以外の界面活性剤、水酸化アルカリ、無機酸、防腐剤、防かび剤等の添加剤を配合してもよい。添加剤の配合量は特に限定されず、常法に従って適宜調整すればよい。

成分（Ａ）以外の界面活性剤としては、例えば、脂肪酸アミン石鹸、アルキルスルホンアミドカルボン酸塩等のアニオン系界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸アルキロールアミド等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。

水酸化アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。

無機酸としては、例えば、リン酸、ホウ酸、硝酸等が挙げられる。

防腐剤及び防カビ剤としては、例えば、トリアジン系、イソチアゾリン系又はフェノール系化合物が挙げられる。具体的には、トリアジン系としては、ヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。イソチアゾリン系としては、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−メチル−イソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。フェノール系としては、オルトフェニルフェノール、２，３，４，６−テトラクロロフェノール等が挙げられる。

本発明テクスチャ加工液は、鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜アルミディスク、鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜ガラスディスクおよび鏡面ガラスディスクのテクスチャ加工に限定する加工液であって、通常の鉄やアルミ材料の水溶性切削加工、水溶性研削加工、水溶性研磨加工液とは、区別するものである。通常の加工においては、循環使用が一般的であり、防腐、消泡、防錆などの二次性能において要求が大きく異なる。また、本発明テクスチャ加工液には、極微細ダイヤモンドやアルミナなどの遊離砥粒を用いて、該基板表面に規則性を持った凹凸の面を創生させることを特徴とするため、一次性能においても要求が大きく異なる。

本発明のテクスチャ加工液では、研磨粒子は分散しつつも一部凝集しているため、テクスチャ加工時には、０．０１〜１μｍ程度の微細な研磨砥粒を用いても研磨粒子が研磨テープ表面の繊維の隙間（ポケット）等に捕えられず、鏡面アルミディスクまたは鏡面ガラスディスクのＮｉ−Ｐ被膜表面または鏡面ガラスディスク表面の条痕形成に必要な砥粒数を十分に確保できる。また砥粒どうしの凝集力自体は弱いため、研磨テープを加工面に押し付けることにより容易に分散してスクラッチ、バリ等の発生の原因とはならない。また加工レート及び仕上げ面粗さの向上、うねりの低減及び高い洗浄性等の効果も得られる。

以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されるものではない。

実施例１〜３及び比較例１〜２
下記表１に示す成分（数値は重量％）を配合してテクスチャ加工用潤滑液組成物を調製した。水は純水を用いた。実施例１〜３で調製した潤滑液組成物は、成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む潤滑液組成物である。

テクスチャ加工液は、上記潤滑液組成物２０ｇを純水１８０ｇで希釈後、市販のアルミナ（平均粒子径０．５μｍ）を２ｇ添加することにより調製した。

実施例１〜３及び比較例１〜２で得られたテクスチャ加工液を用いて、テクスチャ加工試験を行った。その結果、実施例１〜３で得られたテクスチャ加工液を用いた場合には、Ｎｉ−Ｐで被覆されたアルミディスク、Ｎｉ−Ｐで被覆されたガラスディスク及びガラスディスクの仕上げ面粗さ、加工レート及び洗浄性は良好であり、うねり、バリ及びスクラッチは確認されなかった。一方、比較例１〜２で得られたテクスチャ加工液を用いた場合には、アルミナが分散状態であるため、テクスチャ加工時にテープ表面の繊維の隙間に容易に捕えられた。比較例１〜２では加工レートが低く、実施例１〜３のものと比較して加工特性は劣っていた。

実施例４〜９及び比較例３〜６
下記表２及び表３に示す成分（数値は重量％）を配合してテクスチャ加工用潤滑液組成物を調製した。水は純水を用いた。実施例４〜９で調製した潤滑液組成物は、成分（Ａ）〜（Ｅ）を含む潤滑液組成物である。

テクスチャ加工液は、上記潤滑液組成物とダイヤモンドスラリー（商品名「Hyprez」ENGIS社製、1/10-STD-PC-4889、平均粒子径0.05μｍ）とを１：１（重量比）で混合して調製した。

実施例４〜９及び比較例３〜６で得られたテクスチャ加工液を用いて、テクスチャ加工試験を行った。その結果、実施例４〜９で得られたテクスチャ加工液を用いた場合には、Ｎｉ−Ｐで被覆されたアルミディスク、Ｎｉ−Ｐで被覆されたガラスディスク及びガラスディスクの仕上げ面粗さ、加工レート及び洗浄性は良好であり、うねり、バリ及びスクラッチは確認されなかった。一方、比較例３〜６で得られたテクスチャ加工液を用いた場合には、バリ、スクラッチ等の発生は低減できたが、仕上げ面粗さ、加工レート等の向上は不十分であり、実施例４〜９のものと比較して加工特性は劣っていた。

Claims

鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜アルミディスク、鏡面Ｎｉ−Ｐ被膜ガラスディスクおよび鏡面ガラスディスクをテクスチャ加工するための、下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含むテクスチャ加工用潤滑液組成物：
（Ａ）フェニル基を含有しないりん系界面活性剤
（Ｂ）グリコール系溶剤
（Ｃ）水。
更に下記成分（Ｄ）及び（Ｅ）を含む請求項１に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物：
（Ｄ）炭素数１６〜４０のカルボン酸及び／又はジカルボン酸
（Ｅ）アルカノールアミン。
（Ａ）を０．１〜２０質量％含み、（Ｂ）を１〜９９質量％含み、残部が（Ｃ）からなる請求項１に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物。
（Ａ）を０．１〜１０質量％含み、（Ｂ）を１〜９９質量％含み、（Ｄ）を０．１〜１０質量％含み、（Ｅ）を０．５〜３０質量％含み、残部が（Ｃ）からなる請求項２に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物。
請求項１又は３に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物及び研磨砥粒を含むテクスチャ加工液。
請求項２又は４に記載のテクスチャ加工用潤滑液組成物及びダイヤモンド研磨砥粒を含むテクスチャ加工液。